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公开(公告)号：CN102134112A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN201010625050.0
申请日：2010-12-22
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/283 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/326 , C02F2209/44
Abstract: 按照一个实施例，一种对原水例如市政水或者地下水进行杀菌、消毒或者灭活的紫外线照射装置，其包括水处理容器(6)、紫外线传感器(3)和控制器(4)。该水处理容器(6)包括供原水流入的供水端口(1a)、至少一对构造成用紫外线射流入水处理容器(6)的原水的紫外灯(8a，8b，8c，8d，8e，8f)和将经紫外线照射处理过的原水排出的出水端口(1b)。该紫外线传感器(3)构造成用来测量紫外灯(8a，8b，8c，8d，8e，8f)发出的紫外线照射量。该控制器(4)构造成用来控制紫外灯(8a，8b，8c，8d，8e，8f)的开和关。
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公开(公告)号：CN101244852A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200810087971.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种用紫外线辐射进行水净化处理的水处理系统，该系统包括：在水净化处理过程的前期过程中发射紫外光的前期紫外线辐射装置(5)，在后期过程中发射紫外光的后期紫外线辐射装置(10)，以及控制这些紫外线辐射装置的控制器(14)。
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公开(公告)号：CN101164914A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710152915.4
申请日：2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水，排出已处理的处理水的处理槽；将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置；测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段；使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率，根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系，算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段；按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率，控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。
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公开(公告)号：CN102992447B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201210270200.X
申请日：2012-07-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/283 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , C02F2303/04
Abstract: 本发明提供能够防止收纳紫外线灯的保护管破损的紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射装置具备：处理槽、紫外线照射构件、支撑构件。处理槽具有：给水口，供给作为处理对象的处理水；和排水口，将处理水排出，处理水沿从给水口朝向排水口的第一方向经过。紫外线照射构件在处理槽的内部设置于与第一方向交叉的第二方向，对朝向第一方向经过的处理水照射紫外线。支撑构件设置在沿着紫外线照射构件所设置的第二方向的方向上，两端部固定于处理槽的壁面，抑制该处理槽的变形。
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公开(公告)号：CN102295319B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201110033982.0
申请日：2011-01-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/004 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2303/04
Abstract: 本发明涉及利用了紫外线的紫外线水处理装置，即使在水的种类和水量变化时也能充分进行紫外线处理。该紫外线水处理装置具备：紫外线灯机构，在两端设置第1配管用凸缘接头，在内部设有由紫外线灯和保护该紫外线灯的灯保护管构成的紫外线照射管；清扫装置驱动机构，在两端设置第2配管用凸缘接头，对清扫上述灯保护管的表面的清扫装置进行驱动。紫外线灯机构和清扫装置驱动机构通过第1和第2配管用凸缘接头部分连结。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102992447A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210270200.X
申请日：2012-07-31
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/283 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328 , C02F2303/04
Abstract: 本发明提供能够防止收纳紫外线灯的保护管破损的紫外线照射装置。实施方式的紫外线照射装置具备：处理槽、紫外线照射构件、支撑构件。处理槽具有：给水口，供给作为处理对象的处理水；和排水口，将处理水排出，处理水沿从给水口朝向排水口的第一方向经过。紫外线照射构件在处理槽的内部设置于与第一方向交叉的第二方向，对朝向第一方向经过的处理水照射紫外线。支撑构件设置在沿着紫外线照射构件所设置的第二方向的方向上，两端部固定于处理槽的壁面，抑制该处理槽的变形。
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公开(公告)号：CN102992446A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201210268511.2
申请日：2012-07-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/004 , C02F2201/3227
Abstract: 本发明提供一种紫外线照射装置，即使在现有的设施或狭窄的场所也能够设置。此外，提供一种紫外线照射装置，能够通过连接的数量调整紫外线照射量。实施方式的紫外线照射装置具备通水体、紫外线照射部件和一对凸缘接头。通水体形成为圆筒形状，具有用于使作为处理对象的处理水通水的一对开口部。紫外线照射部件设置有一个或多个，在通水体的内部，设置在与从一个开口部朝向另一个开口部的第一方向交叉的平面内，对通过通水体的处理水照射紫外线。一对凸缘接头从通水体的一对开口部的周缘分别朝向开口外部突出，起接头作用。在具备多个紫外线照射部件的情况下，紫外线照射部件设置在与第一方向交叉的平面上。
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公开(公告)号：CN102674501A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210070972.9
申请日：2012-03-16
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/008 , C02F2201/322 , C02F2201/324 , C02F2201/326 , C02F2209/008 , C02F2209/40
Abstract: 一种紫外线照射系统，包括：紫外线照射装置，具有多个紫外线灯，向所流入的处理水照射紫外线，排出照射了紫外线的处理水；流量计，测量通过紫外线照射装置的处理水的流量；以及紫外线照射量监视控制装置，进行紫外线照射装置的紫外线照射量的监视和紫外线灯的输出控制。多个紫外线灯包括第1紫外线灯和多个第2紫外线灯。紫外线照射装置包括：第1测量头，测量从第1紫外线灯发出的紫外线的强度；和多个第2测量头，分别测量从多个紫外线灯发出的紫外线的强度。并且，第1紫外线灯与第1测量头之间的距离被设定为，由第1测量头测量的紫外线强度与第1紫外线灯的输出控制值为100％时由第1测量头测量的紫外线强度之比和换算等效紫外线照射量的关系成为一个一次函数直线。
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公开(公告)号：CN100347101C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200510067500.8
申请日：2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/78
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。水处理控制装置14求出由被处理水水质计21测得的被处理水的水质指标和由臭氧处理水水质计24测得的臭氧处理水的水质指标的差值作为水质指标的变化量。将该水质指标的变化量除以被处理水的水质指标或臭氧处理水的水质指标求出水质指标变化率。水处理控制装置14根据该水质指标变化率控制臭氧气体注入装置19，调整臭氧气体注入量。
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