公开(公告)号：CN112585089B

公开(公告)日：2023-06-20

申请号：CN201980054647.3

申请日：2019-08-13

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 福田大祐 ,  长尾大辅 ,  石井治之 ,  石川椿峰

IPC: C01B33/18

Abstract: 本发明的课题在于提供壳被厚膜化的核壳型多孔质二氧化硅粒子的制造方法，通过下述核壳型多孔质二氧化硅粒子的制造方法而解决了该课题，所述制造方法包括(a)准备工序、(b)壳前体形成工序、(c)壳形成工序、(d)准备工序、(e)壳前体形成工序、及(f)壳形成工序，上述工序(d)至(f)进一步重复1次以上、3次以下，此时的工序(d)中的壳形成工序是指工序(f)的壳形成工序。

公开(公告)号：CN116783143A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202280012797.X

申请日：2022-02-10

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  株式会社大赛璐

Inventor： 长尾大辅 ,  菅惠嗣 ,  吉泽千夏 ,  传浩聪

IPC: C01B33/18

Abstract: 本发明提供一种核壳型多孔质二氧化硅粒子的制造方法，该制造方法包括：壳前体形成工序，通过向包含无孔质二氧化硅粒子、阳离子性表面活性剂、碱性催化剂、以及醇的水性悬浮液中以反应体系的pH为7～13且反应体系的pH变化量为1.5/10分钟的方式连续地添加含二氧化硅源的液体，在所述无孔质二氧化硅粒子的表面形成壳前体；和壳形成工序，通过从所述壳前体形成工序中形成的所述壳前体中去除阳离子性表面活性剂，形成多孔质的壳，在将所述壳前体形成工序中的所述无孔质二氧化硅粒子的比表面积设为Xm2/g，将所述无孔质二氧化硅粒子的使用量设为Yg，以及将所述二氧化硅源的使用量设为Zcm3时，Z/(XY)为0.01～10。