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公开(公告)号：CN114858065B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202210448963.2
申请日：2022-04-26
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明提供一种检测柔性硅氧烷薄膜厚度的方法，涉及薄膜材料检测领域。所述柔性硅氧烷薄膜是在柔性基底表面用PECVD方法镀制的硅氧烷薄膜，所述方法包括以下步骤：取样：取柔性基底及其表面镀制的硅氧烷薄膜作为检测样品，所述检测样品由于应力作用使其截面呈圆弧状；检测：将所述检测样品置于低倍光学显微镜的观测台上，测量圆弧弦长以及弧顶到弦中心的距离，推导出圆弧的曲率半径；计算：根据stoney公式，计算得到柔性硅氧烷薄膜厚度。柔性透明硅氧烷薄膜厚度难以进行测量，基于薄膜存在应力的特点，根据薄膜曲率推导计算薄膜厚度，该方法过程简单，测试仪器要求不高，检测结果准确，适合生产企业对产品进行检验测试使用。
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公开(公告)号：CN117210793A
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202311027668.0
申请日：2023-08-15
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
Abstract: 本发明提供一种硅氧烷表面制备有机膜层的方法，涉及电子产品封装领域。在硅氧烷表面制备有机膜层的方法包括以下步骤：对硅氧烷表面进行离子源活化；向丙烯酸酯溶液中混合基材润湿剂，得到镀膜材料；利用所述镀膜材料，采用真空蒸镀的方式在离子源活化后的硅氧烷表面生长丙烯酸酯有机膜层；对所述有机膜层进行紫外固化。本发明一方面通过对硅氧烷表面进行离子源活化提高其表面能，另一方面在有机液体中加入表面润湿剂，最终使有机液体能充分浸润硅氧烷表面，采用真空蒸镀的方法，在硅氧烷表面生长有机膜层。解决了由于硅氧烷膜面的低表面能导致有机物无法形成膜层的难题，实现有机物膜层真空环境下的连续卷绕沉积，实现超高阻隔膜产品开发。
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公开(公告)号：CN117051361A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311016768.3
申请日：2023-08-14
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
Abstract: 本申请涉及镀膜防护技术领域，具体而言，涉及一种真空卷绕有机物蒸镀防护装置，包括基膜、沉积辊、蒸发狭缝、气帘以及低温冷阱，其中：基膜紧贴覆盖在沉积辊上；蒸发狭缝设置在沉积辊的外侧，与加热腔连通；有机物通过加热腔，以气态分子形式从蒸发狭缝中喷出，与沉积辊上的基膜接触；气帘设置在蒸发狭缝的两侧，一端与蒸发狭缝连接，另一端与基膜之间形成第一缝隙；低温冷阱设置在气帘的外侧，一端与气帘连接，另一端与基膜之间形成第二缝隙。本申请通过在沉积辊区域边缘设置气帘与低温冷阱，将高温蒸发的有机物限制在沉积区以内，减少了对真空腔室与沉积辊的污染，解决了有机物蒸发对腔室内污染的难题。
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公开(公告)号：CN114508690A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202111594703.8
申请日：2021-12-24
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种任一液位下低温绝热气瓶漏热量的测量方法。本发明将日蒸发率测量中的漏热量分为两个部分：(1)蒸发气体的汽化潜热部分；(2)蒸发气体在气瓶内流动时的焓值的变化部分，并基于此构建了新的漏热量计算方法，从而实现低温绝热气瓶漏热量在任一液位下的测量和计算，进而可以有效减少测试介质的使用，降低测试的成本。
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公开(公告)号：CN114459697A
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202111598480.2
申请日：2021-12-24
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
IPC: G01M3/20
Abstract: 本发明公开了一种红外成像系统探测器封装杜瓦多工位检漏系统及方法。本发明利用真空标准小漏孔实现了探测器封装杜瓦的密封性的精确检查，采用比对法能够筛查出漏率范围位于10‑5‑10‑12Pa·m3/s之间的探测器封装杜瓦，利用累积法能够筛查出漏率范围位于10‑13‑10‑15Pa·m3/s之间的探测器封装杜瓦，且探测器封装杜瓦的平均检漏时间≤30min，检漏灵敏度高，检漏范围宽，检漏效率高。本发明还可实现多工位循环检测，提高批量检测效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114459697B
