公开(公告)号：CN110178084A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201880006630.6

申请日：2018-11-22

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 安庸植 ,  金容美 ,  林敏映

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/028 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够形成其中在金属表面基底上形成精细图案期间高度感光的同时抑制基脚现象的图案，并且能够产生化学稳定性优异的光致抗蚀剂膜。

公开(公告)号：CN104521020B

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201380041149.8

申请日：2013-07-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴珉春 ,  孙世焕 ,  李渊 ,  安庸植 ,  金正斗 ,  金智嬉 ,  朴祥准 ,  金勇男

IPC: H01L51/52 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/5268 ,  G02B5/02 ,  H01L51/0096 ,  Y02E10/549 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/24752 ,  Y10T428/249971 ,  Y10T428/25

Abstract: 本申请涉及用于有机电子器件的基板、有机电子器件以及照明装置。本申请可提供能够形成有机电子器件的基板，所述基板由于具有优异的包括光提取效率的性能，且可以切断来自外部环境的水分和气体的渗入，并抑制暗点(dark spot)等的生长，因此能够确保优异性能和可靠性。

公开(公告)号：CN104321900B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201380028595.5

申请日：2013-04-01

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴珉春 ,  孙世焕 ,  李渊槿 ,  安庸植 ,  金正斗 ,  金智嬉

IPC: H01L51/52 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/5275 ,  G02B5/0242 ,  G02B2207/109 ,  H01L51/0096 ,  H01L51/5268 ,  H01L2251/5369 ,  H05B33/22 ,  Y02E10/549

Abstract: 本发明提供一种用于有机电子器件的基板、有机电子器件以及一种照明装置。由于该基板具有优异的性能，包括光提取效率，防止外部环境的水分或气体渗入，并抑制暗点(dark spot)等的生长，因此可提供能够形成确保优异性能及可靠性的有机电子器件的基板。

公开(公告)号：CN104521020A

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201380041149.8

申请日：2013-07-31

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴珉春 ,  孙世焕 ,  李渊 ,  安庸植 ,  金正斗 ,  金智嬉 ,  朴祥准 ,  金勇男

IPC: H01L51/52 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/5268 ,  G02B5/02 ,  H01L51/0096 ,  Y02E10/549 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/24752 ,  Y10T428/249971 ,  Y10T428/25

Abstract: 本申请涉及用于有机电子器件的基板、有机电子器件以及照明装置。本申请可提供能够形成有机电子器件的基板，所述基板由于具有优异的包括光提取效率的性能，且可以切断来自外部环境的水分和气体的渗入，并抑制暗点(dark spot)等的生长，因此能够确保优异性能和可靠性。