-
公开(公告)号：CN114415482A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210324232.7
申请日：2022-03-30
Abstract: 本发明公开了一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：获取待刻写数据和基于振镜的超分辨激光直写系统的单次扫描范围；根据所述单次扫描范围，将所述待刻写数据分割为若干个子数据；根据全局坐标系，对所述子数据进行旋转，得到旋转数据；获取振镜的X极性和Y极性；根据所述X极性和Y极性，对所述旋转数据进行翻转，得到翻转数据；对所述翻转数据之间的拼接重合区域进行拟合，得到刻写数据；根据所述刻写数据，利用基于振镜的超分辨激光直写系统进行刻写。该方法解决振镜与全局坐标系之间存在角度偏差、振镜X/Y轴向与全局坐标轴向不一致和拼接刻写均匀性不一致的问题。
-
公开(公告)号：CN113189847A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110428488.8
申请日：2021-04-21
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统，该系统的激光直写过程是通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合实现的，并且引入一束环形抑制光束来阻止激发光焦斑边缘区域内的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制。所述的激发光束和其对应的环形抑制光束均由同一光纤选模耦合器产生，两光束从选模耦合器出射时具有天然的同轴传输特性。通过在系统中复用多个上述光纤选模耦合器，以及光纤开关阵列和其它光学和机械元件的协调控制，有望实现超万束的大规模并行式直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。
-
公开(公告)号：CN112505915A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202011296003.6
申请日：2020-11-18
Abstract: 本发明公开了一种激光束漂移实时探测与快速校正装置及方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、压电调节镜架、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件；通过纳米位移台与直角棱镜反射镜的组合，实现光束位置漂移的独立调控，通过压电调节镜架实现光束指向角度的独立调控。本发明通过光束指向位置漂移与角度漂移的独立调控，避免了常规光束指向系统中的解耦操作，实现小型化、高精度、快速度的光束稳定控制。利用本发明装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
-
公开(公告)号：CN113189847B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202110428488.8
申请日：2021-04-21
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统，该系统的激光直写过程是通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合实现的，并且引入一束环形抑制光束来阻止激发光焦斑边缘区域内的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制。所述的激发光束和其对应的环形抑制光束均由同一光纤选模耦合器产生，两光束从选模耦合器出射时具有天然的同轴传输特性。通过在系统中复用多个上述光纤选模耦合器，以及光纤开关阵列和其它光学和机械元件的协调控制，有望实现超万束的大规模并行式直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。
-
公开(公告)号：CN115980999A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310243262.X
申请日：2023-03-14
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种基于光学系统的光束自动校准装置及方法，通过运用前置运算放大器、高精度模数转换芯片ADC电路采集探测器的信号，经过模数转换后在逻辑芯片进行算法实现；其后逻辑芯片再输出一组新的信号，经过后置运算放大器、高精度数模转换芯片DAC、变压器等处理，再输送至后端设备，可实现光束校准。本发明使用当前性能较高的集成电路，对光束校准测量的精度把控更精准，响应速度较快，整个装置低成本、低功耗，算法植入后全自动运作，并且可通过上位机的软件实时关注装置的工作状态。本发明采用独立芯片来采集信号、处理模数、数模转换，或者是算法运行，无论从精度上、或者是运行效率上，都高于传统设计。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113909698B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202111248661.2
申请日：2021-10-26
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，包括步骤：1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；2)基于多通道声光调制器输出刻写波形，首先只输出第Nbeams束光的刻写波形；3)经过n次扫描后开始输出第Nveams‑1束光的刻写波形；4)再经过n次扫描后开始输出第Nbeams‑2束光的刻写波形；5)重复步骤3)‑4)直到所有光束波形都开始输出。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。
-
公开(公告)号：CN115327867B
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211253404.2
申请日：2022-10-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。
-
公开(公告)号：CN113960892A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111248690.9
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置，本发明装置利用像旋转器对多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明基于上述五种不同扫描策略，有效解决了现有并行激光直写由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。本发明针对不同应用，使用不同扫描策略，实现扫描速度与扫描质量的双重提升。
-
公开(公告)号：CN113960891A
公开(公告)日：2022-01-21
申请号：CN202111248686.2
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑；然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑；再基于多通道声光调制器输出刻写波形，位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写，关闭光开关，位移台进行一次步进移动；直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。同时，基于边缘光抑制原理获得超分辨效果，提升了现有双光子激光直写光刻的刻写精度。
-
公开(公告)号：CN113909698A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111248661.2
申请日：2021-10-26
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，包括步骤：1)基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；2)基于多通道声光调制器输出刻写波形，首先只输出第Nbeams束光的刻写波形；3)经过n次扫描后开始输出第Nveams‑1束光的刻写波形；4)再经过n次扫描后开始输出第Nbeams‑2束光的刻写波形；5)重复步骤3)‑4)直到所有光束波形都开始输出。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
35
records
(took 0.021 seconds)
