公开(公告)号：CN109844049B

公开(公告)日：2021-11-02

申请号：CN201880003829.3

申请日：2018-02-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金志惠 ,  徐基胜 ,  朴埈莹 ,  金章淳 ,  尹敬准

IPC: C09J7/40 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J11/06

Abstract: 提供了无基底的转移胶带，其包括：离型衬垫，所述离型衬垫包括重剥离表面和轻剥离表面；以及设置在重剥离表面上的转移膜层，其中在以3米/分钟的速率剥离转移膜层时，重剥离表面与转移膜层之间的离型剥离力为10g/in至70g/in或更小。

公开(公告)号：CN111712554A

公开(公告)日：2020-09-25

申请号：CN201980013357.4

申请日：2019-08-06

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 徐基胜 ,  金志惠 ,  金相还 ,  朴埈莹 ,  尹敬准

IPC: C09J7/38 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J7/40

Abstract: 本发明涉及粘合物理特性优异并且适于连续过程的无基底粘合剂带。

公开(公告)号：CN107109149A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201580058061.6

申请日：2015-10-26

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金章淳

IPC: C09J7/02 ,  C09J7/04 ,  G01N19/04

Abstract: 提供了用于测量离型膜的剥离稳定性的方法，所述方法包括以下步骤：制备包括粘合层和附接在粘合层的两侧的轻剥离离型膜和中剥离离型膜的层合体；通过在0.3至3.0m/分钟的剥离速度下测量轻剥离离型膜与粘合层的离型强度获得轻剥离、低速离型强度；通过在0.3至3.0m/分钟的剥离速度下测量中剥离离型膜与粘合层的离型强度获得中剥离、低速离型强度；通过在10至30m/分钟的剥离速度下测量轻剥离离型膜与粘合层的离型强度获得轻剥离、高速离型强度；通过在10至30m/分钟的剥离速度下测量中剥离离型膜与粘合层的离型强度获得中剥离、高速离型强度；以及在通式1和2的基础上测量高速离型强度平衡和低速离型强度平衡。

公开(公告)号：CN119343401A

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN202380046168.3

申请日：2023-06-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金雨渊 ,  金贤哲 ,  洪在成 ,  朴埈莹

IPC: C08J5/18 ,  C08F220/18 ,  C08F4/40

Abstract: 本发明提供了使用惰性氧化还原引发剂体系生产固化产物的方法、以及由此产生的固化产物。具体地，根据本发明的用于生产固化产物的方法包括使包含可固化浆料和引发剂组分的可固化组合物的层与在表面上包括引发剂组分的层的膜的引发剂组分的层接触的步骤，并且其特征在于引发剂组分为包含氧化剂和还原剂的惰性氧化还原引发剂体系，还原剂包括金属化合物，并且金属化合物以有效量仅包含在膜上的引发剂组分的层和可固化组合物的层的任一者中。

公开(公告)号：CN118829698A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202380024306.8

申请日：2023-03-22

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金贤哲

IPC: C09D183/04 ,  C09J7/40 ,  C08G77/20 ,  C08G77/12 ,  C08L83/06 ,  C08K5/56

Abstract: 本申请提供了离型组合物、离型层、离型膜和压敏粘合剂膜。本申请的离型组合物具有优异的可固化性，并因此可以稳定地固化以形成离型层。当已经形成离型层时，本申请可以提供这样的离型组合物：即使离型层被重复应用于压敏粘合剂层等，所述离型组合物也允许表现出稳定的残留粘附率。本申请的离型层即使其保持在室温和高温下长时间也可以保持期望的离型特性。此外，离型层可以稳定地保持高速剥离力与低速剥离力的平衡。

公开(公告)号：CN118510838A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202380016222.X

申请日：2023-02-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金贤哲

IPC: C08K5/5419 ,  C08K5/544 ,  C08K5/56 ,  C08L83/04 ,  C08G77/20 ,  C08G77/12 ,  C09D183/04 ,  C09D7/63

Abstract: 本申请可以提供可以形成如下离型层的聚有机硅氧烷和离型组合物：所述离型层能够通过使基础膜与离型层之间的结合力最大化而确保耐溶剂性。此外，本申请可以提供可以形成如下离型层的聚有机硅氧烷和离型组合物：所述离型层即使在室温和高温条件下也能够具有合适的剥离力，即使在高温和紫外线照射条件下剥离力的变化也能够是小的，并且其能够确保优异的残留粘合率。此外，作为所述聚有机硅氧烷和所述离型组合物的应用，本申请可以提供离型层以及包括所述离型层的离型膜和压敏粘合膜。

公开(公告)号：CN114521210A

公开(公告)日：2022-05-20

申请号：CN202180005518.2

申请日：2021-07-20

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  郑智惠 ,  徐光洙

IPC: C09D183/07 ,  C09D183/08 ,  C08J7/04 ,  C08L67/02

Abstract: 本公开内容涉及：基于有机硅的涂覆组合物，所述基于有机硅的涂覆组合物包含基于有机硅的树脂、基于有机硅的交联剂和金属催化剂，并且还包含由化学式1表示的引入有脲基的基于有机硅的化合物；以及包括涂层的基于有机硅的离型膜，所述涂层为所述基于有机硅的涂覆组合物的固化材料。

公开(公告)号：CN113056527A

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN201980074273.1

申请日：2019-11-28

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金美仙 ,  徐光洙

IPC: C09D7/63 ,  C09D7/20 ,  C09D183/04 ,  C09D5/20 ,  C09J7/40

Abstract: 本申请涉及涂覆组合物。本申请的涂覆组合物的组分之间具有优异的相容性。此外，存在由本申请的涂覆组合物形成的离型层对380nm或更大的波长的光具有低的透射率的优势。

公开(公告)号：CN107075305B

公开(公告)日：2019-07-12

申请号：CN201580050002.4

申请日：2015-09-17

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴埈莹 ,  金章淳

IPC: C09D183/04 ,  C09D7/63 ,  C09D5/20

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08J7/04 ,  C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08J2483/04 ,  C08L63/04 ,  C09D5/20 ,  C09D7/63 ,  C09D7/65 ,  C08L83/00 ,  C08K5/56 ,  C08K5/01

Abstract: 提供了基于硅氧烷的涂层组合物，其包含：基于硅氧烷的树脂；基于硅氧烷的硬化剂；和热引发剂，其中，所述基于硅氧烷的涂层组合物还包含化学式1的基于硅氧烷的化合物。此外，提供了基于硅氧烷的剥离膜，其包括：基层；以及为所述基于硅氧烷的涂层组合物的固化产物的涂层。