旋转器件型光谱椭偏仪系统参数校准方法

    公开(公告)号:CN103163077B

    公开(公告)日:2015-10-07

    申请号:CN201310040730.X

    申请日:2013-01-31

    Abstract: 本发明公开了一种用于旋转器件型光谱椭偏仪系统参数的校准方法,该方法可以在一次测量中获取旋转器件型光谱椭偏仪中全光谱范围的系统参数,其方法是将任意厚度的标准样件作为待测样件,使用待校准光谱椭偏仪进行测量,对测量获得的光强谐波信号进行傅里叶分析,通过傅里叶系数序列计算获取第一个波长点的系统参数,以其作为初值,采用非线性回归算法,通过理论光谱拟合测量光谱,获得第一个波长点的系统参数。并依次以校准获得的第i个波长点的系统参数作为初值,拟合获得第i+1个波长点的系统参数,进而获得全光谱范围的系统参数。该方法具有计算速度快,校准精度高的特点,并且可以在校准系统参数后用于其它待测样件的测量而不必重复校准。

    一种用于光学测量仪器样品台校准的系统及其方法

    公开(公告)号:CN103063412B

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201210552014.5

    申请日:2012-12-18

    Abstract: 本发明公开了一种用于光学测量仪器样品台校准的系统及方法。在椭偏仪直通式的情况下进行光路系统的对准,包括前光路和后光路的对准;在椭偏仪斜入射式粗调样品台上的旋钮,使得检偏臂光学接收器孔能够接受到一部分光束;微调样品台上的旋钮,使表示光束的十字光标出现在中心位置;以l为步长令系统前部和系统后部在Z轴方向上进行扫描,并记录在每个高度位置时探测器接受到的总光强,绘制出一条光强曲线,系统自动选取光强值最大点处为样品台最优相对高度位置。系统主要包括光源,起偏臂,前置四象限探测器,检偏臂,分光镜,内置四象限探测器,CCD探测器和计算机。该方法可以实现对样品台的倾斜角度及高度进行高精确校准,且响应快速,操作简单。

    椭偏仪测量系统的随机误差评估方法

    公开(公告)号:CN103217385B

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201310094643.2

    申请日:2013-03-22

    Abstract: 本发明公开了一种评估椭偏仪测量系统的随机误差的方法。该方法首先建立椭偏仪测量系统的系统模型和系统传递函数,然后通过分析椭偏仪测量系统的随机噪声的来源及特点,建立适用于具体配置类型椭偏仪测量系统的随机噪声模型,最后根据传递函数和随机噪声模型,推导随机噪声的传递模型,从而计算评估系统的随机误差。评估仪器随机误差的一般方法是进行多次测量,然后根据多次测量结果的分布情况评估测量系统的随机误差,本发明方法通过建立随机噪声模型和计算随机噪声传递特性,可以在一次测量中评估椭偏仪测量系统的随机误差。适用于现有多种配置类型的椭偏仪测量系统。

    一种四分之一双波片相位延迟器

    公开(公告)号:CN103424797A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201310321074.0

    申请日:2013-07-26

    Abstract: 本发明公开了一种四分之一双波片相位延迟器,可在紫外、可见及近红外的波段范围内实现消色差,其特征在于,该双波片相位延迟器由两个同种材料或者不同材料的四分之一零级波片构成,该两零级波片沿光轴平行布置,且两光轴夹角为45°,其中,所述两个四分之一零级波片的中心波长在波段范围内,且满足使得两零级波片组成的双波片在该波段范围内各波长点对应的相位延迟量δe(λ)与理想相位延迟量值π/2之间差值的最大值取得最小值。与现有的双波片相比,该相位延迟器将两个零级波片光轴按45°组合,而不是90°,得到的双波片相位延迟器在全波段内有更好的消色差等特性,能够满足光谱椭偏测量等宽光谱光学系统的使用要求。

    一种傅里叶变换红外穆勒矩阵椭偏仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN109580551A

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201811455824.2

    申请日:2018-11-30

    Abstract: 本发明属于检测与测量领域,并公开了一种傅里叶变换红外穆勒矩阵椭偏仪及其测量方法。该椭偏仪包括光源调制模块、起偏调制模块、检偏调制模块、样品台和控制模块,其中:光源调制模块包括红外光源、迈克尔逊干涉仪和离轴抛物镜,起偏调制模块包括起偏器和第一旋转相位延迟器;样品台上方摆放待测样品;检偏调制模块包括第二旋转相位延迟器、检偏器和红外光电探测器;控制模块包括电机驱动控制器和计算机。本发明通过引入傅里叶变换仪可以实现红外光谱范围的快速准确测量;并且选用双菱形菲涅尔棱镜能够实现全光谱范围内消色差的功能;此外,本发明通过使用步进式双旋转相位延迟器的调制方式,可以在一次测量中获得待测样品的全穆勒矩阵信息。

