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公开(公告)号：CN103135354A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210272274.7
申请日：2012-08-01
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/016 , G02F1/1333 , H01L23/29
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0233 , G03F7/0751 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及正型光敏树脂组合物、由其制造的光敏树脂膜及含有该光敏树脂膜的半导体装置。本发明公开了正型光敏树脂组合物，其包括(A)含有第一聚苯并噁唑前体的聚苯并噁唑前体，该第一聚苯并噁唑前体包含化学式1所示重复单元和化学式2所示重复单元，在至少一个末端具有可热聚官能团；(B)含有酚醛树脂的溶解控制剂，该酚醛树脂包含化学式4所示重复单元；(C)光敏重氮醌化合物；(D)硅烷化合物；(E)产酸剂；以及(F)溶剂；本发明还公开了用该正型光敏树脂组合物制成的光敏树脂膜以及含有该光敏树脂膜的半导体装置。该正型光敏树脂组合物具有优异的灵敏度、分辨率、图案成形性能、残余物去除性能和可靠性。
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公开(公告)号：CN104950600B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201410295590.5
申请日：2014-06-26
Applicant: 第一毛织株式会社
Abstract: 本发明公开了制造黑色柱隔离层的方法、黑色柱隔离层和滤色片。该制造黑色柱隔离层的方法包括：制备基板；在所述基板上形成第一有机层；在所述第一有机层上形成第二有机层；使用半色调掩模在其上形成有所述第一有机层和所述第二有机层的所述基板上进行曝光；以及使所述基板显影并固化生成物。本发明还公开了使用制造方法制造的黑色柱隔离层、以及包括所述黑色柱隔离层的滤色片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104122754B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201310546101.4
申请日：2013-11-06
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/092
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂下层组合物、图案形成方法以及包括该图案的半导体集成电路装置。该抗蚀剂下层组合物包括包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。在上述化学式1中，A1、A2、B1、R1、R2与具体实施方式中所定义的相同。[化学式1]。
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公开(公告)号：CN103135354B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201210272274.7
申请日：2012-08-01
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/016 , G02F1/1333 , H01L23/29
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0233 , G03F7/0751 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及正型光敏树脂组合物、由其制造的光敏树脂膜及含有该光敏树脂膜的半导体装置。本发明公开了正型光敏树脂组合物，其包括(A)含有第一聚苯并噁唑前体的聚苯并噁唑前体，该第一聚苯并噁唑前体包含化学式1所示重复单元和化学式2所示重复单元，在至少一个末端具有可热聚官能团；(B)含有酚醛树脂的溶解控制剂，该酚醛树脂包含化学式4所示重复单元；(C)光敏重氮醌化合物；(D)硅烷化合物；(E)产酸剂；以及(F)溶剂；本发明还公开了用该正型光敏树脂组合物制成的光敏树脂膜以及含有该光敏树脂膜的半导体装置。该正型光敏树脂组合物具有优异的灵敏度、分辨率、图案成形性能、残余物去除性能和可靠性。
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公开(公告)号：CN105229532B
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201380075787.1
申请日：2013-11-05
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/11 , H01L21/027 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种抗蚀剂底层组合物、图案形成方法及含有图案的半导体集成电路装置，抗蚀剂底层组合物包括化合物与溶剂，所述化合物包含由下列化学式1表示的部分。[化学式1]在上述化学式1中，A1至A3、X1、X2、L1、L2、Z以及m与说明书中所定义的相同。所述抗蚀剂底层组合物可提升光学性质、抗蚀刻性以及抗化学性。
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公开(公告)号：CN104950600A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201410295590.5
申请日：2014-06-26
Applicant: 第一毛织株式会社
Abstract: 本发明公开了制造黑色柱隔离层的方法、黑色柱隔离层和滤色片。该制造黑色柱隔离层的方法包括：制备基板；在所述基板上形成第一有机层；在所述第一有机层上形成第二有机层；使用半色调掩模在其上形成有所述第一有机层和所述第二有机层的所述基板上进行曝光；以及使所述基板显影并固化生成物。本发明还公开了使用制造方法制造的黑色柱隔离层、以及包括所述黑色柱隔离层的滤色片。
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公开(公告)号：CN103186048A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201210351065.1
申请日：2012-09-19
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: G03F7/105 , G03F7/0233 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了正性光敏树脂组合物，及使用其的光敏树脂层和显示装置。该组合物包括选自聚苯并噁唑前体、聚酰亚胺前体，及其组合的（A）碱溶性树脂，（B）光敏重氮醌化合物，（C）苯酚化合物，（D）具有400nm到700nm吸收波长的至少一种有机染料，以及（E）溶剂，其中基于100重量份的碱溶性树脂（A），包括1至40重量份的有机染料（D）。
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