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公开(公告)号：CN107923035A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680050126.7
申请日：2016-12-19
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C23C14/34 , H01L21/203 , H01L21/285
Abstract: 根据实施方式的一种处理装置包括容器、工件放置单元、准直器、和磁场产生单元。工件放置单元设置在容器内部，所述工件放置单元上能够放置供粒子堆叠的工件。所述准直器被设置在所述容器内部，并包括第一表面、与所述第一表面相反侧的第二表面、以及穿透所述第一表面和所述第二表面的通孔。所述磁场产生单元被设置在所述容器内部，并且在所述通孔内部，在所述第一表面和所述第二表面之间产生磁场。
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公开(公告)号：CN107614740A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680003575.6
申请日：2016-12-19
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C23C14/34 , H01L21/203 , H01L21/285
Abstract: 根据实施例的处理装置包括物体配置部、发生源配置部和准直器。物体配置部被构造成在其上设置物体。发生源配置部设置在远离物体配置部分开的位置，并且被构造成能够向着物体发射粒子的粒子发生源设置在发生源配置部上。准直器被构造成设置在物体配置部和发生源配置部之间，其包括框架和第一整流部，第一整流包括多个第一壁，包括多个由第一壁形成并沿第一方向从发生源配置部向物体配置部延伸的第一通孔，并且被构造成可移除地附接到框架。
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公开(公告)号：CN107430986A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201580077808.2
申请日：2015-09-08
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , B05C5/00 , B05C11/08
Abstract: 根据本发明的实施方式的喷嘴设置有本体。本体中设置有：供应口，液体通过供应口被供应；排出口，液体通过排出口向下排出；以及流路，其在供应口与排出口之间延伸。流路设置有存储部和排气部。存储部包括：第一部分，液体在第一部分中朝排出口向下流动；以及第二部分，其设置在第一部分的下游，并且液体在第二部分中朝排出口向上流动。排气部能够在液体处于没有从排出口排出而被存储在存储部中的情况下将位于第二部分的上游的气体排出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107949654B
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN201680050892.3
申请日：2016-12-19
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C23C14/54 , H01L21/285
Abstract: 根据一个实施例的处理装置包括物体放置单元、源放置单元、准直器和温度调节单元。物体放置单元被配置以供物体放置。源放置单元被布置在与物体放置单元分离的位置上，并且被配置以供粒子源放置，粒子源能够朝向物体喷射粒子。准直器被配置为布置在物体放置单元与源放置单元之间，包括多个壁，并且设置有由所述多个壁形成并且从物体放置单元向源放置单元的方向延伸的通孔。温度调节单元被配置为调节准直器的温度。
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公开(公告)号：CN107430986B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201580077808.2
申请日：2015-09-08
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01L21/027 , B05C5/00 , B05C11/08
Abstract: 本文描述的实施方式总体上涉及喷嘴和液体供应装置。实施方式要解决的问题是提供具有防止滴液的新颖结构的喷嘴和液体供应装置。根据实施方式，喷嘴包括本体。本体设置有：供应口，液体被供应至供应口；排出口，液体从排出口向下排出；以及流道，其在供应口与排出口之间延伸。流道包括存储部和排气部。存储部包括：第一部分，液体通过第一部分向下流到排出口；以及第二部分，其设置在第一部分的下游，液体通过第二部分向上流到排出口。排气部能够在液体没有从排出口排出而被存储在存储部中时将第二部分的上游的气体排出。存储部包括连接第一部分和第二部分的第三部分。排气部包括通向流道中的第三部分的上游侧的部分和下游侧的部分的旁路通道。
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公开(公告)号：CN108026633B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201680052053.5
申请日：2016-12-19
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C23C14/34 , C23C14/35 , H01L21/285
Abstract: 根据实施例的处理装置包括物体放置单元、源放置单元、整流构件以及电源。所述物体放置单元被配置为具有放置在其上的物体。所述源放置单元布置成与所述物体放置单元分开并且被配置为具有放置在其上的粒子源，所述粒子源能够朝着所述物体发射粒子。在从所述源放置单元至所述物体放置单元的第一方向上，所述整流构件布置在所述物体放置单元和所述源放置单元之间。所述电源被配置为向所述整流单元施加与所述粒子中的电荷的极性具有相同极性的电压。
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公开(公告)号：CN108570662A
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201810186981.1
申请日：2018-03-07
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C23C16/455 , H01L21/67
Abstract: 根据实施方式，喷淋板包括第一构件和第二构件。所述第一构件包括设置有多个第一开口的第一壁并且在内部包括与所述第一开口连通的室。所述第二构件包括设置有第二开口并被布置在所述室中的第二壁。所述第二构件被布置在与所述第一构件间隔开的位置，并且通过改变相对于所述第一构件的所述第二构件的位置能够将面向所述第二开口的所述第一开口中的一个第一开口替换为所述第一开口中的另一个第一开口。
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公开(公告)号：CN107075669A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580048993.2
申请日：2015-11-02
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种处理装置包括发生器安装件、第一对象安装件以及第一准直器。能够发射粒子的粒子发生器放置在发生器安装件上。第一对象放置在第一对象安装件上。第一准直器放置在发生器安装件和第一对象安装件之间，并且具有第一壁和第二壁。在第一准直器中，第一壁和第二壁形成在从发生器安装件到第一对象安装件的第一方向中延伸的第一通孔。第二壁中的每一个设置有至少一个第一通道。
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