    一种复合波片光轴对准方法

    公开(公告)号:CN103424839B

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201310320167.1

    申请日:2013-07-26

    CPC classification number: G01B11/272 G02B5/3083 G02B27/62

    Abstract: 本发明公开了一种复合波片光轴对准方法,首先,将待对准的复合波片中的一个单波片固定不动,将另外一个单波片与旋转装置相连,使两个单波片之间产生相对转动;然后将偏振光垂直投射在待对准复合波片上,并用探测器探测从待对准复合波片上出射的光强信号,分析得到复合波片的等效光谱参数,与设计的理想值进行比较,得到其差值的波动曲线;最后转动旋转装置,使两个单波片产生相对转动,检测等效光谱参数与理想值之间差值的波动幅度变化,直至波动消失或者波动幅值小于限定值,则可认为完成了复合波片光轴对准。该方法可以实现对复合波片光轴进行高精度对准,原理简单,容易操作,并且对准精度可控。

    一种用于广义椭偏仪的光强自动调整装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN104344891A

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201410594725.8

    申请日:2014-10-29

    Abstract: 本发明公开了一种广义椭偏仪光强自动调整装置及其控制方法。装置主要包括计算机、光谱仪、伺服电机控制器、直流伺服电机、增量式编码器和中性密度滤光片转盘。在广义椭偏仪硬件连接完成的情况下,根据光谱仪采集的光谱曲线是否饱和以及是否绝大部分在光谱仪线性响应区间来决定是否要转动直流伺服电机,从而带动中性密度滤波片转盘转动以切换中性密度滤波片来改变光源照射出来的光强大小。本发明可以实现对双旋转补偿器广义椭偏仪光强自动调整,且响应快速,操作简单。

    一种复合波片光轴对准方法

    公开(公告)号:CN103424839A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201310320167.1

    申请日:2013-07-26

    CPC classification number: G01B11/272 G02B5/3083 G02B27/62

    Abstract: 本发明公开了一种复合波片光轴对准方法,首先,将待对准的复合波片中的一个单波片固定不动,将另外一个单波片与旋转装置相连,使两个单波片之间产生相对转动;然后将偏振光垂直投射在待对准复合波片上,并用探测器探测从待对准复合波片上出射的光强信号,分析得到复合波片的等效光谱参数,与设计的理想值进行比较,得到其差值的波动曲线;最后转动旋转装置,使两个单波片产生相对转动,检测等效光谱参数与理想值之间差值的波动幅度变化,直至波动消失或者波动幅值小于限定值,则可认为完成了复合波片光轴对准。该方法可以实现对复合波片光轴进行高精度对准,原理简单,容易操作,并且对准精度可控。

    一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN103134592A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201310040729.7

    申请日:2013-01-31

    Abstract: 本发明公开了一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法,方法是将起偏臂产生的调制光线投射到待测样件表面,检偏臂将待测样件反射(或透射)的光线解调并接收,通过对测量光谱进行谐波分析,计算获得待测样件的全穆勒矩阵信息,并通过非线性回归,库匹配等算法拟合提取待测样件的光学常数,特征形貌尺寸等信息。椭偏仪包括起偏臂(包括光源,透镜组,起偏器和伺服电机驱动的补偿器),待测样件和检偏臂(包括伺服电机驱动的补偿器,检偏器,透镜组和光谱仪)。本发明可实现各种信息光电子功能材料和器件,以及纳米制造中各种纳米结构的在线测量,具有非破坏性,快速和低成本的特点。

    一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置

    公开(公告)号:CN111366087A

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN202010275953.4

    申请日:2020-04-09

    Abstract: 本发明涉及光学薄膜测量技术领域,特别涉及一种可局部测量的显微成像膜厚测量装置,包括:光路组件、载物组件及机架组件,载物组件设置在机架组件上;光路组件连接在机架组件上;光路组件用于对载物组件上的薄膜进行光学测量。本发明提供的可局部测量的显微成像膜厚测量装置,光源可同时作为测量光源和照明光源,不仅能发出测量光束,同时能提供对测量区域标记的光束,不需要另外设置照明光源,可避免对测量光源带来杂散光,提高了测量结果的准确性。

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