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公开(公告)号：CN1500282A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN02807249.9
申请日：2002-02-05
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01J11/12 , H01J11/24 , H01J2211/225
Abstract: 本发明的目的在于针对在基板上设置有银电极的PDP，提供较简单地抑制面板变黄的技术，由此，实现可以高亮度·高画质地进行图象显示的PDP。为此，在银电极中，作为银离子化抑制物质，包括有标准电极电位低于银的Cr，Al，In，B，Ti之类的元素或这些元素的化合物。
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公开(公告)号：CN100580849C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200680000241.X
申请日：2006-01-11
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 制造显示屏的方法包括在基板(23)上形成材料层的材料层形成步骤，将形成有材料层的基板(23)设置于支持台(20)上进行加热烘焙的烘焙步骤，支持台(20)由第一支持台(21)和设置于第一支持台(21)上的第二支持台(22)形成。第二支持台(22)和基板(23)之间的热膨胀系数差设置为小于第一支持台(21)和基板(23)之间的热膨胀系数差，并且在烘焙步骤中，基板(23)设置于第二支持台(22)上使得第二支持台(22)存在于基板(23)的周边，以抑止玻璃基板表面擦痕的产生。
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公开(公告)号：CN100545986C
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200480000241.0
申请日：2004-02-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor： 足立大辅
CPC classification number: G03F7/70283 , G03F1/70 , G03F7/203 , G03F7/70466 , G03F7/70791 , H01J9/02 , H01J2217/49207
Abstract: 本发明的目的在于实现抑制在PDP的构造物中发生缺陷，而且，能够抑制构造物的翘曲、剥离等的PDP的制造方法，在光刻法中，用开口宽度分别不同然而具备相同曝光图形的第1光掩模和第2光掩模进行两次曝光，使通过第1光掩模的第1次曝光的区域(A’)与通过第2光掩模的第2次曝光的区域(B’)的曝光量不同。
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公开(公告)号：CN100524584C
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200480000197.3
申请日：2004-02-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor： 足立大辅
CPC classification number: G03F7/203 , G03F7/70466 , G03F7/70791 , H01J9/02 , H01J9/241 , H01J2217/492 , H01J2217/49207
Abstract: 本发明实现能够抑制由于附着在光掩模上的灰尘等在PDP的构造物中发生缺陷的PDP的制造方法，在同一个工艺中进行两次光刻法中的曝光，在第一次曝光与第二次曝光之间使光掩模(22)在曝光图形偏移的允许范围内移动，使光掩模(22)移动，与其移动前后相对应进行两次曝光，能够排除由附着在光掩模(22)上的灰尘(22b)遮挡曝光而成为未感光的区域(21a)，由此，能够良好地进行感光性Ag膏膜(21)的图形曝光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1957435A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200680000241.X
申请日：2006-01-11
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 制造显示屏的方法包括在基板(23)上形成材料层的材料层形成步骤，将形成有材料层的基板(23)设置于支持台(20)上进行加热烘焙的烘焙步骤，支持台(20)由第一支持台(21)和设置于第一支持台(21)上的第二支持台(22)形成。第二支持台(22)和基板(23)之间的热膨胀系数差设置为小于第一支持台(21)和基板(23)之间的热膨胀系数差，并且在烘焙步骤中，基板(23)设置于第二支持台(22)上使得第二支持台(22)存在于基板(23)的周边，以抑止玻璃基板表面擦痕的产生。
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公开(公告)号：CN1836304A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200480000197.3
申请日：2004-02-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor： 足立大辅
CPC classification number: G03F7/203 , G03F7/70466 , G03F7/70791 , H01J9/02 , H01J9/241 , H01J2217/492 , H01J2217/49207
Abstract: 本发明实现能够抑制由于附着在光掩模上的灰尘等在PDP的构造物中发生缺陷的PDP的制造方法，在同一个工艺中进行两次光刻法中的曝光，在第一次曝光与第二次曝光之间使光掩模(22)在曝光图形偏移的允许范围内移动，使光掩模(22)移动，与其移动前后相对应进行两次曝光，能够排除由附着在光掩模(22)上的灰尘(22b)遮挡曝光而成为未感光的区域(21a)，由此，能够良好地进行感光性Ag膏膜(21)的图形曝光。
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公开(公告)号：CN1698155A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200480000241.0
申请日：2004-02-23
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor： 足立大辅
CPC classification number: G03F7/70283 , G03F1/70 , G03F7/203 , G03F7/70466 , G03F7/70791 , H01J9/02 , H01J2217/49207
Abstract: 本发明的目的在于实现抑制在PDP的构造物中发生缺陷，而且，能够抑制构造物的翘曲、剥离等的PDP的制造方法，在光刻法中，用开口宽度分别不同然而具备相同曝光图形的第1光掩模和第2光掩模进行两次曝光，使通过第1光掩模的第1次曝光的区域(A′)与通过第2光掩模的第2次曝光的区域(B′)的曝光量不同。
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公开(公告)号：CN1684915A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200380100061.5
申请日：2003-11-27
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: C03C17/06 , C03B18/20 , C03C2217/211 , C03C2217/256 , H01J2217/49264
Abstract: 本发明涉及为提高图像质量的用于图像显示装置的玻璃基板的制造方法。通过控制使浮法窑(22)内的还原力减弱，从而使玻璃基板的形成Ag电极的面上的Sn++量在规定值以下，然后，在所得到的玻璃基板的形成Ag电极的面上的Sn++量超过规定值时，通过除去该表面使之达到规定值以下，抑制玻璃基板的黄变发生。
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公开(公告)号：CN1545715A
公开(公告)日：2004-11-10
申请号：CN03800856.4
申请日：2003-04-02
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01J2211/225 , H01J2211/38
Abstract: 本发明提供一种即使使用银材料玻璃基板也不染色的、高亮度等离子显示屏的制造方法。在形成介质膜之前，去除含与大气中的硫反应沿电极的表面生成的有硫与银的化合物的层，在介质膜的烧结工序中抑制上述化合物的分解，即使在采用导电性能优良的银材料电极的场合，也能防止玻璃基板染上黄色，提供高亮度、品质优的等离子显示屏的制造方法。
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