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公开(公告)号：CN114096502A
公开(公告)日：2022-02-25
申请号：CN202080051152.8
申请日：2020-07-17
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831 , C04B35/622 , C04B35/626 , C04B35/645 , B23B27/14
Abstract: 立方晶氮化硼烧结体是具备20体积％以上且小于80体积％的立方晶氮化硼颗粒和超过20体积％且80体积％以下的结合相的立方晶氮化硼烧结体，其中，结合相包含选自由化合物以及源自该化合物的固溶体组成的群组中的至少一种，该化合物由选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素以及铝组成的群组中的至少一种元素、和选自由氮、碳、硼以及氧组成的群组中的至少一种元素构成，当使用TEM‑EDX在与立方晶氮化硼颗粒和结合相的界面垂直的方向上从立方晶氮化硼颗粒遍及结合相地对碳含量进行测定的情况下，存在碳含量大于结合相的碳含量的平均值的第一区域，在第一区域内存在所述界面，并且，第一区域的长度为0.1nm以上且10nm以下。
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公开(公告)号：CN112771190A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201980061238.6
申请日：2019-09-18
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C22C29/16 , B23B27/14 , C04B35/5831 , C22C1/05
Abstract: 所述立方氮化硼烧结体的制造方法包括：通过将有机物附着至立方氮化硼原料粉末上，从而制备有机立方氮化硼粉末的步骤；混合有机立方氮化硼粉末和包含WC、Co和Al的结合剂原料粉末，从而制备粉末混合物的步骤，该粉末混合物由大于等于85体积％且小于100体积％的有机立方氮化硼粉末和余量的结合剂原料粉末形成；以及烧结粉末混合物以获得立方氮化硼烧结体的步骤。
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公开(公告)号：CN112703262B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN201980061110.X
申请日：2019-09-18
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C22C29/16 , B23B27/14 , C04B35/5831 , C22C1/05
Abstract: 所述立方氮化硼烧结体包含大于等于85体积％且小于100体积％的立方氮化硼颗粒，并且余量为结合剂。结合剂包含WC、Co和Al化合物，并且结合剂包含W2Co21B6。当将IA定义为立方氮化硼颗粒的(111)面的X射线衍射强度，将IB定义为WC的(100)面的X射线衍射强度，并且将IC定义为W2Co21B6的(420)面的X射线衍射强度时，IC与IA的比IC/IA大于0且小于0.10，并且IC与IB的比IC/IB大于0且小于0.40。
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公开(公告)号：CN114096501B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202080050672.7
申请日：2020-07-17
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831 , C04B35/622 , C04B35/645
Abstract: 立方晶氮化硼烧结体包含立方晶氮化硼颗粒以及结合相。结合相包含第一区域以及第二区域。第一区域在结合相中占1.0体积％以上。第一区域包含多个针状晶体。多个针状晶体分别包含硼化物。在立方晶氮化硼烧结体的截面图像中，多个针状晶体分别具有1.5以上的长径比。
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公开(公告)号：CN116375479A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310344504.4
申请日：2016-04-20
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831 , B23B27/00
Abstract: 根据本发明的烧结体包含第一材料和立方氮化硼，其中该第一材料为部分稳定的ZrO2，其中5体积％至90体积％的Al2O3分散在晶粒内、或分散在晶粒的界面中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116056822A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180058436.4
申请日：2021-07-30
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: B23B27/14
