-
公开(公告)号：CN103827751A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280047789.5
申请日：2012-09-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0388 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/405
Abstract: 提供一种图案形成方法，所述方法包括(1)通过使用电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物形成膜的步骤，(2)通过使用电子束或极紫外线射线将所述膜曝光的步骤；和(3)通过使用包含有机溶剂的显影液将所曝光的膜显影的步骤，其中所述电子束敏感或极紫外线敏感树脂组合物包含：(A)树脂，所述树脂包含(R)具有能够在用电子束或极紫外线射线照射时分解以产生酸的结构部分的重复单元；以及(B)溶剂。
-
公开(公告)号：CN112602019B
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN201980055055.3
申请日：2019-07-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/16 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂，包含源自设为均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的非酸分解性的重复单元和具有酸分解性基团的重复单元；及化合物，由通式(P‑1)表示。环Q1是4～6元环。其中，环Q1可以与其他环形成稠合环。作为环元素，环Q1具有至少2个碳原子，与S+直接键合的环元素的原子为碳原子。RP1～RP5分别独立地表示氢原子、羟基、卤原子、烷基、芳基、杂芳基或烷氧基。RP1～RP5中的至少2个可以键合而形成环。Z‑表示非亲核性阴离子。#imgabs0#
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109643063B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201780052943.0
申请日：2017-08-23
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，上述树脂包含由下述通式(I‑1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)。式中，R11及R12分别独立地表示氢原子或烷基。R13表示氢原子或烷基、或者是单键或亚烷基，且与式中的L或Ar键合形成环。L表示单键或2价的连接基团。Ar表示芳香环。n表示2以上的整数。
-
公开(公告)号：CN112602019A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201980055055.3
申请日：2019-07-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/16 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂，包含源自设为均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的非酸分解性的重复单元和具有酸分解性基团的重复单元；及化合物，由通式(P‑1)表示。环Q1是4～6元环。其中，环Q1可以与其他环形成稠合环。作为环元素，环Q1具有至少2个碳原子，与S+直接键合的环元素的原子为碳原子。RP1～RP5分别独立地表示氢原子、羟基、卤原子、烷基、芳基、杂芳基或烷氧基。RP1～RP5中的至少2个可以键合而形成环。Z‑表示非亲核性阴离子。
-
-
公开(公告)号：CN109923183A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201780069018.9
申请日：2017-11-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09D183/04 , B32B7/02 , B32B27/00 , C01B33/12 , C09D5/02 , C09D7/63 , C09D7/61 , C09D201/10 , G02B1/11 , G02B1/111 , H01L31/0216
Abstract: 本发明提供一种包含数均一次粒径为5nm～200nm的非离子性聚合物粒子和由下述式1表示的水解性硅烷化合物的涂布组合物、作为上述涂布组合物的固化物的防反射膜、包含上述防反射膜的层叠体及其制造方法、以及具备上述层叠体的太阳能电池模块。式1中，X表示水解性基团或卤原子，Y表示非水解性基团，n表示0～2的整数。
-
公开(公告)号：CN103827750A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280044672.1
申请日：2012-09-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0041 , C08F12/20 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F212/32 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2037 , G03F7/2059 , G03F7/325 , H01J37/3174
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法以下列顺序包括：步骤(1)：用电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物形成膜，所述电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物含有树脂(A)、化合物(B)和溶剂(C)，所述树脂(A)具有酸分解性重复单元并且能够通过酸的作用降低所述树脂(A)在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，所述化合物(B)能够在用电子束或极紫外线辐射照射时产生酸；步骤(2)：用电子束或极紫外线辐射将所述膜曝光；和步骤(4)：在所述膜的曝光之后通过用包含有机溶剂的显影液将所述膜显影而形成阴图型图案，其中基于所述组合物的全部固体含量，所述化合物(B)的含量是21质量％至70质量％。
-
-
-
-
-
-
Search Results
17
records
(took 0.03 seconds)
