公开(公告)号：CN112415638A

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN202011380849.8

申请日：2016-05-27

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 小野行弘

IPC: G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  B32B7/023 ,  B32B7/12 ,  B32B9/00 ,  B32B27/20 ,  C08J7/046 ,  C08J7/00 ,  C09D171/02 ,  C09D7/61 ,  C08L67/02

Abstract: 本发明涉及层叠薄膜的制造方法，该方法具有：露出工序，在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面，使金属氧化物粒子露出；及成膜工序，在所述硬涂层的金属氧化物粒子露出面形成密合层，所述密合层包含具有与所述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与所述金属氧化物粒子同种的金属；所述露出工序中，对硬涂层的表面进行蚀刻，所述蚀刻后的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra为2nm以上12nm以下。由此，密合层与硬涂层的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。