公开(公告)号：CN114311092B

公开(公告)日：2023-10-03

申请号：CN202111138908.5

申请日：2021-09-27

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宫川正好 ,  足立裕尚

IPC: B26D5/00 ,  B41J3/44

Abstract: 本发明提供后处理装置及液体喷出装置。在对被喷出了液体的介质进行穿孔的情况下，降低穿孔屑残留的穿孔不良。后处理装置具备：承载台(9)，承载被喷出了液体(3)的介质(P)；穿孔部件(11)，通过对承载于承载台(9)的介质赋予剪切力来进行穿孔；冲模孔(13)，设置于承载台(9)；穿孔部件移动部(15)，使穿孔部件(11)在比冲模孔(13)靠向上方的待机位置和进入到冲模孔(13)的穿孔位置之间移动；以及控制部(17)，控制穿孔部件移动部(15)的动作，控制部在穿孔部件从所述待机位置开始移动并经过所述穿孔位置而移动到所述待机位置的穿孔动作时得到穿孔不良信息的情况下，控制穿孔部件移动部，以对介质赋予再次的剪切力。

公开(公告)号：CN115373611A

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN202210528856.0

申请日：2022-05-16

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 足立裕尚 ,  小口武 ,  小菅启之

IPC: G06F3/12 ,  G06F11/34

Abstract: 本申请涉及记录装置及记录装置附近的密集度计算方法，可以在去记录装置取记录后的介质时减少与人接触或接近的频率。记录装置(11)具备：接收部(31)，接收从用户发送来的记录数据；记录部(20)，根据记录数据在介质上进行记录；保存部(33)，在进行记录之前暂时保存记录数据；以及排出托盘(17)，供进行记录后的介质排出。记录装置(11)具有控制记录装置(11)的控制部(30)，在将表示被预测为聚集在记录装置(11)附近的人数的值的大小的指标设为记录装置(11)附近的密集度的情况下，控制部(30)根据与保存于保存部(33)的记录数据相关的信息计算密集度，并使密集度成为能够参照的状态。

公开(公告)号：CN114311092A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202111138908.5

申请日：2021-09-27

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宫川正好 ,  足立裕尚

IPC: B26D5/00 ,  B41J3/44

Abstract: 本发明提供后处理装置及液体喷出装置。在对被喷出了液体的介质进行穿孔的情况下，降低穿孔屑残留的穿孔不良。后处理装置具备：承载台(9)，承载被喷出了液体(3)的介质(P)；穿孔部件(11)，通过对承载于承载台(9)的介质赋予剪切力来进行穿孔；冲模孔(13)，设置于承载台(9)；穿孔部件移动部(15)，使穿孔部件(11)在比冲模孔(13)靠向上方的待机位置和进入到冲模孔(13)的穿孔位置之间移动；以及控制部(17)，控制穿孔部件移动部(15)的动作，控制部在穿孔部件从所述待机位置开始移动并经过所述穿孔位置而移动到所述待机位置的穿孔动作时得到穿孔不良信息的情况下，控制穿孔部件移动部，以对介质赋予再次的剪切力。

公开(公告)号：CN107618924B

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201710555619.2

申请日：2017-07-10

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 儿玉秀俊 ,  原田裕太朗 ,  足立裕尚

IPC: B65H29/52 ,  B65H31/00 ,  B41J2/01

Abstract: 本发明提供后处理装置及记录装置，能够更适当地抑制被记录的记录介质的变形而进行处理。后处理装置具备：后处理部，进行被记录的记录介质的后处理；变形抑制单元，抑制在输送所述记录介质的输送路径、或载置记录介质的载置部中的记录介质的变形，变形抑制单元基于与对于记录介质的记录处理相关的预定的参数而被控制。

