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公开(公告)号：CN118550007A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410191766.6
申请日：2024-02-21
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供能够抑制光学膜制造时的卷曲的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法的其特征在于，其是包括基材(11)、第一光学层(12)及第二光学层(13)的光学膜的制造方法，包括：第一光学层形成工序，其在基材(11)的一个面上形成第一光学层(12)；和第二光学层形成工序，其在上述第一光学层形成工序之后，在基材(11)的另一个面上形成第二光学层(13)，在上述第一光学层形成工序中，以第一光学层(12)的宽度与基材(11)的宽度的关系满足下述数学式(1)的方式形成上述第一光学层。0.8≤(HC1a/P1)≤0.95(1)，HC1a是第一光学层(12)的宽度[mm]，P1是基材(11)的宽度[mm]。
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公开(公告)号：CN113661418B
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202080027544.0
申请日：2020-04-08
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/02 , B32B7/023 , B32B27/18 , G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种能够抑制反射眩光的防眩性薄膜。一种防眩性薄膜(10)，其特征在于，其为在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩层(B)(12)的防眩性薄膜(10)，在防眩性薄膜(10)中的防眩层(B)述数学式(1)和(2)。Ry≥1.7(1)θa≥0.7(2)所述数学式(1)中，Ry为所述凹凸的凸部的最大高度[μm]，所述数学式(2)中，θa为所述凹凸的平均倾斜角[°]。(12)侧的最表面上形成有凹凸，所述凹凸满足下
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公开(公告)号：CN115461661A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180031614.4
申请日：2021-03-25
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供一种带防反射层的圆偏光板，其透过率高且在高温高湿环境下的耐久性优异，其结果，能够实现明亮且在高温高湿环境下抑制了显示不均的图像显示装置。本发明的实施方式的带防反射层的圆偏光板具有：包含偏光件的偏光板、配置在偏光板的一侧的防反射层、以及配置在偏光板的另一侧的相位差层。带防反射层的圆偏光板的透过率为45.5％以上，在60℃和90％RH下进行500小时的加热加湿试验后的反射率为2.5％以下。
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公开(公告)号：CN115151843A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016863.6
申请日：2021-02-26
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够应用于具有相机功能的图像显示装置、且不会阻碍相机功能的防眩膜。本发明的防眩膜具备透明基材和配置于该透明基材的至少一个面上的防眩层，该防眩层由防眩区域和非防眩区域构成。在一个实施方式中，所述非防眩区域为所述防眩层的贯通孔。在一个实施方式中，在所述非防眩区域中，所述防眩层的与所述透明基材成相反侧的表面为平滑面。
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公开(公告)号：CN114573849A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202111431413.1
申请日：2021-11-29
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供不损害透明层的透明性的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、光学构件的制造方法及图像显示装置的制造方法。光学薄膜的制造方法的特征在于，在非透明层的贯通孔内形成透明层，掩蔽材料被覆工序中用形成有透明层形成用贯通孔的掩蔽材料被覆基材的一个面，透明层形成工序中在透明层形成用贯通孔内涂覆透明层形成用液从而形成透明层，掩蔽材料去除工序中将掩蔽材料从基材去除，非透明层形成工序中在基材的透明层形成面上涂覆非透明层形成用液从而形成非透明层，透明层形成用贯通孔外周的掩蔽材料的最小厚度T2(μm)与透明层的最薄部的厚度T1(μm)的比值T2/T1为3以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110895356B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201910758363.4
申请日：2019-08-16
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B1/11 , G02B1/14 , G02F1/1335 , H01L27/32
Abstract: 本发明提供耐擦伤性优异的防反射膜。其特征在于，在透光性基材(A)的至少一个面上以下述顺序层叠有硬涂层(B)及防反射层(C)，构成防反射层(C)的元素至少包含碳及氟，通过X射线光电分光法而测定的防反射层(C)的原子数在与硬涂层(B)相反侧的表面满足下述数学式(1)及(2)，并且在距离上述表面的深度为15～30nm的范围内满足下述数学式(3)，7≤[(nF/ntotal)×100]≤27 (1);30≤[(nc/ntotal)×100]≤41 (2);[(nF/ntotal)×100]≤0.5 (3);其中，ntotal为碳、氮、氧、硅及氟的原子数的合计，nF为氟原子数，nc为碳原子数。
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公开(公告)号：CN113661418A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202080027544.0
申请日：2020-04-08
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/02 , B32B7/023 , B32B27/18 , G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种能够抑制反射眩光的防眩性薄膜。一种防眩性薄膜(10)，其特征在于，其为在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩层(B)(12)的防眩性薄膜(10)，在防眩性薄膜(10)中的防眩层(B)(12)侧的最表面上形成有凹凸，所述凹凸满足下述数学式(1)和(2)。Ry≥1.7(1)θa≥0.7(2)所述数学式(1)中，Ry为所述凹凸的凸部的最大高度[μm]，所述数学式(2)中，θa为所述凹凸的平均倾斜角[°]。
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公开(公告)号：CN113039463A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980075233.9
申请日：2019-11-13
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供一种抑制了白雾的发生的防眩性薄膜。本发明的防眩性薄膜的特征在于，其为在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩层(B)(12)的防眩性薄膜(10)，防眩性薄膜(10)的防眩层(B)(12)侧的最表面形成有凹凸，所述凹凸满足下述数学式(1)和(2)。θa≤0.24(1)Rz≤0.20(2)所述数学式(1)中，θa为所述凹凸的平均倾斜角[°]，所述数学式(2)中，Rz为所述凹凸的十点平均高度[μm]。
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公开(公告)号：CN110636943A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201880032554.6
申请日：2018-04-20
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 透明导电性薄膜依次具备第1透明导电层、第1光学调整层、透明基材、第2光学调整层及第2透明导电层。第2透明导电层的表面电阻值比第1透明导电层的表面电阻值大，第1透明导电层的表面电阻值为10Ω/□以上且70Ω/□以下，第2透明导电层的表面电阻值为50Ω/□以上且150Ω/□以下，第2光学调整层的折射率比第1光学调整层的折射率低。
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公开(公告)号：CN106873053B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201610900695.8
申请日：2013-06-28
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明涉及防眩性薄膜的制造方法、防眩性薄膜、偏振片和图像显示装置。本发明提供一种能够不依赖粒子所具有的凝聚特性地对粒子的凝聚状态进行控制，并由此能够形成具有所期望的表面凹凸形状的防眩层的防眩性薄膜的制造方法，其特征在于，其为包含在透光性基材的至少一面上涂布涂布液的工序、和使所述涂布液固化而形成防眩层的工序的防眩性薄膜的制造方法，其中，所述涂布液含有树脂、粒子、触变性赋予剂和溶剂，并且，所述制造方法还包含使涂布在所述透光性基材上的所述涂布液发生剪切的工序，通过所述剪切，使所述粒子集中，从而形成所述防眩层的表面形状。
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