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公开(公告)号：CN104303110A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380025725.X
申请日：2013-04-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G02F1/1303 , B29C65/18 , B29C65/5057 , B29C65/7451 , B29C65/7847 , B29C66/1122 , B29C66/43 , B29C66/8221 , B29C66/83221 , B29C66/83241 , B29C66/853 , B29C66/934 , B65G2249/04 , B65H19/1852 , B65H19/1873 , B65H2301/46172 , B65H2301/4621 , B65H2301/46312 , B65H2408/2171 , B65H2801/61 , C03B33/0235 , G02F1/133351 , G02F2001/133354 , Y02P40/57
Abstract: 一种基板处理系统，具有：第1处理单元，对以速度V1搬送的基板连续地实施第1处理；以及第2处理单元，以速度V2搬送由第1处理单元处理后的基板，对基板连续地实施第2处理，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＞V2的情况下，设置多个第2处理单元，且还具有切断机构和选择投入机构，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＜V2的情况下，设置多个第1处理单元，且还具有将由多个第1处理单元实施第1处理的多个基板，依次接合并投入至第2处理单元的接合机构。
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公开(公告)号：CN119790351A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202280099101.1
申请日：2022-08-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 目的在于通过抑制排列有光源元件的基板的翘曲或挠曲，来提高基板与散热器的密合性，由此提高冷却效率。光源单元具备：具有彼此相对置的第1面和第2面的基板(21A)；在所述基板(21A)的所述第1面上呈二维排列的多个光源元件(20A)；以及散热器(40)，所述基板(21A)具有在所述第2面中的、俯视下与排列有所述多个光源元件(20A)的范围相对置的部分形成的至少一个凹部，所述散热器(40)具有贯穿孔(401)，所述基板(21A)和所述散热器(40)利用插穿所述贯穿孔(401)、并且与所述凹部嵌合的固定构件(61)固定。
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公开(公告)号：CN105556391B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480049332.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/709 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN107908083A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711078129.4
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光方法，将形成于以规定曲率半径弯曲成圆筒状的光罩的一面的图案投影至被支承为圆筒状或者平面状的柔性基板的表面，使光罩沿着弯曲的一面以规定速度移动的同时使基板沿着被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面以规定速度移动，将图案的投影像扫描曝光至基板上，在将以最佳聚焦状态形成有由投影光学系统投影的图案的投影像的投影像面的曲率半径设为Rm，将被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面的曲率半径设为Rp，将通过光罩的移动而沿着投影像面移动的图案的投影像的移动速度设为Vm，将沿着基板的表面的规定的速度设为Vp时，在Rm＜Rp的情况下设定为Vm＞Vp，在Rm＞Rp的情况下设定为Vm＜Vp。
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公开(公告)号：CN107748486A
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201711113525.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107209461A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006570.9
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
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公开(公告)号：CN106933066A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201611264164.0
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN104507685B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201380040811.8
申请日：2013-08-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 铃木智也
CPC classification number: H01L51/0013 , H01L27/3244 , H01L51/0005 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种转印装置。转印装置具备：版保持部，其对转印版进行保持，该转印版具有由规定厚度的多孔质材料形成的多孔质板、以及形成于该多孔质板的一方的面侧的转印用的图案层；对象物保持部，其对能够供上述转印版的图案层转附的对象物以使得该对象物与转印版的一方的面密接或接近的方式进行保持；以及流体供给部，其从多孔质板的另一方的面侧向一方的面侧供给规定压力的流体。
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公开(公告)号：CN105575975A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510964849.5
申请日：2012-04-20
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: H01L51/56 , H01L27/1214 , H01L2251/5338
Abstract: 基板处理装置及元件制造方法，基板处理装置具备：多个处理部，对形成为带状的基板分别进行处理；第一处理室，收容多个处理部中能执行共通次程序的第一处理部；第二处理室，收容多个处理部中的第二处理部；以及搬送部，将基板分别搬送至第一处理室及第二处理室。
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