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公开(公告)号:CN1214283C
公开(公告)日:2005-08-10
申请号:CN03108285.8
申请日:2003-03-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 一种电光装置,在衬底(2)上设置遮光层(3);将形成在遮光层(3)上的滤色器层(13)隔开的分隔层(14);密封这些遮光层(3)、分隔层(14)、滤色器层(13)的保护层(6)。分隔层(14)的至少一部分覆盖遮光层(3)上没有被滤色器层覆盖的部分,把保护层(6)和遮光层(3)分离为非接触状态,所述遮光层和分隔层相隔一定间隔排列多个,覆盖所述遮光层的所述分隔层位于排列的端部。上述电光装置,缓和保护层的下陷,能够减少电极的断线,本发明还提供所述电光装置的制造方法、以及器件和电子仪器。
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公开(公告)号:CN1463371A
公开(公告)日:2003-12-24
申请号:CN02801953.9
申请日:2002-05-31
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L27/3246 , G02B5/201 , G02F1/133512 , H01L27/3218 , H01L27/3223 , H01L27/3244
Abstract: 本发明提供一种滤色膜层及电光学装置,滤色膜层是一种具有由形成在基板(12)上的间壁(14)划分而成的,由多色墨形成的色要素所构成的像素(13)的滤色膜层(200),在所述像素(13)形成区域的外侧形成有虚拟像素(13′)。赋予每一个所述像素(13)的墨与赋予每一个所述虚拟像素(13′)的墨的墨量几乎相同。而且,使所形成的覆盖所述像素(13)的保护膜(21),也同时覆盖虚拟像素(13′)。
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公开(公告)号:CN108437643B
公开(公告)日:2021-08-10
申请号:CN201810112059.8
申请日:2018-02-05
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J11/00
Abstract: 本发明提供一种能够抑制介质在干燥部中被过度加热的不良情况,且能够实现低成本化和紧凑化的印刷装置以及印刷装置的印刷方法。本发明的印刷装置(100)的特征在于,具备设置有用于送入介质(7)的送入口(27)和用于送出介质(7)的送出口(28)、并对被涂布于介质(7)上的油墨进行干燥的干燥部(4),在印刷装置(100)中,当暂时停止印刷,并实施预先确定的维护作业时,在从维护作业开始到维护作业结束为止的维护作业期间或维护作业期间的一部分期间内,介质(7)沿着从送入口(27)朝向送出口(28)的方向即输送方向被输送。
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公开(公告)号:CN107116899B
公开(公告)日:2020-06-16
申请号:CN201710088478.8
申请日:2017-02-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明涉及图像形成装置、图像形成方法。本发明能够在向记录介质提供墨水时,使合适的量的反应液残留在记录介质的表面。本发明的图像形成装置包括:反应液提供部,所述反应液提供部向记录介质提供反应液;墨水提供部,所述墨水提供部向提供有反应液的记录介质提供墨水,墨水包含通过反应液凝集的颜色材料;以及控制部,所述控制部根据记录介质的渗透性,对从反应液提供部向记录介质提供的反应液的每单位面积的量进行调整。
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公开(公告)号:CN106004042A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:CN201610147442.8
申请日:2016-03-15
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/01
CPC classification number: B41J25/001 , B41J2/1714 , B41J29/02 , B41J29/377 , B41J2/01
Abstract: 本发明提供一种液体排出装置。在具备设有排出部、电路基板以及能够朝向该电路基板送风的风扇的滑架的液体排出装置中,抑制从该排出部排出来的液体的雾被该风扇吹送到该电路基板。液体排出装置(1),其特征在于,具备能够沿着往复移动方向(B)移动的滑架(6),滑架(6)设有:排出部(7),其排出液体;电路基板,其向排出部(7)输入信号;以及风扇(21),其能够朝向电路基板送风,所述滑架(6)具有分隔件(37),该分隔件(37)将伴随从排出部(7)排出液体而产生的雾到达风扇(21)为止的路径阻断。
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公开(公告)号:CN104723674A
公开(公告)日:2015-06-24
申请号:CN201410645114.1
申请日:2014-11-10
