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公开(公告)号:CN110842723A
公开(公告)日:2020-02-28
申请号:CN201911212100.X
申请日:2019-12-02
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
Abstract: 本发明公开了一种多磨头柔性研磨装置,包括:控制模块;驱动模块,并且包括:设置在控制模块下方的驱动电机以及与驱动电机相连接的联轴器,所述联轴器与输入轴相连接;调节模块,并且包括:通过输入轴与驱动模块相连接的固定法兰盘,所述固定法兰盘上开设有T形槽,所述T形槽内设有挡板,所述挡板通过弹性元件与T形滑块相连接,所述T形滑块通过滑杆与旋转法兰盘的基座相连接,所述旋转法兰盘上设有力控传感器;研磨模块,并且包括:通过力控传感器与调节模块相连接的弹性伸缩杆,所述弹性伸缩杆与研磨头相连接,该装置结构简单,便于操作,实时调整研磨的加载力,实现稳定、精准、高效的加工过程。
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公开(公告)号:CN108555773A
公开(公告)日:2018-09-21
申请号:CN201810100555.1
申请日:2018-02-01
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
IPC: B24B37/27
Abstract: 本发明提供一种超薄零件研磨抛光夹具:在所述研磨抛光夹具的工作面上设置有多个孔通过负压吸附原理夹持超薄零件;所述研磨抛光夹具的工作面上设置有多个孔为规则的。本发明的超薄零件研磨抛光夹具对工件的厚度和尺寸适用范围广,对工件的材料无特殊要求;夹具在装片和卸片时采用气压作为动力,冲击载荷小,工件不易破碎,加工后工件易于清洗;利用多个分散的规则孔对工件进行吸附,优化确定规则孔最优的排列方式和尺寸,夹持过程中应力分布均匀,避免了应力集中导致的工件应力变形;夹具在实际加工中装夹可靠,减少加工中因飞片造成的工件破碎,提高加工的良品率;夹具结构简单,操作方便,具有很好的推广应用前景。
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公开(公告)号:CN112936070B
公开(公告)日:2022-09-06
申请号:CN202110245342.X
申请日:2021-03-05
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
Abstract: 本发明提供一种固结磨料抛光垫及易潮解晶体溴化镧干式抛光方法,固结磨料抛光垫中包含反应物、催化剂、磨粒以及固化剂和结合剂,抛光方法采用固结磨料抛光垫抛光溴化镧晶体,不使用液体抛光介质的干式固结磨料抛光,反应物与溴化镧晶体在催化剂的作用下发生固相化学反应生成过渡层,在磨粒和抛光垫的机械作用下被去除,获得光滑表面。本发明解决了溴化镧晶体抛光过程中易溶于水、吸水易开裂的问题,材料利用率高、加工成本低,提高了溴化镧晶体表面质量,避免了液体抛光介质对抛光设备的化学腐蚀,不会造成环境污染。
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公开(公告)号:CN112959233B
公开(公告)日:2022-08-16
申请号:CN202110246315.4
申请日:2021-03-05
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
Abstract: 本发明公开一种固结磨料抛光垫及易潮解KDP晶体干式抛光方法,抛光方法为采用固结磨料抛光垫抛光KDP晶体、不使用液体抛光介质的干式固结磨料抛光,固结磨料抛光垫包含有磨粒、反应物、催化剂、固化剂和结合剂。抛光垫中反应物与KDP晶体发生固相化学反应,生成的过渡层在磨粒的机械作用下被去除,获得光滑表面。本发明解决了KDP晶体易潮解的问题,提高了KDP晶体的加工效率,简化了KDP晶体抛光工艺,同时还有环境友好,成本低等优点。
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公开(公告)号:CN108188948B
公开(公告)日:2021-08-06
申请号:CN201711364374.1
申请日:2017-12-18
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
Abstract: 本发明公开一种多层磨粒砂带结构,它包括底布、网布和磨粒层,底布和网布间涂布底胶层,磨粒层由超硬磨粒或聚集体磨粒固化于基体中制成。本发明还公开了一种多层磨粒砂带制造方法,1.将底布涂布底层胶与网布结合;2.按要求称量所需的磨粒、树脂、功能性添加剂和固化剂;超硬磨粒、树脂粘结剂和功能性添加剂,混合均匀制成混合物;再加入固化剂,并混合均匀;3.将含磨粒的混合物,倒入备好的模具中,将结合有网布的底布完全盖住模具并压平经光固化机或硫化机固化成型,得到砂带成品。本发明排屑效果佳、连续无边纹,磨削效率高、无需修正可长时间稳定工作,使用寿命长,且磨粒层在磨削时不易脱落,加工工件表面质量优于目前类似产品。
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公开(公告)号:CN112936070A
公开(公告)日:2021-06-11
