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公开(公告)号:CN112752737A
公开(公告)日:2021-05-04
申请号:CN201980063098.6
申请日:2019-09-04
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社 , 住友电气工业株式会社
IPC: C04B35/5831 , C04B35/645
Abstract: 一种多晶立方氮化硼,包含98.5体积%以上的立方氮化硼,并且位错密度为8×1015/m2以下。
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公开(公告)号:CN112313189A
公开(公告)日:2021-02-02
申请号:CN201980040545.6
申请日:2019-02-22
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/488 , B23B27/14 , C01F7/02 , C01G25/02 , C04B35/5831
Abstract: 一种烧结体,其包含立方氮化硼和第一材料,该第一材料为Al2O3分散在晶粒边界处和/或晶粒中的部分稳定ZrO2,烧结体包含20体积%以上80体积%以下的立方氮化硼,其中当通过二次离子质谱法测定第一材料时,第一材料包含0.001质量%以上1质量%以下的氮。
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公开(公告)号:CN109153082B
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:CN201780010894.4
申请日:2017-12-14
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23B27/14 , B23B27/20 , B23B51/00 , B23C5/16 , C04B35/5831
Abstract: 一种切削工具,包括基材、和与基材接触并覆盖基材的覆膜。所述基材是立方氮化硼烧结体。所述覆膜是陶瓷。所述覆膜中的氧的量为0.040质量%以下。
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公开(公告)号:CN106715360B
公开(公告)日:2020-02-11
申请号:CN201680002170.0
申请日:2016-01-26
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社 , 住友电气工业株式会社
IPC: C04B35/583 , B23B27/14 , B23B27/20 , B23C5/16 , C04B35/48
Abstract: 该烧结体包含:第一材料,其为立方氮化硼;第二材料,其为锆的氧化物;以及第三材料,其为铝的氧化物。第二材料包含立方ZrO2和ZrO,并且第三材料包含α型Al2O3。该烧结体满足:0.9≤Izro2(111)/Ial(110)≤30和0.3≤Izro(111)/Ial(110)≤3,其中α型Al2O3的(110)面、立方ZrO2的(111)面和ZrO的(111)面的X射线衍射强度分别表示为Ial(110)、Izro2(111)和Izro(111)。
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公开(公告)号:CN106795061B
公开(公告)日:2020-01-21
申请号:CN201680002181.9
申请日:2016-02-24
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社 , 住友电气工业株式会社
IPC: C04B35/583 , B23B27/14
Abstract: 该烧结体具有第一材料、第二材料和第三材料。该第一材料为立方氮化硼。该第二材料为含锆化合物。该第三材料为氧化铝,并且该氧化铝包括微细颗粒氧化铝。该烧结体具有第一区域,其中5体积%以上50体积%以下的该微细颗粒氧化铝分散在该第二材料中。在该第一区域中的任意直线上,该微细颗粒氧化铝所占有的连续距离的平均值为0.08μm以下,并且该微细颗粒氧化铝所占有的连续距离的标准偏差为0.1μm以下。
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公开(公告)号:CN106795061A
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201680002181.9
申请日:2016-02-24
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社 , 住友电气工业株式会社
IPC: C04B35/583 , B23B27/14
Abstract: 该烧结体具有第一材料、第二材料和第三材料。该第一材料为立方氮化硼。该第二材料为含锆化合物。该第三材料为氧化铝,并且该氧化铝包括微细颗粒氧化铝。该烧结体具有第一区域,其中5体积%以上50体积%以下的该微细颗粒氧化铝分散在该第二材料中。在该第一区域中的任意直线上,该微细颗粒氧化铝所占有的连续距离的平均值为0.08μm以下,并且该微细颗粒氧化铝所占有的连续距离的标准偏差为0.1μm以下。
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公开(公告)号:CN101595075B
公开(公告)日:2013-07-03
申请号:CN200880003554.X
申请日:2008-01-23
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社 , 住友电气工业株式会社
