公开(公告)号：CN104678696A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201410709424.5

申请日：2014-11-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中山谅

IPC: G03F1/38 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及图案生成方法、信息处理装置以及掩模制造方法。一种新型的用于生成包括单元图案的图案的方法，所述单元图案包括在其中布置的辅助图案。本发明提供用于生成在通过布置从多种单元中选择的单元来生成掩模图案时所使用的单元的图案的生成方法。该生成方法包括通过获得有关包括孤立的矩形图案元素的单元的数据并且根据所述数据生成辅助矩形图案元素的辨析的辅助图案来生成包括该矩形图案元素和辅助图案的图案作为单元图案。

公开(公告)号：CN102455594B

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201110310483.1

申请日：2011-10-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 中山谅 ,  辻田好一郎 ,  三上晃司 ,  石井弘之

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/705 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70608

Abstract: 本申请涉及抗蚀剂图案计算方法。一种使用计算机计算形成在衬底上的抗蚀剂图案的方法包括：第一步，基于中间掩模图案和曝光条件来计算形成在抗蚀剂上的光学图像的光强度分布；第二步，使用第一扩散长度对计算的光强度分布进行卷积；第三步，从计算的光强度分布或者卷积的光强度分布计算代表性光强度；第四步，通过将校正函数与卷积的光强度分布相加来对卷积的光强度分布进行校正，所述校正函数包括由下式给出的第一函数：其中，J是代表性光强度的分布；和第五步，基于校正的光强度分布和预先设置的限幅水平来计算抗蚀剂图案。