公开(公告)号：CN114514204A

公开(公告)日：2022-05-17

申请号：CN202080069406.9

申请日：2020-10-14

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 田中英明 ,  加藤裕幸 ,  新野和久

IPC: C02F1/32 ,  A61L2/10

Abstract: 流体杀菌装置(1)具有壳体(5)的筒体(5c)、供流体流入于筒体(5c)的流入口(5a)、设置在筒体(5c)的外周上的流出口(5d)、设置在与流入口(5a)是相反一侧的端部的光源(3)以及石英盖(9)。壳体(5)具有供流体在轴向上流动的流路，石英盖(9)由筒部(9a)和顶端部(9b)构成，并供紫外光透过、聚光或发散。石英盖(9)的筒部(9a)嵌合于筒体(5c)的内壁，边界部(9c)配置在与流出口(5d)的距光源(3)较近一侧的端面(X)一致的位置或者比端面(X)更突出的位置上。

公开(公告)号：CN119562835A

公开(公告)日：2025-03-04

申请号：CN202380054045.4

申请日：2023-06-26

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 田中英明 ,  加藤裕幸 ,  新野和久 ,  川崎和亮 ,  佐野谅

IPC: A61L2/10 ,  C02F1/32

Abstract: 壳体主体(12)及外罩(14)构成壳体。直管(18)及光源装置(19)沿轴向内插于壳体内。导出流路(35)形成于壳体内，与形成于直管(18)的光源装置(19)侧的切口(181)连通。屏蔽环(20)具有比壳体更高的耐紫外线性。屏蔽环(20)的锥形部(201)划分出导出流路(35)，并且，保护壳体受从切口(181)漏出到直管(18)之外的紫外线的影响。

公开(公告)号：CN111320229B

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN201911272502.9

申请日：2019-12-12

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 加藤裕幸 ,  田中英明

IPC: A61L2/10 ,  C02F1/32

Abstract: 本发明提供一种流体杀菌装置。利用该流体杀菌装置能够使流体的速度分布均匀化而减少紫外光的照射时间的偏差，从而提高杀菌效率。流体杀菌装置(1)具备：筒体(5)，其具有供杀菌对象的流体流动的流路；设置在筒体(5)的一端侧的流出口(6a)；设置在筒体(5)的另一端侧的流出口(7a)；向流体照射紫外线的光源(3)；以及设置在流路内且具有圆柱状的贯通孔的整流板(12)。整流板(12)由从其中心向流路的径向延伸的内周区域Rin和向内周区域Rin的外侧延伸的外周区域Rout构成，外周区域Rout中的板厚t相对于贯通孔的直径d之比(t/d)out大于内周区域Rin中的板厚t相对于贯通孔的直径d之比(t/d)in。

公开(公告)号：CN117062631A

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202280022175.5

申请日：2022-02-24

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 田中英明 ,  加藤裕幸 ,  新野和久

IPC: A61L2/10

Abstract: 液体杀菌装置(10)具备：外侧管(22)，其使作为杀菌对象的流体沿轴向从一端侧流向另一端侧；整流板(42)，其具有在轴向上直径从一端侧朝向另一端侧增大的多个锥形孔(43)；以及，光源(67)，其对相对于整流板(42)是另一端侧的杀菌处理空间(39)照射紫外光。

公开(公告)号：CN111320229A

公开(公告)日：2020-06-23

申请号：CN201911272502.9

申请日：2019-12-12

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 加藤裕幸 ,  田中英明

IPC: C02F1/32 ,  A61L2/10

Abstract: 本发明提供一种流体杀菌装置。利用该流体杀菌装置能够使流体的速度分布均匀化而减少紫外光的照射时间的偏差，从而提高杀菌效率。流体杀菌装置(1)具备：筒体(5)，其具有供杀菌对象的流体流动的流路；设置在筒体(5)的一端侧的流出口(6a)；设置在筒体(5)的另一端侧的流出口(7a)；向流体照射紫外线的光源(3)；以及设置在流路内且具有圆柱状的贯通孔的整流板(12)。整流板(12)由从其中心向流路的径向延伸的内周区域Rin和向内周区域Rin的外侧延伸的外周区域Rout构成，外周区域Rout中的板厚t相对于贯通孔的直径d之比(t/d)out大于内周区域Rin中的板厚t相对于贯通孔的直径d之比(t/d)in。

公开(公告)号：CN111265680A

公开(公告)日：2020-06-12

申请号：CN201911219052.7

申请日：2019-12-03

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 田中英明 ,  加藤裕幸 ,  新野和久

IPC: A61L2/10 ,  A61L2/26

Abstract: 本发明提供一种光源模块装置、流体杀菌装置。其能够以小型且简易的结构进行紫外线的配光控制。光源模块装置(7)具备：基板(4)、安装在基板(4)上且射出紫外光的光源(3)、以包围光源(3)的方式配置在基板(4)上并以内表面反射紫外光将其向照射对象的方向引导的反射器(8)、以及以覆盖反射器(8)外周的方式安装并对紫外光进行聚光或扩散的盖状的光学部件(9)。

公开(公告)号：CN110170061A

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201910125311.3

申请日：2019-02-20

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 加藤裕幸 ,  松田纯司 ,  松本尚子 ,  儿玉智昭

IPC: A61L2/10 ,  C02F1/32

Abstract: 本发明涉及一种具有多个整流板的流体处理设备。该流体处理设备包括：外壳，所述外壳具有流体入口管和流体出口管；彼此平行的带孔的多个整流板，所述多个整流板在所述流体入口管那一侧设置在所述外壳内，所述整流板垂直于所述外壳的纵向轴线；以及光源，所述光源用紫外线照射从所述流体入口管穿过所述外壳通向所述流体出口管的流体。

公开(公告)号：CN101283122B

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN200680037146.7

申请日：2006-08-08

Applicant: 斯坦雷电气株式会社

Inventor： 加藤裕幸 ,  佐野道宏

IPC: C30B23/08 ,  C23C14/08 ,  C30B29/16

CPC classification number: C30B29/16 ,  C23C16/405 ,  C30B25/14

Abstract: 本发明涉及氧化锌晶体，它的生长方法和发光器件的生产方法。ZnO晶体生长方法具有下述步骤：(a)制备具有能够生长暴露Zn极性平面的ZnO晶体的表面的基质；(b)在基质表面上通过交替重复富Zn条件期间和富O条件期间供给Zn和O；和(c)在步骤(b)供给Zn和O的同时在基质表面上供给导电型确定杂质。