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公开(公告)号：CN107782279A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201710828490.8
申请日：2017-09-14
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明实施例公开一种基于多元线性回归模型反演计算光电经纬仪在外场时的调制传递函数(MTF)的方法，该方法通过在实验室测试目标模拟源获取建立多元线性回归模型的因变量和自变量，再采用最小二乘法计算获得多元线性回归模型中的回归系数及常量；在外场环境中，将光电经纬仪所获取图像的图像特征清晰度向量作为多元线性回归模型中的自变量，代入多元线性回归模型中即可计算得到此时外场环境下的调制传递函数。本发明实施例解决了外场环境下无法测试光电经纬仪的调制传递函数的问题，将该方法获取的调制传递函数反馈至光电经纬仪的补偿机构，可有效地提高成像质量。
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公开(公告)号：CN107687814A
公开(公告)日：2018-02-13
申请号：CN201710860038.X
申请日：2017-09-21
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种测量装置包括：工作台、光栅基底、步进方向测量镜、步进方向干涉仪、光学曝光装置以及全息体光栅相位定位测量装置；其中，光栅基底与步进方向测量镜固定于工作台的同一表面，且步进方向测量镜设置于光栅基底的一侧；步进方向干涉仪以设定距离与步进方向测量镜相对固定设置；光学曝光装置以第一预设距离固定于工作台上方，用于发射出曝光光束；全息体光栅相位定位测量装置以第二预设距离固定于工作台上方，用于发射出测量光束实时测量已完成曝光的全息体光栅的相位变化。该测量装置解决了随着工作台步进距离的增大导致步进方向干涉仪的测量精度和重复性不符合要求的问题，有效提高了光栅衍射波前的质量。
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公开(公告)号：CN106767916A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611115941.5
申请日：2016-12-07
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01C25/00
CPC classification number: G01C25/00
Abstract: 本发明涉及一种用于点源透射比法杂散光系数测试的宽动态光电探测系统，属于星敏感器、空间光学遥感成像相机等空间光学仪器光学性能测试领域。解决现有探测装置探测量程不够、采用不同类型的光电探测器组合测试过程出现非线性的技术问题。所述宽动态光电探测系统利用三个相同的宽动态光电探测装置分别探测空间光学系统入瞳、像面处辐照度和背景杂散光，数据采集计算机通过RS422接口采集光电探测装置数据并计算点源透射比。本发明通过三个宽动态光电探测装置实现辐照度的大范围线性测量，探测动态范围优于109，满足空间光学仪器点源透射比法的杂散光系数测试要求，对于研制专门的基于点源透射比法的杂散光测试设备具有重要意义。
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公开(公告)号：CN103925938A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410120281.4
申请日：2014-03-27
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01D18/00
Abstract: 本发明涉及一种用于光电测量设备性能指标检测的倒摆式模拟目标源，包括：竖直方向上依次设置的多个用来模拟具有不同俯仰角的无穷远光学目标的相互平行的平行光管；在多个平行光管像面处安放有不同形状的分划板，其用来产生多个用于光电测量设备成像的目标。本发明提出的倒摆式模拟目标源可以为光电测量设备室内性能检测提供静态检测目标源和动态目标源一体化的检测设备；并且可以产生具有多种具有不同俯仰角的运动目标源；目标轨迹更符合实际状态，对光电测量设备室内静、动态性能检测具有重要意义。
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公开(公告)号：CN108286943B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201810035524.2
申请日：2018-01-15
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种应用于光刻系统工作台的位移测量光学系统，第一差频干涉装置用于产生中心波长为第一波长值的差频相干光，分别向第一反射镜和第二反射镜发射两频率成分光，并接收两束光返回后汇合形成的干涉光；第二差频干涉装置用于产生中心波长为第二波长值的差频相干光，分别向第一反射镜和第二反射镜发射两频率成分光，并接收两束光返回后汇合形成的干涉光；第一反射镜位置固定，第二反射镜可随工作台移动，信号处理装置根据两差频干涉装置记录的干涉图像计算消除环境因素扰动后的第二反射镜的位移。本位移测量光学系统利用两种光源波长光基于光学干涉法实现位移测量，将环境因素的影响补偿在整个位移区域中，相比于现有技术可提高测量精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109632010B
