液体喷出装置及其控制方法、基板处理装置及物品制造方法

    公开(公告)号:CN117719257A

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202311180935.8

    申请日:2023-09-12

    Inventor: 山本哲也

    Abstract: 本发明提供有利于减少液体喷出装置中的液体的喷出异常的恢复处理所需的时间以及液体使用量的液体喷出装置及其控制方法、基板处理装置及物品制造方法。液体喷出装置具备:多个喷出元件,根据驱动信号而喷出液体;以及控制部,控制所述驱动信号向所述多个喷出元件的每一个的供给,所述控制部在从所述多个喷出元件之中确定了第一喷出元件和喷出异常的程度比所述第一喷出元件低的第二喷出元件作为具有喷出异常的喷出元件的情况下,在使所述多个喷出元件的喷出异常降低的恢复处理中,将第一频率的第一驱动信号不供给到所述第二喷出元件而供给到所述第一喷出元件,将比所述第一频率低的第二频率的第二驱动信号供给到所述第二喷出元件。

    通信装置、通信装置的控制方法和存储介质

    公开(公告)号:CN117061044A

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202310512883.3

    申请日:2023-05-08

    Inventor: 山本哲也

    Abstract: 本公开提供了通信装置、通信装置的控制方法和存储介质。通信装置包括:确定部,其用于进行确定处理,以确定通信装置是在通信中作为领导装置操作还是在通信中作为跟随装置操作;以及设置部,其用于基于确定处理的结果,进行设置处理,将所述通信装置设置为时间主机装置或时间从机装置,所述时间主机装置是用于实现与一个或更多个其他通信装置的时间同步的基准时钟的提供者,所述时间从机装置根据基准时钟调整时间。

    曝光方法及装置、物品制造方法和制造半导体设备的方法

    公开(公告)号:CN112526829A

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN202010986282.2

    申请日:2020-09-18

    Inventor: 山本哲也

    Abstract: 公开了曝光方法及装置、物品制造方法和制造半导体设备的方法。提供了一种执行经由投影光学系统曝光基板的曝光操作的曝光方法。该方法包括在执行曝光操作的曝光时段中执行投影光学系统的像差校正以校正通过执行曝光操作而生成的像差,在曝光时段之后的不执行曝光操作的非曝光时段中测量投影光学系统的像差,并使用基于测量结果调整的校正量来校正投影光学系统的像差,以便减小投影光学系统的像差校正中的校正残差。

    通信装置及用于该通信装置的通信方法

    公开(公告)号:CN101369946B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200810145750.2

    申请日:2008-08-14

    Inventor: 山本哲也

    CPC classification number: H04L61/2015 H04L29/1232 H04L61/2092 H04W84/18

    Abstract: 本发明提供一种通信装置及用于该通信装置的通信方法。该通信装置判断所述通信装置要加入的网络中的通信模式。如果该通信装置判断该通信模式是基础架构模式,则其选择客户机功能。如果该通信装置判断该通信模式是自组织模式,则其选择服务器功能。所述通信装置作为具有所选择的客户机功能或服务器功能的装置而进行操作。

    通信装置及用于该通信装置的通信方法

    公开(公告)号:CN101369946A

    公开(公告)日:2009-02-18

    申请号:CN200810145750.2

    申请日:2008-08-14

    Inventor: 山本哲也

    CPC classification number: H04L61/2015 H04L29/1232 H04L61/2092 H04W84/18

    Abstract: 本发明提供一种通信装置及用于该通信装置的通信方法。该通信装置判断所述通信装置要加入的网络中的通信模式。如果该通信装置判断该通信模式是基础架构模式,则其选择客户机功能。如果该通信装置判断该通信模式是自组织模式,则其选择服务器功能。所述通信装置作为具有所选择的客户机功能或服务器功能的装置而进行操作。

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