公开(公告)号：CN119335808A

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN202411386062.0

申请日：2019-11-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 西村晃范

IPC: G03F1/62

Abstract: 本发明涉及一种防尘薄膜组件及其制造方法。防尘薄膜组件可提升防尘薄膜的强度，缓和曝光时的高速扫描运动所造成的防尘薄膜的振动，而抑制迭对恶化。本发明为达到上述目的，提供一种防尘薄膜组件，于防尘薄膜框架张设有防尘薄膜；上述防尘薄膜，是施行了退火处理的防尘薄膜。并且提供一种防尘薄膜组件的制造方法，是于防尘薄膜框架张设防尘薄膜而制造防尘薄膜组件的方法；上述方法包含以下步骤之一：在将上述防尘薄膜张设于防尘薄膜框架之前，对上述防尘薄膜单体进行退火处理的步骤；在上述防尘薄膜的张设后，对防尘薄膜组件进行退火处理的步骤；或在上述防尘薄膜的张设前及张设后的双方，对防尘薄膜单体及防尘薄膜组件进行退火处理的步骤。

公开(公告)号：CN117751325A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202280050110.1

申请日：2022-07-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 西村晃范 ,  白崎享

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种防护薄膜及防护膜，所述防护薄膜的特征在于包括具有氮化硼纳米管的膜(BNNT膜)，所述防护膜为包含防护薄膜以及防护膜框架、且所述防护薄膜经由接着剂设置于所述防护膜框架的一端面的光微影用防护膜，其特征在于，所述防护薄膜包含BNNT膜。根据本发明，可提供一种EUV曝光下的透过率高、耐热性及耐久性优异、且具有耐氢自由基性的防护薄膜及包括所述防护薄膜的防护膜。

公开(公告)号：CN114930248A

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202180008413.2

申请日：2021-01-15

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 西村晃范

IPC: G03F1/64

Abstract: 本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版及曝光方法、以及半导体或液晶显示器的制造方法，所述防护薄膜框架为构成光刻用的防护薄膜的防护薄膜框架，所述防护薄膜框架的外周侧面形成为流线形状，且形成为所述流线形状的外周部分的宽度为防护薄膜框架的高度的50％以上。本发明通过将防护薄膜框架的外周侧面部设为特定的流线型的形状，而空气的剥离变小，可减小空气阻力，并且，结果可抑制高速扫描运动中的乱流，可抑制曝光后的覆盖的恶化。

公开(公告)号：CN111258178A

公开(公告)日：2020-06-09

申请号：CN201911183115.8

申请日：2019-11-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 西村晃范

IPC: G03F1/62

Abstract: 本发明涉及一种防尘薄膜组件及其制造方法。防尘薄膜组件可提升防尘薄膜的强度，缓和曝光时的高速扫描运动所造成的防尘薄膜的振动，而抑制迭对恶化。本发明为达到上述目的，提供一种防尘薄膜组件，于防尘薄膜框架张设有防尘薄膜；上述防尘薄膜，是施行了退火处理的防尘薄膜。并且提供一种防尘薄膜组件的制造方法，是于防尘薄膜框架张设防尘薄膜而制造防尘薄膜组件的方法；上述方法包含以下步骤之一：在将上述防尘薄膜张设于防尘薄膜框架之前，对上述防尘薄膜单体进行退火处理的步骤；在上述防尘薄膜的张设后，对防尘薄膜组件进行退火处理的步骤；或在上述防尘薄膜的张设前及张设后的双方，对防尘薄膜单体及防尘薄膜组件进行退火处理的步骤。

公开(公告)号：CN217821249U

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN202220717487.5

申请日：2022-03-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 西村晃范

IPC: G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: 本实用新型提供一种带粘合剂层的防护薄膜框架(1)，具有：一个端面(1a)，设置有防护薄膜膜片；以及另一个端面(1b)，设置有用于贴附至光掩模的粘合剂层(1c)，所述带粘合剂层的防护薄膜框架中，所述粘合剂层的厚度为0.10mm～0.30mm，且所述粘合剂层的粘合力为5×10‑3N/cm～5×10‑1N/cm，且提供一种在所述带粘合剂层的防护薄膜框架的所述一个端面设置防护薄膜膜片而成的防护薄膜框架、防护薄膜及包括其的光掩模及系统。根据本实用新型的带粘合剂层的防护薄膜框架，与以往相比，可抑制粘合剂层的平坦度的劣化，进而可缓和自防护薄膜对光掩模赋予的应力，结果可抑制PID。