公开(公告)号：CN109932870B

公开(公告)日：2021-07-27

申请号：CN201811521277.3

申请日：2018-12-13

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 张劬 ,  伊藤正裕 ,  川端宣幸 ,  雨宫靖 ,  土井贤 ,  黑泽良昭 ,  金田崇

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。

公开(公告)号：CN113050394A

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN202011526977.9

申请日：2020-12-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤正裕 ,  畑智康 ,  有井俊郎 ,  草柳博一

IPC: G03F9/00

Abstract: 本公开涉及曝光装置以及物品制造方法。曝光装置具备：照明系统，对配置于被照明面的掩模进行照明；投影光学系统，将掩模的图像投影到基板；基板载置台，支承基板；传感器，搭载于基板载置台；以及控制部，控制传感器。控制部实施多次检测处理，检测处理是使用传感器检测从配置于被照明面的多个标志选择的至少2个标志的成像位置的处理，在检测处理与检测处理之间，实施使搭载有传感器的基板载置台移动的移动处理。以使在移动处理之前的检测处理中从所述多个标志选择的至少2个标志的一部分和在移动处理之后的检测处理中从所述多个标志选择的至少2个标志的一部分共同的方式，实施移动处理中的基板载置台的移动。