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公开(公告)号：CN110382867A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015643.X
申请日：2018-02-20
Applicant: 日本电产株式会社
Abstract: 提供能够通过简单的结构而顺畅地喷出液滴的液滴喷出装置。液滴喷出装置(10)具有：液体贮存部(11)，其具有液体喷出口(11e)；隔膜(12)，其使液体贮存部(11)的容积改变；压电元件(13)，其对隔膜(12)施加加压振动；以及控制部(14)，其向压电元件(13)输出驱动电压信号(VR)。驱动电压信号(VR)包含喷出信号(VP)和振幅比喷出信号(VP)的振幅小的高频信号(VQ)。
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公开(公告)号：CN115815075A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211459934.2
申请日：2020-02-18
Applicant: 日本电产株式会社
Abstract: 本发明提供呈有端状地连续涂敷液剂的涂敷方法，包括：将涂敷结束的状态下的液剂的第一端部以及第二端部之间的中途部分中的任一位置决定为涂敷开始位置及涂敷结束位置的工序；从上述涂敷开始位置至上述第一端部为止涂敷液剂的第一涂敷工序；从上述第一端部折回而至上述第二端部为止涂敷液剂的第二涂敷工序；以及从上述第二端部折回而至上述涂敷结束位置为止涂敷液剂的第三涂敷工序，在上述第二涂敷工序中要涂敷的液剂的至少一部分与在上述第一涂敷工序中涂敷的液剂在高度方向上重叠，并且在上述第三涂敷工序中要涂敷的液剂的至少一部分与在上述第二工序中涂敷的液剂在高度方向上重叠。
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公开(公告)号：CN110267746B
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN201880006795.3
申请日：2018-01-11
Applicant: 日本电产株式会社
Abstract: 涂敷装置具有：涂敷头，其具有填充有涂敷液的内部空间和与所述内部空间连续的吐出口；涂敷液供给部，其向所述涂敷头的所述内部空间提供所述涂敷液；涂敷液排出部，其具有与所述内部空间连接的排出流路，将所述内部空间的所述涂敷液经由所述排出流路排出；液体下滴检测部，其检测从所述吐出口下滴的所述涂敷液；以及控制部，所述控制部根据所述液体下滴检测部的输出而对所述涂敷液供给部和所述涂敷液排出部中的至少一方进行控制，由此形成所述涂敷液从所述吐出口下滴的液体下滴状态。
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公开(公告)号：CN112638544A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980056529.6
申请日：2019-08-28
Applicant: 日本电产株式会社
Abstract: 涂敷头具备：涂敷液室，其填充有所述涂敷液；以及喷嘴室，其是从所述涂敷液室连续的流路，其前端开口是所述排出口。控制部具备排出参数决定部，该排出参数决定部将能够与所述涂敷头的排出动作并行地从涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的每单位时间的体积作为补给流量，根据所述补给流量和所述喷嘴室的容积，决定所述液滴从所述涂敷头连续排出的连续排出期间的排出参数。所述连续排出期间包含从所述排出口排出的所述涂敷液的每单位时间的体积比所述补给流量大的增量排出期间，并且，在所述连续排出期间从所述排出口排出的所述涂敷液的总体积为所述喷嘴室的容积与在所述连续排出期间从所述涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的总体积的和以下。
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公开(公告)号：CN110267746A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201880006795.3
申请日：2018-01-11
Applicant: 日本电产株式会社
Abstract: 涂敷装置具有：涂敷头，其具有填充有涂敷液的内部空间和与所述内部空间连续的吐出口；涂敷液供给部，其向所述涂敷头的所述内部空间提供所述涂敷液；涂敷液排出部，其具有与所述内部空间连接的排出流路，将所述内部空间的所述涂敷液经由所述排出流路排出；液体下滴检测部，其检测从所述吐出口下滴的所述涂敷液；以及控制部，所述控制部根据所述液体下滴检测部的输出而对所述涂敷液供给部和所述涂敷液排出部中的至少一方进行控制，由此形成所述涂敷液从所述吐出口下滴的液体下滴状态。
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