剥离片
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104203569A

    公开(公告)日:2014-12-10

    申请号:CN201280071755.X

    申请日:2012-12-20

    Abstract: 本发明涉及一种剥离片(1),其具备基材(11)及至少形成于基材(11)的一个面的剥离剂层(12)的剥离片(1),其中,剥离剂层(12)使用如下所述的剥离剂组合物所形成,该剥离剂组合物所形成含有在1分子中具有至少2个烯基的第一聚二甲基硅氧烷,及在1分子中具有至少2个氢硅烷基的第二聚二甲基硅氧烷,在总计30g的第一聚二甲基硅氧烷与第二聚二甲基硅氧烷中,含有烯基0.40~5.25mmol,含有氢硅烷基7.00~120.00mmol,且氢硅烷基(b)相对于烯基(a)的摩尔比(b/a)为3.0~70.0。根据该剥离片(1),剥离片的剥离剂层即使在长时间暴露于大气的情况下也可抑制剥离力的增大。

    陶瓷生片制造工序用剥离膜

    公开(公告)号:CN108349107B

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201680063814.7

    申请日:2016-11-29

    Abstract: 本发明提供一种陶瓷生片制造工序用剥离膜1A,其为具备基材11、及设置在基材11的一侧的剥离剂层12的陶瓷生片制造工序用剥离膜1A,剥离剂层12由含有三聚氰胺树脂及聚有机硅氧烷的剥离剂组合物固化而成,通过纳米压痕试验,从剥离剂层12的与基材11相反侧的面测定的覆膜弹性模量为3.5~7.0GPa。根据该陶瓷生片制造工序用剥离膜1A,能够抑制聚有机硅氧烷从剥离剂层迁移至陶瓷生片。

    硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板

    公开(公告)号:CN104945965B

    公开(公告)日:2019-11-22

    申请号:CN201510031986.3

    申请日:2015-01-22

    Abstract: 本发明涉及硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板。本发明提供一种防止硬质涂膜彼此的粘连且粘接性优异的硬质涂膜和具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以及电容触控面板。硬质涂膜,其在基材膜的至少单面具备硬质涂层,该硬质涂膜的特征在于,硬质涂层由至少包含(A)能量射线固化性树脂、(B)疏水化硅溶胶、以及(C)有机硅系流平剂的硬质涂层形成材料的固化物构成,(B)疏水化硅溶胶集中于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反的表面侧,在从硬质涂膜的最外表面至5nm的位置为止的区域中,相对于利用深度方向的XPS分析测定的碳原子、氧原子、硅原子的合计量,硅原子浓度为0.2~1.95atom%范围内的值。

    生片形成用剥离膜
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110382186A

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201880016630.4

    申请日:2018-02-28

    Abstract: 本发明的生片形成用剥离膜是用于形成生片的生片形成用剥离膜(1),其中,该剥离膜(1)具备基材(11)和设置于上述基材(11)的一面(11A)的剥离剂层(12),上述剥离剂层(12)由剥离剂形成用材料的固化物形成,该剥离剂形成用材料含有(A)固化性化合物、以及(B)具有下述通式(4)表示的含有两性离子的基团的含离子性基团的有机硅化合物。

    光学用膜以及显示器装置
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104115036B

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201380008112.5

    申请日:2013-02-05

    CPC classification number: G02B1/14 C08F290/062 G02B1/105

    Abstract: 光学用膜,其为在基材的至少一个面上设置有包含固化性树脂组合物的固化物的树脂层的光学用膜,前述固化性树脂组合物含有:一分子中具有2个以上通式(1)所示基团且除了该基团以外的剩余结构中不含氧化亚烷基单元的聚合性化合物(A)、一分子中具有3个以上通式(2)所示基团的聚合性化合物(B)、以及聚合引发剂(C),并且(A)成分与(B)成分的质量比〔(A)/(B)〕为15/85~85/15,该光学用膜与印刷材料的密合性和与粘合剂的粘接性优异,同时表面硬度高,因此具有良好的抗损伤性能,具有即使在高温高湿的环境下长时间放置也可维持这些特性的优异耐久性。

    硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板

    公开(公告)号:CN104945965A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201510031986.3

    申请日:2015-01-22

    Abstract: 本发明涉及硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板。本发明提供一种防止硬质涂膜彼此的粘连且粘接性优异的硬质涂膜和具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以及电容触控面板。硬质涂膜,其在基材膜的至少单面具备硬质涂层,该硬质涂膜的特征在于,硬质涂层由至少包含(A)能量射线固化性树脂、(B)疏水化硅溶胶、以及(C)有机硅系流平剂的硬质涂层形成材料的固化物构成,(B)疏水化硅溶胶集中于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反的表面侧,在从硬质涂膜的最外表面至5nm的位置为止的区域中,相对于利用深度方向的XPS分析测定的碳原子、氧原子、硅原子的合计量,硅原子浓度为0.2~1.95atom%范围内的值。

    硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板

    公开(公告)号:CN104650635A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201410643417.X

    申请日:2014-11-14

    Abstract: 本发明涉及硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板。本发明提供一种防止硬质涂膜彼此的粘连且透明性优异的硬质涂膜和具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以及电容触控面板。硬质涂膜,其在基材膜的至少单面具备硬质涂层,该硬质涂膜的特征在于,该硬质涂膜的规定的雾度值为1.0%以下;硬质涂层由至少包含(A)能量射线固化性树脂和(B)疏水化硅溶胶的硬质涂层形成材料的固化物构成;(B)疏水化硅溶胶的配合量相对于前述(A)能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0.3~25重量份的范围内的值;(B)疏水化硅溶胶偏析于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反一侧的表面。

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