基板的热处理方法以及热处理炉

    公开(公告)号:CN1517962A

    公开(公告)日:2004-08-04

    申请号:CN200410001976.7

    申请日:2004-01-16

    Inventor: 青木道郎

    CPC classification number: H01J9/242 H01J9/48

    Abstract: 本发明提供一种基板的热处理方法以及热处理炉,在炉的加热室内进行含有膜形成坯料的基板的热处理时,抑制因来自室内的平均温度不同的其他相邻的加热室的热影响而在基板内产生温度分布,均匀地对基板整体进行热处理。在被热处理体的运送方向上划分的多个加热室(25、26、27、)中室内的平均温度和邻接的加热室的至少一个不同加热室中,将设置在该加热室内的各加热用电气加热器(14)的设定温度控制成在被热处理体(22)的运送方向上为不同的值,并且在该加热室中,将上述基板(基板22)的运送方向的入口一侧和出口一侧的温度维持在具有比该基板(22)内的目标温度分布大的分布,均匀地对基板(22)进行热处理。

    电子零件用脱粘合剂炉
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1401965A

    公开(公告)日:2003-03-12

    申请号:CN02123243.1

    申请日:2002-06-14

    Abstract: 本发明提供一种陶瓷片状电容器等电子零件用的脱粘合剂炉,它不会使陶瓷片状电容器等电子零件上发生龟裂,而且能使脱粘合剂处理的时间比以前缩短。它是将放置着陶瓷片状电容器3的定位器1配设成平面状,一边连续地输送、一边进行加热,由此将含在陶瓷片状电容器3中的粘合剂成分除去,其中,在炉内顶棚部上设置着作为加热源的远红外线加热器5。

    匣钵
    13.
    发明公开
    匣钵 审中-实审

    公开(公告)号:CN119713864A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202410759721.4

    申请日:2024-06-13

    Abstract: 本发明提供一种对锂正极材料的粉体效率良好地进行热处理的技术。匣钵具备箱状的陶瓷部和箱状的金属部。陶瓷部具备外底面部及自外底面部向上方突出的外侧壁部。金属部具备内底面部及自内底面部向上方突出的内侧壁部,且以能够装卸的方式配置于陶瓷部的内部。在常温状态下,金属部配置于陶瓷部的内部时,在外侧壁部与内侧壁部之间形成有余隙。外侧壁部至少具备从上端向下端凹陷的一对凹部。在俯视观察金属部时,一对凹部设置于夹着金属部的中心而对置的位置。金属部至少具备从内侧壁部的上端向外侧延伸的一对凸缘部。在金属部配置于陶瓷部的内部时,一对凸缘部位于一对凹部内。

    粉体烧成设备的运转方法
    15.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102241519B

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201110100081.9

    申请日:2011-04-20

    Abstract: 本发明提供一种粉体烧成设备的运转方法,在利用匣钵对粉体进行烧成时,不采用大规模的粉体烧成设备也能够实施各种烧成条件下的粉体烧成。该粉体烧成设备的运转方法是一种粉体烧成设备的匣钵搬送方法,包括一边使放入有粉体的匣钵依次从炉内的一端向另一端移动一边进行烧成的连续烧成工序、回收从连续烧成炉取出的匣钵内的粉体的粉体回收工序以及将在粉体回收工序中回收了粉体而变空的空匣钵向下一工序搬送的空匣钵搬送工序,其中,在粉体回收工序中,利用具有刮板状的抽吸口的粉体吸嘴以层状抽吸回收匣钵内的粉体,该抽吸口的长边的长度与匣钵的一个边的长度大致相等。

    形成于PET膜表面的涂膜的干燥方法及涂膜干燥炉

    公开(公告)号:CN103328115A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201280003396.4

    申请日:2012-12-28

    Abstract: 本发明的提供一种形成于PET膜表面的涂膜的干燥方法及涂膜干燥炉,其与现有技术相比,在更短时间内且以在已干燥的薄膜不产生压应力的方式将形成于基底薄膜表面的含有水或有机溶剂的涂膜进行干燥。在表面形成有包含具有3.5μm以下吸收光谱的水或有机溶剂的涂膜的PET膜(1),从红外线加热器(13)照射主波长为3.5μm以下的红外线,使形成有涂膜的PET膜表面接触冷却风,由此以低于PET膜的玻璃化转变温度的温度干燥PET膜,所述红外线加热器(13)的灯丝(14)的外周用保护管(15)包覆,在该保护管的周围空间设有用于形成抑制加热器表面温度上升的冷却用流体的流路(17)的隔开壁(23)。

    电子零件用脱粘合剂炉
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1221774C

    公开(公告)日:2005-10-05

    申请号:CN02123243.1

    申请日:2002-06-14

    Abstract: 本发明提供一种陶瓷片状电容器等电子零件用的脱粘合剂炉,它不会使陶瓷片状电容器等电子零件上发生龟裂,而且能使脱粘合剂处理的时间比以前缩短。它是将放置着陶瓷片状电容器(3)的定位器(1)配设成平面状,一边连续地输送,一边进行加热,由此将含在陶瓷片状电容器(3)中的粘合剂成分除去,其中,在炉内顶棚部上设置着作为加热源的远红外线加热器(5)。

    红外线处理装置
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110799264A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201880041852.1

    申请日:2018-07-03

    Inventor: 青木道郎

    Abstract: 红外线处理装置具备:红外线加热器,该红外线加热器具备发热体和超材料结构体,当从所述发热体输入有热能时,该超材料结构体能够辐射出具有非普朗克分布的最大波峰、且该最大波峰的峰值波长为2μm以上7μm以下的红外线;内管,该内管含有具有C-F键的氟系材料和氟化钙中的至少任一种、且将所述红外线加热器包围,所述峰值波长的红外线从该内管透过;以及外管,该外管将所述内管包围、且在与所述内管之间形成使得处理对象物能够流通的对象物流路。

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