IPC: C04B35/5831 , B23B27/14
CPC classification number: C04B35/5831 , B22F2999/00 , B82Y30/00 , C04B35/6261 , C04B35/645 , C04B2235/3804 , C04B2235/3813 , C04B2235/3847 , C04B2235/3856 , C04B2235/386 , C04B2235/3865 , C04B2235/3886 , C04B2235/402 , C04B2235/404 , C04B2235/405 , C04B2235/42 , C04B2235/428 , C04B2235/5436 , C04B2235/656 , C04B2235/725 , C04B2235/781 , C04B2235/785 , C04B2235/80 , C04B2235/96 , C22C1/051 , C22C1/1084 , C22C26/00 , B22F3/14 , B22F3/1216
Abstract: 本发明涉及一种复合烧结体,其含有大于或等于20体积%且小于或等于80体积%的立方氮化硼颗粒,以及粘结剂;其中所述粘结剂含有:选自由元素周期表中的第4a族元素、第5a族元素、以及第6a族元素的氮化物,碳化物,硼化物和氧化物以及它们的固溶体所组成的组中的至少一种物质;选自由Zr、Si、Hf、Ge、W和Co的单体,其化合物以及它们的固溶体所组成的组中的至少一种物质;以及Al化合物;并且当所述复合烧结体中含有W和/或Co时,W和/或Co的总重量低于2.0重量%,并且所述复合烧结体中含有Zr、Si、Hf和Ge(下文中称之为“X”)中的一种或多种,并且当所述复合烧结体含有所述X时,各X的含量为大于或等于0.005重量%且低于2.0重量%,并且X/(X+W+Co)为大于或等于0.01且小于或等于1.0,并且此外,Al的重量为大于或等于2.0重量%且小于或等于20.0重量%。
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公开(公告)号:CN117957208A
公开(公告)日:2024-04-30
申请号:CN202180102395.4
申请日:2021-10-01
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社 , 住友电气工业株式会社
IPC: C04B35/5831 , B23B27/14 , C04B41/87 , C23C28/04
Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体,其具备立方晶氮化硼颗粒和结合材料,其中,所述立方晶氮化硼烧结体的所述立方晶氮化硼颗粒的含有率为30体积%以上且80体积%以下,所述结合材料包含选自由单质、合金以及金属间化合物组成的第二组中的至少一种,所述单质是选自由周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、铁、钴以及镍组成的第一组中的一种元素的单质,所述合金以及金属间化合物是由选自所述第一组中的两种以上的元素构成的合金以及金属间化合物,或者所述结合材料包含选自由化合物以及所述化合物的固溶体组成的第四组中的至少一种,所述化合物是由选自所述第一组中的一种元素和选自由氮、碳、硼以及氧组成的第三组中的至少一种元素构成的化合物,所述立方晶氮化硼烧结体的空隙的含有率为0.001体积%以上且0.20体积%以下。
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公开(公告)号:CN117769532A
公开(公告)日:2024-03-26
申请号:CN202180101145.9
申请日:2021-08-02
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社 , 住友电气工业株式会社
IPC: C04B35/5835 , H01L23/373
Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体,其中,所述立方晶氮化硼烧结体包含90.0质量%以上且99.5质量%以下的立方晶氮化硼和0.5质量%以上且10.0质量%以下的硅,所述立方晶氮化硼以及所述硅的合计含有率为94.0质量%以上且100质量%以下。
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公开(公告)号:CN114144393B
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202080051889.X
申请日:2020-07-17
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831 , C04B35/5835
Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体,其是具备20体积%以上且80体积%以下的立方晶氮化硼颗粒和20体积%以上且80体积%以下的结合相的立方晶氮化硼烧结体,其中,结合相包含第一结合材料颗粒和第二结合材料颗粒,第一结合材料颗粒以及第二结合材料颗粒分别包含由钛、第一金属元素、以及氮和碳中的一者或两者构成的一种化合物,该第一金属元素为选自由锆、铪、元素周期表的第五族元素、第六族元素以及铝组成的群组中的至少一种,在第一结合材料颗粒中,第一金属元素的原子数相对于钛的原子数以及第一金属元素的原子数的合计的比率为0.01%以上且小于10%,在第二结合材料颗粒中,所述比率为10%以上且80%以下,在立方晶氮化硼烧结体的X射线衍射光谱中,满足条件1以及条件2中的一者或两者。
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