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202111598480.2
申请日：2021-12-24
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
IPC: G01M3/20
Abstract: 本发明公开了一种红外成像系统探测器封装杜瓦多工位检漏系统及方法。本发明利用真空标准小漏孔实现了探测器封装杜瓦的密封性的精确检查，采用比对法能够筛查出漏率范围位于10‑5‑10‑12Pa·m3/s之间的探测器封装杜瓦，利用累积法能够筛查出漏率范围位于10‑13‑10‑15Pa·m3/s之间的探测器封装杜瓦，且探测器封装杜瓦的平均检漏时间≤30min，检漏灵敏度高，检漏范围宽，检漏效率高。本发明还可实现多工位循环检测，提高批量检测效率。
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公开(公告)号：CN115852312A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211521728.X
申请日：2022-11-30
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种真空蒸发源结构，具体涉及一种用于液体的真空蒸发源结构。本发明公开了一种用于液体的真空蒸发源结构。对于饱和蒸汽压较低(小于10Pa)的液态单体，粘度1‑30CPS(25℃)。蒸发源设计有以下特点：1、能够连续供给，液体管和连续液体流量计设计；2、流量控制准确，液体流量计前后压强稳定；3、不会由于气泡等干扰恒定蒸发，雾化器前端具有除泡机构。
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公开(公告)号：CN208586348U
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201820998893.7
申请日：2018-06-27
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
Abstract: 本实用新型属于机械工程结构领域，涉及一种溅射镀膜设备工件转架动密封传动结构。包括法兰盘、套筒、驱动机构、主动转子、主动转子皮带轮、被动转子、旋转轴和密封隔离件，法兰盘的一端固定在真空室外壁上，另一端与套筒固定，主动转子皮带轮通过连接部与主动转子连接，皮带轮的内壁与套筒的外壁为间隙配合，驱动机构与主动转子皮带轮连接，旋转轴的一端与真空室内的工件转架连接，另一端与被动转子连接；主、被动转子永磁体间通过密封隔离件隔离。工作时，主动转子通过永磁体产生的磁力驱动被动转子做旋转运动，从而带动工件转架一同旋转。解决了动密封传动的可靠性、泄漏和污染问题，确保真空溅射镀膜设备真空环境和镀膜的工艺稳定性。
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公开(公告)号：CN209267351U
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201820690927.6
申请日：2018-05-10
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
IPC: H02K7/00
Abstract: 本实用新型涉及一种旋转轴和轴套绝缘传动结构，属于机械传动结构领域。所述传动结构中，主动传动轴位于被动轴套中，主动传动轴的外圆上加工有齿条，被动轴套的内圆上加工有齿槽，齿条和齿槽数量相等，且齿条比齿槽略小，可插入齿槽中并在两侧配合面和端部之间留有间隙，其中，两侧配合面之间的间隙用以配合安装绝缘陶瓷块；齿条和齿槽的数量相等，且都大于等于2个。可以通过选择相应的绝缘陶瓷类型，解决主动传动轴与被动轴套之间的绝缘问题。
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公开(公告)号：CN208545485U
公开(公告)日：2019-02-26
申请号：CN201820897772.3
申请日：2018-06-11
Applicant: 兰州空间技术物理研究所
Abstract: 本实用新型属于磁控溅射镀膜设备领域，具体涉及一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置，所述装置包括永磁体、磁轭、微调装置和支撑部件；所述永磁体固定在磁轭上，支撑部件固定在磁控溅射腔室内，支撑部件上开设有孔，微调装置穿过支撑部件上的孔与磁轭接触。本实用新型所述装置克服了现有磁控溅射阴极靶磁场分布不均匀，不方便调节的问题；且结构简单，易于安装。
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