利用磁控溅射技术制备Ni/SiO<sub>2</sub>玻璃衰减片的装置

    公开(公告)号:CN206157055U

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201621230741.X

    申请日:2016-11-16

    Abstract: 传统的衰减片采用在玻璃基底上通过化学镀或真空蒸镀膜,使用有害化学物质,污染环境,成本较高。一种利用磁控溅射技术制备Ni/SiO2玻璃衰减片的装置,其组成包括:真空室,真空室(1)为圆柱形,侧面具有取物口和探视窗口,真空室下部中心具有可调支架(13),可调支架的调整位置位于真空室外,可调支架上安装有正电极(14),正电极上放置有工件(15),真空室上部中心具有发射电极(23),发射电极上连接有溅射靶(24),真空室的侧壁上还安装有传感器(22)和加热器(16),传感器和加热器导线(20)连接于真空室外安装的温控器(19)。本实用新型申请应用于利用磁控溅射技术制备Ni/SiO2玻璃衰减片的装置。

    等离子热喷涂法制备的热障涂层

    公开(公告)号:CN206375987U

    公开(公告)日:2017-08-04

    申请号:CN201621187475.7

    申请日:2016-11-04

    CPC classification number: Y02T50/6765

    Abstract: 一种等离子热喷涂法制备的热障涂层。由于飞机发动机热端组件的工作温度可高达1350℃,因此需要用到许多先进结构材料制备热障涂层(TBCs)来冷却发动机热端组件。一种等离子热喷涂法制备的热障涂层,其组成包括:高温合金基体、Ni/Al粘结层和纳米CYSZ陶瓷热障涂层,所述的高温合金基体(1)表面连接Ni/Al粘结层(2),所述的Ni/Al粘结层连接纳米CYSZ陶瓷热障涂层(3)。本实用新型申请涉及喷涂防护与发动机热防护领域,特别应用于等离子热喷涂法制备的发动机构件表面。

    金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片

    公开(公告)号:CN203551814U

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201320768018.7

    申请日:2013-11-29

    Inventor: 汤卉 李磊 张剑峰

    Abstract: 本实用新型涉及一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片。目前,普遍使用的光纤结构包括中间的纤芯,以及外部依次包裹的包层、涂覆层和保护层,这种结构增加了制作和使用成本,体积大。需要制作体积小、重量轻、精确度高、稳定可靠、使用方便是人们对光衰减器的基本要求的光衰减片。一种金属镀膜的二氧化硅玻璃光衰减片,其组成包括:二氧化硅基片(1),所述的二氧化硅基片表面蒸镀金属膜(2),所述的金属膜为铝膜、铜膜或铬膜中的一种。本实用新型应用于光衰减片。

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