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J11/002 , B41J2/2114 , B41J2/2117 , B41J2/2146 , B41J11/0015 , B41J11/04 , B41J15/04 , B41M5/0017 , B41M7/009
Abstract: 本发明提供能够在记录介质的输送路径上缩短向记录介质给予反应液的位置与排出墨水的位置之间的距离的记录装置。该记录装置具备:旋转鼓(9),其沿外周面输送记录介质;反应液给予部(3),其在沿旋转鼓(9)的外周面的外周面输送路径(R)上的第一位置(P1)对记录介质(S)给予反应液;和墨水排出部(5),其在外周面输送路径(R)上的、比第一位置(P1)靠记录介质(S)的输送方向下游侧的第二位置(P2)对被给予了反应液的记录介质(S)排出与所述反应液反应的墨水。
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公开(公告)号:CN101676114B
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN200910174652.6
申请日:2009-09-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: B41J11/58 , B41J11/002 , B41J11/0085 , B41J15/165
Abstract: 本发明提供一种能够对经由多个吸引孔在吸附保持的状态下将液体吸附于支承部件上而由此形成图像的目标物中的图像品质的下降进行抑制的目标物支承装置、目标物输送机构及液体喷射装置。其具有:台板(27),其以向表面(27a)和背面(27b)开口的方式形成有多个吸引孔(44);罩部件(54),其形成多个比吸引孔(44)开口面积小的贯通孔(56),并以层叠状态固定在台板(27)上;风扇,其用于对多个吸引孔(44)内进行吸引并对与该各吸引孔(44)连通的贯通孔(56)内进行吸引,通过驱动风扇,对能够附着墨地支承在罩部件(54)的支承面(54a)上的连续纸(12)进行吸附保持。
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公开(公告)号:CN101498856B
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200910003725.5
申请日:2009-02-01
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133516
Abstract: 提供一种通过根据溶剂的蒸发的容易度控制喷出液状体的容纳部的大小,从而形成厚度均匀且高品质的薄膜的方法。在本发明的薄膜形成方法中,一边使多个喷嘴(160)和基板主体(41)相对地进行扫描,一边从喷嘴喷出在溶剂中溶解或分散了薄膜的形成材料的液状体(L),对基板主体上设定的有效区域所包含的多个规定区域(78)分别配置液状体(L)来形成薄膜,包括:在各规定区域的周围设置隔壁(73)来形成多个容纳部(79)的工序;和从多个喷嘴向分别对应的多个容纳部(79)配置液状体(L)来形成薄膜的工序;在形成容纳部(79)的工序中,有效区域的边缘部(AR2)配置的容纳部(79)比有效区域的中央部(AR1)配置的容纳部(79)的俯视面积形成得小。
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公开(公告)号:CN100541242C
公开(公告)日:2009-09-16
申请号:CN200710127010.1
申请日:2002-06-24
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G02B5/20 , H01L27/146 , H01L27/148
Abstract: 提供包含具有充分的遮光性的遮光区域和没有混色的透过区域、没有像素缺陷及色调模糊的对比度高的滤色器。本发明的滤色器(1000)包含像素区域(100)和着落精度试验用区域(200)。像素区域(100)包括遮光区域(20)和由遮光区域分割的透过区域(30)。在遮光区域(20)上设置了第1遮光层(22)。透过区域(30)设置了色要素(32)。着落精度试验用区域(200)位于像素区域(20)以外,包含第2遮光层(122)和用以至少覆盖第2遮光区域(122)而设置的着落精度试验用层(26)。在着落精度试验用区域(200)中,设置了由第2遮光区域(122)分割的评价区域。
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公开(公告)号:CN100396492C
公开(公告)日:2008-06-25
申请号:CN02152607.9
申请日:2002-11-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H01L51/0005 , B41J2/145 , B41J2202/09 , B41J2202/20
Abstract: 本发明提供一种喷出装置,在制造滤色器的喷墨装置中,把多个喷嘴设置为列状,把构成喷嘴列的喷墨头并列配置为直线状。利用多个喷嘴向母衬底上4次重叠喷出滤波元件材料,以给定的膜厚形成一个滤波元件。根据这种结构,能防止多个滤波元件间在膜厚度上产生偏移,能使滤色器的光透过性在平面上均匀。这种结构通用性高,能以低价高效形成,并且能使滤色器的光学透过特性、液晶装置的彩色显示特性、EL发光面的发光特性等电光构件的电光特性在平面上均匀。
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