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910063278.6
申请日：2019-01-23
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种位移与角度同步测量方法，包括步骤：激光器发出正交偏振的双频激光；双频激光经由所述分束器分为第一双频激光和第二双频激光；将第一双频激光和第二双频激光经偏振分束后经过反射以利特罗角入射至所述测量光栅上，然后携带相位信息的衍射光按原路返回，再在所述读数头内经偏振分束后在所述读数头内重合，并出射至所述接收器；S4，所述接收器将光信号转换为电信号，并输送给所述信号处理系统进行信号处理。本发明公开的位移与角度同步测量方法能实现位移与角度的同步、精确测量。
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公开(公告)号：CN107806822B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201710893616.X
申请日：2017-09-21
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种测量装置，包括：工作台、光栅基底、步进方向测量镜、步进方向干涉仪、光学曝光装置以及全息体光栅相位定位测量装置；光栅基底与步进方向测量镜固定于工作台的同一表面；步进方向干涉仪与步进方向测量镜相对设置；光学曝光装置以第一预设距离固定于工作台上方；全息体光栅相位定位测量装置以第二预设距离固定于工作台上方；依据步进方向干涉仪与步进方向测量镜之间的光程和/或依据检测已完成曝光的全息体光栅的相位变化，对工作台进行定位测量。该测量装置解决了随着工作台步进距离的增大导致步进方向干涉仪的测量精度和重复性不符合要求的问题，有效提高了光栅衍射波前的质量，也降低了对环境控制的成本和技术。
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公开(公告)号：CN107607045B
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201710735440.5
申请日：2017-08-24
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量系统，包括双频激光器(1)、读数头(2)、测量光栅(3)、接收器(4)和(5)、信号处理系统(6)，双频激光器(1)发出的激光入射到读数头(2)中，经过读数头(2)中的光学元件，入射激光会形成两组测量光束，每组测量光束以满足光栅方程的利特罗角入射到测量光栅(3)上，当测量光栅(3)沿光栅矢量方向运动时，携带测量信息的衍射光会按原路返回，经过读数头(2)中的光学元件形成两路测量信号，分别被接收器(4)和接收器(5)接收，并进入信号处理系统。本发明是一种不需要多个读数头排列结构紧凑，体积小，对环境敏感性低，可以降低环境控制成本，提升系统性能。
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公开(公告)号：CN107588728B
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201710734787.8
申请日：2017-08-24
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于扫描干涉场曝光系统的精密光栅位移测量系统，在扫描干涉场曝光系统的正面及背面分别引入长行程、高精度衍射光栅位移测量系统，所述光栅位移测量系统均包括：双频激光器、光阑、读数头，所述双频激光器、光阑、读数头分别固定在激光器固定板的正反面相同位置，所述激光器固定板固定在大理石平台的底端，所述光阑通过控制系统自动控制双频激光器的出射光是否进入读数头，所述读数头集成了光学元件和接收器。本发明是一种解决测量行程增大导致激光干涉仪受环境影响更为敏感而造成测量精度下降的测量系统和方法，降低环境控制成本，提高光栅衍射波前质量。
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公开(公告)号：CN107462166B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201710734786.3
申请日：2017-08-24
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量方法，双频激光器发出的激光入射到读数头中，经过读数头中的光学元件，入射激光会形成两组测量光束，每组测量光束以满足光栅方程的利特罗角入射到测量光栅上，测量光栅由多块光栅沿光栅矢量方向拼接而成。当测量光栅沿光栅矢量方向运动时，携带测量信息的衍射光按原路返回，经过读数头中的光学元件形成两路测量信号，分别被两个接收器接收，并进入信号处理系统。在测量过程中，随着光栅的运动，两个接收器至少一个可以接收到测量信号，从而实现了长行程的位移测量。本发明不需要多个读数头便可完成长行程位移测量，结构紧凑，体积小，对环境敏感性低，可以降低环境控制成本，提升测量性能。
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