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公开(公告)号：CN102033434A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010298988.6
申请日：2010-09-29
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G03F7/20 , G02B5/00 , G02F1/1335 , G02F1/13357
CPC classification number: G03F7/0007 , G02B2207/123 , G02F1/133524 , G03F7/2053
Abstract: 提供了一种光学元件制造方法，该方法能够形成多种形状且能够实现复杂功能、提高产率和降低成本。该方法包括：在上面设有遮光图案的透明基板上涂覆透明光敏树脂的步骤；经由上面设有遮光图案的透明基板，在透明光敏树脂上照射任意量的曝光光，来执行图案化，从而形成透明层的步骤；通过在透明层之间填充黑色可固化树脂来形成光吸收层的步骤；以及在透明基板弯曲的状态下，沿倾斜方向，向形成有遮光图案的透明基板的表面照射曝光光的照射步骤。
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公开(公告)号：CN102062969A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201010544871.1
申请日：2007-09-25
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/00
CPC classification number: G02F1/133524 , F21V11/06 , G02B5/00 , G02B5/223
Abstract: 本发明提出一种用于限制光在相对于光学元件表面的倾斜方向上传播的光学元件，所述光学元件包括：透明衬底；以及光线控制层，所述光线控制层形成在所述透明衬底的平坦表面上，其中，所述光线控制层具有透明部分和光吸收部分，所述透明部分具有多个独立的透明图案元件，所述独立的透明图案元件具有由所述光吸收部分分隔开并以一定间隔横向地和纵向地设置的相同的构造，所述光吸收部分在相邻的透明图案元件之间形成，并且具有纵向线和横向线的栅格状平面图案，以及所述独立的透明图案的平面图案具有多边形形状，所述多边形形状的边与所述透明衬底的边成倾斜位置的方式设置。
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公开(公告)号：CN101042489B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200710087825.1
申请日：2007-03-19
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/30 , G02F1/133
CPC classification number: G09G3/36 , G02F1/1323 , G02F1/133305 , G02F1/13471 , G02F2202/40 , G09G2300/023 , G09G2320/068
Abstract: 提供了一种能够改变视角范围并适用于减小厚度和重量的显示设备。一个补偿面板具有如下结构：具有双折射的两个聚合物薄膜附着在一起。聚合物薄膜的双折射方向与液晶曲线方向平行或正交。类似地，另一补偿面板具有如下结构：具有双折射的两个聚合物薄膜附着在一起。聚合物薄膜的双折射方向与液晶取向方向平行或正交。由于补偿面板不包括玻璃衬底而包括聚合物薄膜，所以显示设备可以是轻薄的。
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公开(公告)号：CN102043281A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010510294.4
申请日：2010-10-13
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/133524 , G02F1/13476 , G02F1/135
Abstract: 本发明的图像形成设备包括：功能元件基板，在所述功能元件基板中以预定周期布置像素；形成在所述功能元件基板上的相对基板；和光学装置，所述光学装置布置在所述相对基板上，所述光学装置包括以布置所述像素的所述周期的1/n(n为整数)的周期布置的透明层和光学吸收层，并且所述光学装置限制透射光的扩散。
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公开(公告)号：CN101231461A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200710305780.0
申请日：2007-10-09
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G03F7/00 , G02F1/1335 , H01J17/49
CPC classification number: B29D11/0074 , G02F1/133524 , G03F7/0007
Abstract: 一种依据本发明的光学元件制造方法，包括：在透明光敏树脂上设置掩模；通过所述掩模向所述透明光敏树脂施加曝光光，使所述透明树脂形成图案，以形成透明层；通过用黑色可固化树脂填充所述透明层中的缝隙，来形成光吸收层；以及用所述曝光光以一定角度照射掩模的掩模表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101153923B
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200710162923.7
申请日：2007-09-27
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02B5/00 , G02F1/13357 , G02F1/1335 , H01J17/49 , G09F9/00
CPC classification number: G02B5/201 , G02B5/003 , G02F1/1323 , G02F1/133606 , G02F2001/133607
Abstract: 本发明提供了一种光学元件和照明光学装置、显示装置和电子装置，其中包括称为微窗的光学元件。微窗包括其中交替地设置具有恒定重复周期的透明层和光吸收层的周期性结构。通过光吸收层限制通过透明层的光束的出射方向的范围。周期性结构包括沿与其中重复地设置了透明层和光吸收层的方向交叉的方向划分的周期性结构区段。在周期性结构区段中，在彼此相邻的周期性结构中，在每一个周期性结构的空间频率的相位中存在180°的差。
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公开(公告)号：CN101038394B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200710086313.3
申请日：2007-03-13
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/13471 , G09G3/2025 , G09G3/3611 , G09G2300/023 , H04N13/341 , H04N2013/403
Abstract: 一种能够方便地切换正常显示和隐蔽显示的视觉可控的显示装置。显示屏和调制器配置在两块偏光板之间。显示屏进行正常显示驱动。其间，调制器以高于显示屏两倍速度的速度进行驱动操作，并对显示屏的显示图像进行调制。当显示希望隐蔽的图像时，选择调制器处于不起作用的周期并通过光闸进行观察。通过停止调制器的作用，能观看正常的显示，如没有光闸那样。
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公开(公告)号：CN101435952A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810173802.7
申请日：2008-10-29
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/13357 , G09G3/34
Abstract: 本发明提供一种能够转换视角的范围且同时能降低装置的成本和厚度的液晶显示装置，并且提供一种具有所述液晶显示装置的电子设备。根据本发明的显示装置包括：液晶式显示面板，所述液晶式显示面板具有以漫射方式反射从前侧辐射的光线并同时透射来自后侧的光线的漫射反射部分；以及背光源，所述背光源沿显示面板设置在显示面板的背面上，用于可转换地输出不同方向性的透射光线。
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公开(公告)号：CN101169491B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200710180292.1
申请日：2007-10-23
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02B5/00 , G02F1/1333
CPC classification number: G02B5/0278 , G02B5/005 , G02B5/0231 , G02B5/0252 , G02F1/133504 , G02F1/133524
Abstract: 一种光学元件包括：微窗，包括交替地设置的透明层和光吸收层，光吸收层限制其中通过透明层出射的光的方向的范围；以及设置在微窗上的漫射层。视场角度按照这样的方式变化：通过光学元件的外围区的光的视场角度比通过光学元件的中心区域的光的视场角度小。
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公开(公告)号：CN102043282A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010510332.6
申请日：2010-10-14
Applicant: NEC液晶技术株式会社
Inventor： 三村广二
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/13476 , G02F1/133524 , G02F1/135 , G02F1/13718 , G02F2001/13345 , G02F2001/1351
Abstract: 本发明提供一种光学写入设备。一种将要被记录的图像光输出到显示记录介质的光学写入设备。其光学元件包括二维周期结构体，该二维周期结构体包括沿着与以重复方式交替地布置透明层和光吸收层的方向正交的方向分划的周期结构部分。该周期结构部分的至少一部分具有如此周期结构，即，其中通过改变在正交的方向上相邻的透明层的空间频率的相位而交替地布置透明层和光吸收层。透明层和光吸收层在二维周期结构体的两个正交方向的重复周期节距被设为相互匹配，并且该重复周期节距被设为比空间光调制元件的像素的布局节距更窄。
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