申请号:CN202110245342.X
申请日:2021-03-05
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
Abstract: 本发明提供一种固结磨料抛光垫及易潮解晶体溴化镧干式抛光方法,固结磨料抛光垫中包含反应物、催化剂、磨粒以及固化剂和结合剂,抛光方法采用固结磨料抛光垫抛光溴化镧晶体,不使用液体抛光介质的干式固结磨料抛光,反应物与溴化镧晶体在催化剂的作用下发生固相化学反应生成过渡层,在磨粒和抛光垫的机械作用下被去除,获得光滑表面。本发明解决了溴化镧晶体抛光过程中易溶于水、吸水易开裂的问题,材料利用率高、加工成本低,提高了溴化镧晶体表面质量,避免了液体抛光介质对抛光设备的化学腐蚀,不会造成环境污染。
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公开(公告)号:CN110893581B
公开(公告)日:2021-05-28
申请号:CN201911212103.3
申请日:2019-12-02
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
Abstract: 本发明公开了一种液动式柔性抛光装置,包括:驱动模块;调节模块;抛光模块;并且包括:设置在支撑座下端的调节座,所述支撑座与调节座之间设有导向板,所述导向板上设有通孔,所述支撑座内设有液囊,所述液囊贯穿设置于调节座下端的固定板并与固定板相连接,所述支撑座内还设有与液囊相贯通的调节凹槽,所述调节凹槽内设有调节机构,所述调节机构包括推板,所述推板与弹簧一端相连接,所述弹簧的另一端与盖板相连接,所述支撑座、调节座与固定板之间设有弹性密封层形成容纳密封内腔,所述液囊表面设有抛光层;该装置调节模块和抛光模块相互配合,能自调节抛光模块所受到的外部压力,使抛光模块更好的与工件表面接触达到更好的抛光效果。
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公开(公告)号:CN110893581A
公开(公告)日:2020-03-20
申请号:CN201911212103.3
申请日:2019-12-02
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
Abstract: 本发明公开了一种液动式柔性抛光装置,包括:驱动模块;调节模块;抛光模块;并且包括:设置在支撑座下端的调节座,所述支撑座与调节座之间设有导向板,所述导向板上设有通孔,所述支撑座内设有液囊,所述液囊贯穿设置于调节座下端的固定板并与固定板相连接,所述支撑座内还设有与液囊相贯通的调节凹槽,所述调节凹槽内设有调节机构,所述调节机构包括推板,所述推板与弹簧一端相连接,所述弹簧的另一端与盖板相连接,所述支撑座、调节座与固定板之间设有弹性密封层形成容纳密封内腔,所述液囊表面设有抛光层;该装置调节模块和抛光模块相互配合,能自调节抛光模块所受到的外部压力,使抛光模块更好的与工件表面接触达到更好的抛光效果。
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公开(公告)号:CN108555773B
公开(公告)日:2019-12-10
申请号:CN201810100555.1
申请日:2018-02-01
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
IPC: B24B37/27
Abstract: 本发明提供一种超薄零件研磨抛光夹具:在所述研磨抛光夹具的工作面上设置有多个孔通过负压吸附原理夹持超薄零件;所述研磨抛光夹具的工作面上设置有多个孔为规则的。本发明的超薄零件研磨抛光夹具对工件的厚度和尺寸适用范围广,对工件的材料无特殊要求;夹具在装片和卸片时采用气压作为动力,冲击载荷小,工件不易破碎,加工后工件易于清洗;利用多个分散的规则孔对工件进行吸附,优化确定规则孔最优的排列方式和尺寸,夹持过程中应力分布均匀,避免了应力集中导致的工件应力变形;夹具在实际加工中装夹可靠,减少加工中因飞片造成的工件破碎,提高加工的良品率;夹具结构简单,操作方便,具有很好的推广应用前景。
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公开(公告)号:CN106956216A
公开(公告)日:2017-07-18
申请号:CN201710141347.1
申请日:2017-03-10
Applicant: 南京航空航天大学 , 南京航空航天大学无锡研究院
IPC: B24B49/00
CPC classification number: B24B49/00
Abstract: 一种研磨抛光加工状态在线监测装置,其特征是它包括环抛机上由一台电机驱动的研磨抛光盘(1)和由另一台电机驱动保持环(4)转动,在研磨抛光盘(1)上安装有研磨抛光垫(3),保持环(4)中安装有晶圆承载器(2),工件(5)安装在晶圆承载器(2)的下部并在保持环的带动下与垫光垫(3)作相对的研磨抛光加工,在晶圆承载器(2)上安装有传感器(6),传感器(6)与固定安装在平台(10)上的信号调理电路(7)电气相连,信号调理电路(7)与固定安装在平台(10)上的数据采集器(8)电气连接,数据采集器(8)通过导电滑环(9)与计算机相连;所述的平台安装在保持环(4)上并同步转动。本发明对设备要求低,成本低,方便操作。
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