公开(公告)号：CN116661119A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202310633568.6

申请日：2023-05-31

Applicant: 之江实验室

Inventor： 刘文杰 ,  张祖鑫 ,  王瑾 ,  王权 ,  杨思恒 ,  陈勰宇 ,  周楠 ,  董建杰 ,  匡翠方

IPC: G02B21/00 ,  G02B21/10 ,  G01N21/84 ,  G01N21/01 ,  G01N21/45 ,  G01N21/47

Abstract: 一种基于干涉散射和暗场照明的双模态显微成像装置和方法，包括显微物镜，镜筒透镜，第一凸透镜，第一滤光片转盘，第二凸透镜，相机，扫描振镜，二分之一波片，第二滤光片转盘，激光器，偏振分光棱镜，照明调整镜，所述的第一滤光片转盘切换基础或放大的干涉散射显微成像、以及暗场照明显微成像这两种不同的模态；所述的第二滤光片转盘切换宽场照明和细光速照明两种不同的照明方式。本发明将干涉散射和暗场照明显微成像装置集于一体，系统利用率高；且不同模态下，可以保证观测到相同的样品区域，同时满足不同的观测需求，干涉散射显微成像装置具有高灵敏度适用于对纳米单分子材料的观测，暗场显微成像适用于对块状材料结构的实时观测。