Abstract: 立方晶氮化硼烧结体具备70体积％以上且小于100体积％的立方晶氮化硼颗粒和结合材料，其中，所述结合材料作为构成元素而包含选自由钛、锆、钒、铌、铪、钽、铬、铼、钼以及钨组成的群组中的至少一种第一金属元素、钴、以及铝，所述立方晶氮化硼烧结体具有第一界面区域，所述第一界面区域由被所述立方晶氮化硼颗粒与所述结合材料的界面和通过从所述界面向所述结合材料侧离开10nm的地点的第一假想线夹着的区域构成，在将所述第一界面区域中所述第一金属元素中以最高浓度存在的元素作为第一元素的情况下，所述第一界面区域中的所述第一元素的原子浓度高于所述第一界面区域以外的所述结合材料中的所述第一元素的原子浓度。
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公开(公告)号：CN114787104A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201980102882.3
申请日：2019-12-16
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831
Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体，其具备超过80体积％且小于100体积％的立方晶氮化硼颗粒和超过0体积％且小于20体积％的结合相，其中，所述结合相包含选自由单质、合金、金属间化合物组成的群组中的至少一种，所述单质、合金、金属间化合物选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组，或者，所述结合相包含选自由化合物以及源自所述化合物的固溶体组成的群组中的至少一种，所述化合物由选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组中的至少一种元素和选自由氮、碳、硼以及氧组成的群组中的至少一种元素组成，或者，所述结合相包含选自由单质、合金、金属间化合物组成的群组中的至少一种，所述单质、合金、金属间化合物选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组，并且，所述结合相包含选自由化合物以及源自所述化合物的固溶体组成的群组中的至少一种，所述化合物由选自由元素周期表的第四族元素、第五族元素、第六族元素、铝、硅、钴以及镍组成的群组中的至少一种元素和选自由氮、碳、硼以及氧组成的群组中的至少一种元素组成，所述立方晶氮化硼颗粒的位错密度为3×1017/m2以上且1×1020/m2以下。
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公开(公告)号：CN114206806A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080051120.8
申请日：2020-07-17
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831 , C04B35/622 , B23B27/16
Abstract: 立方晶氮化硼烧结体包含立方晶氮化硼颗粒、结合相以及夹杂相。夹杂相夹杂于立方晶氮化硼颗粒与结合相之间。夹杂相包含铝、氮、硼以及氧。夹杂相中所含的铝的原子浓度的平均值与夹杂相中所含的氮的原子浓度的平均值的合计为50.0原子％以上。夹杂相中所含的氮的原子浓度的平均值与夹杂相中所含的硼的原子浓度的平均值之比超过1.00。
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公开(公告)号：CN112703262A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN201980061110.X
申请日：2019-09-18
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C22C29/16 , B23B27/14 , C04B35/5831 , C22C1/05
Abstract: 所述立方氮化硼烧结体包含大于等于85体积％且小于100体积％的立方氮化硼颗粒，并且余量为结合剂。结合剂包含WC、Co和Al化合物，并且结合剂包含W2Co21B6。当将IA定义为立方氮化硼颗粒的(111)面的X射线衍射强度，将IB定义为WC的(100)面的X射线衍射强度，并且将IC定义为W2Co21B6的(420)面的X射线衍射强度时，IC与IA的比IC/IA大于0且小于0.10，并且IC与IB的比IC/IB大于0且小于0.40。
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公开(公告)号：CN114144393B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202080051889.X
申请日：2020-07-17
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 住友电工硬质合金株式会社
IPC: C04B35/5831 , C04B35/5835
Abstract: 一种立方晶氮化硼烧结体，其是具备20体积％以上且80体积％以下的立方晶氮化硼颗粒和20体积％以上且80体积％以下的结合相的立方晶氮化硼烧结体，其中，结合相包含第一结合材料颗粒和第二结合材料颗粒，第一结合材料颗粒以及第二结合材料颗粒分别包含由钛、第一金属元素、以及氮和碳中的一者或两者构成的一种化合物，该第一金属元素为选自由锆、铪、元素周期表的第五族元素、第六族元素以及铝组成的群组中的至少一种，在第一结合材料颗粒中，第一金属元素的原子数相对于钛的原子数以及第一金属元素的原子数的合计的比率为0.01％以上且小于10％，在第二结合材料颗粒中，所述比率为10％以上且80％以下，在立方晶氮化硼烧结体的X射线衍射光谱中，满足条件1以及条件2中的一者或两者。
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