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公开(公告)号：CN104487897B
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201380038451.8
申请日：2013-07-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明的液浸构件(5)用于液浸曝光装置(EX)，在能于光学构件(13)的下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)。液浸构件具备配置在光学构件周围的至少一部分的第1构件(21)、与配置在曝光用光(EL)的光路(K)周围的至少一部分而能相对第1构件移动的第2构件(22)。第2构件具有通过间隙与第1构件的第1下面(23)相对的第2上面(25)、与物体可相对的第2下面(26)、以及配置在第2下面周围的至少一部分的流体回收部(27)。
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公开(公告)号：CN104838470A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201380063011.8
申请日：2013-10-08
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70766 , G03F7/70341 , G03F7/709
Abstract: 一种曝光装置，经由光学部件(13)与基板(P)之间的液体(LQ)以曝光用光对基板进行曝光，该曝光装置具备装置框架(8B)、包括光学部件的光学系统、包括配置于光学部件周围的至少一部分的第1部件(21)和配置于光学部件周围的至少一部分的第2部件(22)并且能够形成液浸空间的液浸部件(5)、能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置(56)，和防振装置(55)，经由防振装置(55)将第1部件支承于装置框架。
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公开(公告)号：CN118595591A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410867617.7
申请日：2020-08-06
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
Abstract: 本发明提供一种加工装置以及系统，测量光对工件的照射被因加工光对工件的照射而产生的物质妨碍的可能性变低。加工装置是通过将来自加工光源的加工光照射至物体来加工物体的加工装置，包括：合成光学系统，将来自加工光源的加工光的光路与来自测量光源的第一测量光的光路合成；照射光学系统，将经由合成光学系统的加工光及第一测量光照射至物体；位置变更装置，变更照射光学系统相对于物体的位置；拍摄装置，其位置与照射光学系统一起变更，拍摄物体；以及检测装置，经由照射光学系统及合成光学系统，来检测第二测量光，所述第二测量光通过经由照射光学系统照射至物体的第一测量光而自物体产生。
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公开(公告)号：CN109375473B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201811255979.1
申请日：2013-12-25
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
Abstract: 液浸部件在液浸曝光装置中使用，能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间。液浸部件具有：第1部件，其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分，在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与物体的表面相对的第1液体供给部；和第2部件，其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部，能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108205243B
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201810132545.6
申请日：2013-10-08
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
Abstract: 曝光装置具有：包括配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件周围的一部分中的第2部件，并能够形成液体的液浸空间的液浸部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置。控制装置以使得第2部件的第1动作与第2部件的第2动作不同的方式控制驱动装置，所述第2部件的第1动作是从包含在同一列中的第1曝光区域的曝光结束起到第2曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第1移动期间中的第2部件的第1动作，所述第2部件的第2动作是从某列的第3曝光区域的曝光结束起到另一列的第4曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第2移动期间中的第2部件的第2动作。
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公开(公告)号：CN109031895A
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201810948194.6
申请日：2013-10-08
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70766 , G03F7/70341 , G03F7/709
Abstract: 一种曝光装置，经由光学部件(13)与基板(P)之间的液体(LQ)以曝光用光对基板进行曝光，该曝光装置具备装置框架(8B)、包括光学部件的光学系统、包括配置于光学部件周围的至少一部分的第1部件(21)和配置于光学部件周围的至少一部分的第2部件(22)并且能够形成液浸空间的液浸部件(5)、能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置(56)，和防振装置(55)，经由防振装置(55)将第1部件支承于装置框架。
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公开(公告)号：CN108205243A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201810132545.6
申请日：2013-10-08
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
Abstract: 曝光装置具有：包括配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件周围的一部分中的第2部件，并能够形成液体的液浸空间的液浸部件；能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置；和控制驱动装置的控制装置。控制装置以使得第2部件的第1动作与第2部件的第2动作不同的方式控制驱动装置，所述第2部件的第1动作是从包含在同一列中的第1曝光区域的曝光结束起到第2曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第1移动期间中的第2部件的第1动作，所述第2部件的第2动作是从某列的第3曝光区域的曝光结束起到另一列的第4曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第2移动期间中的第2部件的第2动作。
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公开(公告)号：CN104508560B
公开(公告)日：2018-05-22
申请号：CN201380029828.3
申请日：2013-03-22
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 本发明的液浸构件(5)，是以从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满的方式，在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(15)。液浸构件，具备：具有第1下面(24)的第1构件(21)，具有通过间隙与第1下面对向的第2上面(25)与物体可对向的第2下面(26)、相对第1构件为可动的第2构件(22)，以及相对光路在第2下面的外侧回收来自第2下面与物体之间的第2空间(SP2)的液体的至少一部分的回收部(23)。
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公开(公告)号：CN104487897A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201380038451.8
申请日：2013-07-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 本发明的液浸构件(5)用于液浸曝光装置(EX)，在能于光学构件(13)的下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)。液浸构件具备配置在光学构件周围的至少一部分的第1构件(21)、与配置在曝光用光(EL)的光路(K)周围的至少一部分而能相对第1构件移动的第2构件(22)。第2构件具有通过间隙与第1构件的第1下面(23)相对的第2上面(25)、与物体可相对的第2下面(26)、以及配置在第2下面周围的至少一部分的流体回收部(27)。
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