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公开(公告)号：CN100347101C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200510067500.8
申请日：2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/78
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。水处理控制装置14求出由被处理水水质计21测得的被处理水的水质指标和由臭氧处理水水质计24测得的臭氧处理水的水质指标的差值作为水质指标的变化量。将该水质指标的变化量除以被处理水的水质指标或臭氧处理水的水质指标求出水质指标变化率。水处理控制装置14根据该水质指标变化率控制臭氧气体注入装置19，调整臭氧气体注入量。
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公开(公告)号：CN105452173B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201480044686.2
申请日：2014-03-13
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/283 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2201/3227 , C02F2201/326 , C02F2209/005 , C02F2209/008 , C02F2303/02 , C02F2303/04 , G01J1/4228 , G01J1/429 , G01J2001/4247 , G01N21/59
Abstract: 实施方式的紫外线照射装置具备照射部、计测部、检测部、计算部、显示部。照射部向成为处理对象的处理水照射处理用的紫外线。计测部计测透射处理水后的紫外线的紫外线强度。检测部根据通过计测部计测到的紫外线强度来检测照射部发生了劣化的情况。计算部根据与预先设定的设定值相应地从照射部照射的紫外线的紫外线强度与通过计测部计测出的紫外线强度，计算处理水的紫外线透射率。显示部显示基于检测部的照射部的劣化的检测结果以及通过计算部计算出的紫外线透射率。
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公开(公告)号：CN105473512A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480044549.9
申请日：2014-03-12
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/32 , C02F1/283 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2001/007 , C02F2103/007 , C02F2103/06 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/326 , C02F2303/04
Abstract: 实施方式的紫外线照射装具备置处理槽、紫外线照射部件、紫外线传感器、以及淤泥排出部。处理槽包括用于供给处理对象的处理水的供水口和用于排出处理水的排水口。紫外线照射部件设于处理槽的内部，对经过处理槽的内部的处理水照射紫外线。紫外线传感器设于处理槽的内部，并且测量来自紫外线照射部件的紫外线照射量。淤泥排出部与排出孔连接，该排出孔设于比通过紫外线传感器的水平面低位置，上述淤泥排出部被设为用于使处理水经过处理槽的内部时积存于处理槽的内部的淤泥经由排出孔向处理槽的外部排出。
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公开(公告)号：CN102398958A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110272017.9
申请日：2011-09-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2303/04
Abstract: 本发明提供紫外线水处理装置。具备紫外线照射单元、将被处理水导入到紫外线照射单元的水入口管和使照射了紫外线的被处理水从紫外线照射单元流出的水出口管。紫外线照射单元具备具有相互对置设置的第1及第2开口的周围壁的中空护罩。在护罩内设有紫外线照射设备，分别具备紫外线灯和保护套筒且相互平行地设置1个或1个以上，对通过中空护罩而流动的被处理水照射紫外线。在中空护罩内设有保护套筒清扫设备，具备清扫各保护套筒表面的清扫工具和驱动机构。水入口管与第1开口直接流体连通，使被处理水流入中空护罩。水出口管与第2开口直接流体连通，使照射了紫外线的被处理水从中空护罩流出。入口管及出口管的中心轴分别与中空护罩的中心轴交叉。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101244852A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200810087971.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种用紫外线辐射进行水净化处理的水处理系统，该系统包括：在水净化处理过程的前期过程中发射紫外光的前期紫外线辐射装置(5)，在后期过程中发射紫外光的后期紫外线辐射装置(10)，以及控制这些紫外线辐射装置的控制器(14)。
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公开(公告)号：CN101164914A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710152915.4
申请日：2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水，排出已处理的处理水的处理槽；将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置；测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段；使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率，根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系，算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段；按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率，控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。
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公开(公告)号：CN101069816A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200710088731.6
申请日：2007-03-20
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的目的在于实现膜组件的节省空间，同时减小原水的过滤阻力，从而使透过流束大于在通常水道用途中使用的精密滤膜或超滤膜的透过流束。本发明使用在容器(2)中装填使用了各向异性多孔质材料的膜(1)而成为一体的膜组件，装入原水进行过滤。
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公开(公告)号：CN105473511A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480044546.5
申请日：2014-03-12
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F1/52 , C02F1/76 , C02F2001/007 , C02F2201/005 , C02F2201/322 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2201/326 , C02F2209/42 , C02F2303/04 , G01J1/0295 , G01J1/429
Abstract: 实施方式的紫外线照射装置具备处理槽、紫外线照射部件、紫外线传感器、以及空气排出部。处理槽包括用于供给处理对象的处理水的供水口和用于排出处理水的排水口。紫外线照射部件设于处理槽的内部，对经过处理槽的内部的处理水照射紫外线。紫外线传感器设于处理槽的内部，并且测量来自紫外线照射部件的紫外线照射量。空气排出部与空气排出孔连接，该空气排出孔设于比通过紫外线传感器的水平面高的位置，上述空气排出部被设为用于使处理水经过处理槽的内部时积存于处理槽的内部的空气经由空气排出孔向处理槽的外部逸出。
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公开(公告)号：CN105452172A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480044545.0
申请日：2014-03-12
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3225 , C02F2201/3227 , C02F2301/026 , C02F2303/04
Abstract: 实施方式的紫外线照射装置(10)具有：主体部(22)，其配置有向已流入的被处理水(W)照射紫外线的紫外线照射管(16－1～16－3)；流入管(12)，其使被处理水向主体部的内部流入；以及流出管(14)，其使被处理水从主体部流出，以能够使沿着主体部的内壁流动的被处理水形成涡流(FR)的方式配置流入管以及流出管，因此，能够使从紫外线灯发出的全部紫外线不产生余缺地向被处理水照射，在水的种类、水量发生变化的情况下也能够进行充分的紫外线处理。
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