公开(公告)号：CN102186668B

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN200980140674.9

申请日：2009-10-13

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 高根信明 ,  川村智巳 ,  西村正人

IPC: B32B27/00 ,  B32B9/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/04 ,  G02B1/10

CPC classification number: G02B1/118 ,  B29D11/00865 ,  C08K3/22 ,  C08K7/26 ,  C09D5/006 ,  C09D7/61 ,  C09D7/67 ,  G02B1/113 ,  G02B1/115 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0268 ,  G02B5/0278 ,  G02B5/0294 ,  G02B2207/107 ,  G02B2207/109 ,  Y10T428/24893

Abstract: 本发明提供低折射率膜及其制造方法，其可获得更低的折射率，能够在常温和常压下形成，且与固体基材的粘附性优异，而且不会损害微细结构所带来的扩散性或聚光性等几何光学性能。所述低折射率膜是使通过在固体基材的表面上交替吸附电解质聚合物及微粒而形成的微粒层叠膜与硅化合物溶液接触，从而使固体基材与微粒结合以及使上述微粒彼此结合而成的低折射率膜，硅化合物溶液含有(1)官能团由水解性基团和非水解性的有机基团构成的烷氧基硅烷(I)的水解物及其缩合反应产物、(2)烷氧基硅烷(I)与官能团仅由水解性基团构成的烷氧基硅烷(II)的混合物的水解物及其缩合反应产物、及(3)(1)的水解物及其缩合反应产物与烷氧基硅烷(II)的混合物中的任一者。