蒸镀装置
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112442661A

    公开(公告)日:2021-03-05

    申请号:CN202010877099.9

    申请日:2020-08-27

    Inventor: 真下精二

    Abstract: 本发明提供以下蒸镀装置:在具有多个蒸镀源和与各蒸镀源相对应的开闭器的团簇型的蒸镀装置中,不会导致装置的大型化并且能够始终监视蒸镀速率。在具有蒸镀源(1、2)和控制蒸镀源(1、2)的蒸镀、非蒸镀的开闭器(5、6)的蒸镀装置中,使开闭器(5、6)的高度彼此不同,将该开闭器(5、6)配置为在开状态下彼此重叠,并且配置有在开状态下将开闭器(5、6)之间分隔的分隔壁(12)。

    制造有机发光设备的方法
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101296537B

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200810093544.1

    申请日:2008-04-25

    Abstract: 本发明公开一种制造有机发光设备的方法,所述有机发光设备包括基底、形成在所述基底上的有机发光器件、以及形成在所述有机发光器件的外周上的器件分离膜,所述有机发光器件从基底侧依次包括下电极、有机化合物层、以及上电极,所述方法包括:通过在10Pa或更高~10000Pa或更低的范围内的压力下,在将至少包含氧气的气体引入气体环境中并且排出所述气体的同时,用UV光照射至少具有下电极和所述下电极上形成的器件分离膜的基底,从而清洁所述基底;在清洁后的下电极上形成有机化合物层;以及在所述有机化合物层上形成上电极。

    汽相淀积源和汽相淀积装置

    公开(公告)号:CN101041891A

    公开(公告)日:2007-09-26

    申请号:CN200710088796.0

    申请日:2007-03-22

    CPC classification number: C23C14/243 C23C14/12

    Abstract: 本发明的目的是,减少在汽相淀积源中产生的激溅,并以稳定、高速的汽相淀积速度实施汽相淀积。通过以下步骤实施根据本发明的汽相淀积:将多个多纳圈状平板垂直层叠在坩埚中,将薄的汽相淀积材料安装在多纳圈状平板上,使用包围坩埚的加热器以加热多纳圈状平板上的汽相淀积材料,使得从汽相淀积材料产生的蒸汽通过各层上的流动空间A流到垂直的流动路径B中,和从流动路径B的顶部的开口向要被淀积的衬底排放蒸汽。流动空间A的传导力比流动路径B的传导力小。

    充电装置
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1073720C

    公开(公告)日:2001-10-24

    申请号:CN95107675.2

    申请日:1995-06-22

    CPC classification number: G03G15/0241 G03G2215/022 G03G2221/183

    Abstract: 一种用于对将被充电装置充电的充电装置,其包括用于向将被充电元件充电的充电材料,该充电材料包括:一能够被提供电压和可接触被充电元件的颗粒层,其中该颗粒层,包含:体电阻率不小于6.0×103欧·厘米并不大于1.0×105欧·厘米的第一种颗粒和体电阻率不小于6.3×105欧·厘米且不大于1010欧·厘米,并与第一种颗粒相混合的第二种颗粒。

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