公开(公告)号：CN107618925A

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201710550764.1

申请日：2017-07-07

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 儿玉秀俊 ,  足立裕尚 ,  原田裕太朗

IPC: B65H31/10

Abstract: 本发明提供一种后处理装置和印刷系统，后处理装置抑制载置部的介质的变形，并能够顺畅地进行后处理。后处理装置包括：载置部，临时载置介质；后处理部，对处于载置于所述载置部状态的所述介质执行后处理；排纸盘，装载被排出的所述介质；以及抑制部，抑制处于载置于所述载置部状态的所述介质变形。

公开(公告)号：CN107618923A

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201710545328.5

申请日：2017-07-05

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 儿玉秀俊 ,  大桥一顺 ,  足立裕尚 ,  室町明伸

IPC: B65H29/52 ,  B41J2/01

CPC classification number: B65H29/125 ,  B65H2301/33312

Abstract: 本发明涉及中间单元、后处理装置以及印刷装置，用于抑制介质斜行的不良影响。本发明其特征在于，从中间单元向后处理单元送出适当矫正了斜行的介质，从而抑制后处理单元中的介质斜行的不良影响。

公开(公告)号：CN1935523A

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：CN200610138943.6

申请日：2006-09-20

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 西伸幸 ,  河端圣司 ,  桥井一博 ,  原田和政 ,  福枡惠一郎 ,  足立裕尚

IPC: B41J11/02 ,  B41J2/185

CPC classification number: B41J11/06

Abstract: 一个板形主体，具有第一表面和第二表面，其中，所述第一表面形成有由底表面和侧壁限定的凹陷部分，所述第二表面与所述第一表面相对。所述板形主体形成有连接所述底表面与所述第二表面的通孔。悬伸部分被设置于在所述第一表面附近的所述侧壁中的至少一个上，且所述悬伸部分的位置被设置成使其至少部分地悬于所述通孔之上。

公开(公告)号：CN117141134A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202310620988.0

申请日：2023-05-29

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 小池良和 ,  五十川贵将 ,  小室新太郎 ,  足立裕尚 ,  宫泽正树

IPC: B41J29/17 ,  B41J29/393 ,  B41J13/08

Abstract: 本发明涉及记录装置及控制方法，记录装置根据事件的发生选择清洁控制。因此，并不限于执行与输送带的污损状况对应的输送带的清洁。本发明提供记录装置，所述记录装置对被记录介质进行记录，具备：记录单元，通过向所述被记录介质喷出油墨来进行所述记录；介质输送带，输送由所述记录单元进行所述记录的所述被记录介质；清洁单元，能够移动到与所述介质输送带接触的接触位置、以及不与所述介质输送带接触的非接触位置，在位于所述接触位置时，对所述介质输送带执行清洁动作；判别部，判别所述介质输送带的表面状态；以及控制部，使所述清洁单元执行与由所述判别部判别的所述介质输送带的所述表面状态相应的所述清洁动作。

公开(公告)号：CN107618925B

公开(公告)日：2020-01-07

申请号：CN201710550764.1

申请日：2017-07-07

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 儿玉秀俊 ,  足立裕尚 ,  原田裕太朗

IPC: B65H31/10

Abstract: 本发明提供一种后处理装置和印刷系统，后处理装置抑制载置部的介质的变形，并能够顺畅地进行后处理。后处理装置包括：载置部，临时载置介质；后处理部，对处于载置于所述载置部状态的所述介质执行后处理；排纸盘，装载被排出的所述介质；以及抑制部，抑制处于载置于所述载置部状态的所述介质变形。

公开(公告)号：CN107265166B

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201710119316.6

申请日：2017-03-02

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 濑川裕一 ,  足立裕尚

IPC: B65H29/00

Abstract: 本发明提供记录系统。记录系统(1000)具有：第一连结部(700)，其规定壳体(500)相对于壳体(400)的位置，将壳体(400)与壳体(500)连结；以及第二连结部(800)，其规定壳体(600)相对于壳体(500)的位置，并且将从壳体(600)受到的载荷施加给壳体(500)，将壳体(500)与壳体(600)连结。