一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置

    公开(公告)号:CN110568650A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201910853082.7

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。由淬灭光束或去交联光束构成第一光束,由激发光束或交联光束构成第二光束;光束合束后依次透过第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜,第一光束经第二光学薄膜、透明电极进入液晶层,经反射层反射,第二次进入液晶层,经液晶层相位调制后,最终从第一光学薄膜出射;第二光束经第二光学薄膜反射后最终经第一光学薄膜出射。上述方法使两束光束合束后再经过同一光调制模块,而仅对淬灭光束或去交联光束相位调制,这大大简化了光学成像和光刻系统的结构,并且由于使共路系统,其稳定性更好,本发明装置可以大大降低成像与光刻系统的搭建成本并且提高了系统的抗干扰能力,光学效率较高。

    一种CAD模型生成方法、装置、存储介质及电子设备

    公开(公告)号:CN119203285A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202411353436.9

    申请日:2024-09-26

    Abstract: 本说明书公开了一种CAD模型生成方法、装置、存储介质及电子设备。在本说明书提供的CAD模型生成方法中,获取计算机辅助设计CAD命令序列,作为样本CAD序列;将所述样本CAD序列输入待训练的扩散模型,所述扩散模型包含正向扩散子网和逆向扩散子网;通过所述正向扩散子网将所述样本CAD序列转换为样本嵌入向量,并对所述样本嵌入向量添加噪声,得到样本扩散向量;通过所述逆向扩散子网对所述样本扩散向量进行降噪处理,得到待优化预测向量,并根据所述待优化预测向量确定待优化预测序列;根据所述待优化预测向量与所述样本嵌入向量之间的差异对所述扩散模型进行训练;将训练后的扩散模型包含的逆向扩散子网作为目标模型,并采用所述目标模型生成CAD模型。

    一种超衍射极限焦斑阵列生成装置

    公开(公告)号:CN110568731B

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201910853722.4

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制,从而在样品面产生实心焦斑阵列;使淬灭光束或去交联光束经过相位调制,从而在样品面产生空心焦斑阵列,并使这两个焦斑阵列对准,最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列,所以生成的焦斑数量可以为任意多个,从而实现高通量的超分辨成像与激光直写,与已有的方法相比,本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。

    一种超衍射极限焦斑阵列生成装置

    公开(公告)号:CN110568731A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201910853722.4

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制,从而在样品面产生实心焦斑阵列;使淬灭光束或去交联光束经过相位调制,从而在样品面产生空心焦斑阵列,并使这两个焦斑阵列对准,最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列,所以生成的焦斑数量可以为任意多个,从而实现高通量的超分辨成像与激光直写,与已有的方法相比,本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。

    一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置

    公开(公告)号:CN110568650B

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN201910853082.7

    申请日:2019-09-10

    Abstract: 本发明公开了一种用于成像和光刻系统的共路光束调制装置。由淬灭光束或去交联光束构成第一光束,由激发光束或交联光束构成第二光束;光束合束后依次透过第一光学薄膜、玻璃基板、第二光学薄膜,第一光束经第二光学薄膜、透明电极进入液晶层,经反射层反射,第二次进入液晶层,经液晶层相位调制后,最终从第一光学薄膜出射;第二光束经第二光学薄膜反射后最终经第一光学薄膜出射。上述方法使两束光束合束后再经过同一光调制模块,而仅对淬灭光束或去交联光束相位调制,这大大简化了光学成像和光刻系统的结构,并且由于使共路系统,其稳定性更好,本发明装置可以大大降低成像与光刻系统的搭建成本并且提高了系统的抗干扰能力,光学效率较高。

    一种密文破解方法、装置、存储介质及电子设备

    公开(公告)号:CN116827507A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310321139.5

    申请日:2023-03-29

    Inventor: 吴文勋 刘鑫 刘鹏

    Abstract: 本说明书公开了一种密文破解方法、装置、存储介质及电子设备。在本说明书提供的密文破解方法中,获取待破解密文;将待破解密文输入预先训练的破解模型,通过编码子网提取编码特征;确定待破解密文中的已预测内容和未预测内容,并确定已预测内容对应的已预测明文;将已预测明文输入破解模型,通过解码子网的上下文层提取上下文特征;将编码特征和上下文特征输入解码子网中的预测层,以通过预测层输出预测特征;将预测特征输入破解模型中的输出子网,以通过输出子网得到未预测内容中的至少部分内容对应的明文;根据预测出的明文,重新确定已预测明文,并继续预测待破解密文中的未预测内容,直至预测出待破解密文的所有内容为止。

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