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公开(公告)号：CN112423933B
公开(公告)日：2023-02-17
申请号：CN201980047273.2
申请日：2019-07-19
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: B24B37/24 , C08G18/65 , H01L21/304
Abstract: 本发明使用一种抛光层用聚氨酯，其用作抛光垫的抛光层的原材料，是热塑性聚氨酯，所述热塑性聚氨酯是包含高分子二醇、有机二异氰酸酯、以及扩链剂的聚氨酯原料的反应产物，其中，扩链剂包含含有碳原子数7～12的直链碳骨架的第1扩链剂50质量％以上。
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公开(公告)号：CN107073678A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580057176.3
申请日：2015-10-27
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: B24B37/24 , B24B37/22 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种抛光层用非多孔性成型体，其是热塑性聚氨酯的非多孔性成型体，其中，热塑性聚氨酯在‑70～‑50℃范围的损耗角正切(tanδ)的最大值为4.00×10‑2以下。优选热塑性聚氨酯通过使数均分子量650～1400的高分子二醇、有机二异氰酸酯和扩链剂聚合而得到，且来自于有机二异氰酸酯的异氰酸酯基的氮的含有比例为5.7～6.5质量％。
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公开(公告)号：CN113226642B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN201980085424.3
申请日：2019-12-25
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 本发明提供在具有抛光稳定性及抛光对象物的平滑性优异的抛光性能、且具有即使长时间持续抛光、抛光性能的变化也小的特征的无纺布类型的抛光垫中抛光速率高的抛光垫。所述抛光垫是将无孔高分子弹性体和多孔高分子弹性体含浸于无纺布中而得到的抛光垫，其中，所述多孔高分子弹性体包含热塑性聚氨酯，所述无孔高分子弹性体的质量相对于所述多孔高分子弹性体的质量之比为0.49以下。
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公开(公告)号：CN112105667B
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN201980031163.7
申请日：2019-04-26
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 本发明使用包括准备具有烯属不饱和键的聚氨酯的工序、以及用含有具有共轭双键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法，或者使用包括准备具有共轭双键的聚氨酯的工序、以及用含有具有烯属不饱和键的化合物的液体对聚氨酯进行处理的工序的聚氨酯的改性方法。
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公开(公告)号：CN114787225A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202080085452.8
申请日：2020-12-10
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: C08G18/34 , B24B37/24 , C08G18/65 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供构成能够抑制堵塞、能够抑制损伤的发生并且能够稳定地以长寿命进行抛光的抛光层的聚氨酯、使用了该聚氨酯的抛光层、及抛光垫、以及抛光方法。本发明的聚氨酯具有至少1个以上的来自具有羧基的化合物的结构单元。另外，本发明还提供使用了该聚氨酯的抛光层、抛光垫、以及抛光方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114286737A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202080039388.X
申请日：2020-06-04
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: B24B37/24 , B24B37/26 , B24B53/017 , H01L21/304
Abstract: 一种研磨垫，其包括具有研磨面的研磨层，研磨面具备：深槽区域，其具有由深度0.3mm以上的深槽或孔形成的第一图案；台面区域，其是除深槽区域以外的区域；台面区域具有：深度0.01～0.1mm的浅凹陷，其具有第二图案；多个岛状的台面部，其由浅凹陷包围，且水平方向的最大距离为8mm以下。
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公开(公告)号：CN112423933A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980047273.2
申请日：2019-07-19
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: B24B37/24 , C08G18/65 , H01L21/304
Abstract: 本发明使用一种抛光层用聚氨酯，其用作抛光垫的抛光层的原材料，是热塑性聚氨酯，所述热塑性聚氨酯是包含高分子二醇、有机二异氰酸酯、以及扩链剂的聚氨酯原料的反应产物，其中，扩链剂包含含有碳原子数7～12的直链碳骨架的第1扩链剂50质量％以上。
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公开(公告)号：CN114286737B
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202080039388.X
申请日：2020-06-04
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: B24B37/24 , B24B37/26 , B24B53/017 , H01L21/304
Abstract: 一种研磨垫，其包括具有研磨面的研磨层，研磨面具备：深槽区域，其具有由深度0.3mm以上的深槽或孔形成的第一图案；台面区域，其是除深槽区域以外的区域；台面区域具有：深度0.01～0.1mm的浅凹陷，其具有第二图案；多个岛状的台面部，其由浅凹陷包围，且水平方向的最大距离为8mm以下。
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公开(公告)号：CN109478507B
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN201780043880.2
申请日：2017-07-26
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: H01L21/304 , B24B37/24 , C08J5/14
Abstract: 本发明提供一种具有在pH10.0下的zeta电位为+0.1mV以上的抛光面的抛光垫。优选提供一种含有具有叔胺的聚氨酯的抛光垫。进一步优选具有叔胺的聚氨酯为至少含有具有叔胺的扩链剂的聚氨酯反应原料的反应物。另外，提供一种一边供给使用了这些抛光垫的碱性抛光浆料一边进行的抛光方法。
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公开(公告)号：CN113226642A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980085424.3
申请日：2019-12-25
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 本发明提供在具有抛光稳定性及抛光对象物的平滑性优异的抛光性能、且具有即使长时间持续抛光、抛光性能的变化也小的特征的无纺布类型的抛光垫中抛光速率高的抛光垫。所述抛光垫是将无孔高分子弹性体和多孔高分子弹性体含浸于无纺布中而得到的抛光垫，其中，所述多孔高分子弹性体包含热塑性聚氨酯，所述无孔高分子弹性体的质量相对于所述多孔高分子弹性体的质量之比为0.49以下。
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