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公开(公告)号:CN116124272A
公开(公告)日:2023-05-16
申请号:CN202211489170.1
申请日:2022-11-25
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于频域干涉的全光纤振动测量方法及系统,涉及振动测量技术领域,其技术方案要点是:发出一序列重复的且具有宽光谱特征的脉冲激光;发出与脉冲激光的重复频率相同的方波信号,并依据方波信号调控光路工作的时序;收集脉冲激光中的单脉冲对振动被测物进行位移测量后形成的信号光和参考光;在光路开启时对信号光和参考光进行放大处理,得到信号特征为频域干涉特征的光学信号;对光学信号中的频域干涉特征进行傅里叶变换,得到振动被测物的振动位移。本发明能够采用傅里叶变换进行准确的信号解析,实现了kHz级的振动过程测量。
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公开(公告)号:CN114184082A
公开(公告)日:2022-03-15
申请号:CN202111513628.8
申请日:2021-12-10
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种测量炮管应变的装置,该装置主要包括输入端耦合器、输出端耦合器和一段连接于输入端耦合器与输出端耦合器之间的单模光纤,所述单模光纤反复缠绕紧贴于待测炮管外壁形成一环形腔,所述环形腔作为衰荡腔;其中,输入端耦合器和输出端耦合器均为一分二耦合器,包含99%端口和1%端口;其中,输入端耦合器的99%端口与输出端耦合器的99%端口直接连接,输出端耦合器的1%端口依次连接光电探测器及示波器。本发明采用光纤环形腔衰荡技术,不仅可提高灵敏度,还有很强的适用性。
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公开(公告)号:CN110793444B
公开(公告)日:2021-05-18
申请号:CN201911014491.4
申请日:2019-10-24
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本申请实施例提供一种双级全光纤频域干涉测距方法及装置,涉及绝对距离精密测量技术领域。该方法包括:宽带光源经过两级级联的频域干涉光路产生两路探测光和两路参考光,其中,所述两级级联的频域干涉光路指的是第一级频域干涉光路和第二级频域干涉光路,光谱仪整合并记录上述两路探测光和两路参考光的叠加产生的六个频域干涉信号I(f),根据I(f)得到对应的功率谱函数G(t),并选取G(t)的极大值点中满足条件的极大值点,得到待测距离值d。本申请方便易操作,能够高分辨力地测量被测物体表面与光纤探头光出射端面的绝对距离,其工作距离可达200mm,精度优于5μm,量程可达100mm。
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公开(公告)号:CN110793445A
公开(公告)日:2020-02-14
申请号:CN201911014494.8
申请日:2019-10-24
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本申请实施例提供一种基于全光纤频域干涉的多通道同步绝对距离测量方法及装置,涉及绝对距离精密测量技术领域。该方法包括:将宽带光源分为n路测量光,n路测量光经过光纤探头和测量目标后返回n路参考光和对应的探测光。将所有n路参考光和对应的探测光频域干涉后的光谱进行整合并记录其光强 其中Ii(f)为n路参考光和对应的探测光频域干涉后的光强,再将Ι(f)分段处理得到对应的功率谱函数Gi(t),进而得到各个通道对应的光纤探头端面与反射体表面的绝对距离。本申请可高精度地同步测量多个被测物体表面与光纤探头光出射端面的绝对距离,测量精度优于5μm,测量量程可达到200mm。
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公开(公告)号:CN106441131A
公开(公告)日:2017-02-22
申请号:CN201610847526.2
申请日:2016-09-26
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
Inventor: 马鹤立 , 翁继东 , 王翔 , 陶天炯 , 刘盛刚 , 郝龙 , 陈宏 , 王为 , 康强 , 黄金 , 叶素华 , 蓝强 , 鲜海峰 , 吴强 , 刘仓理 , 谭华 , 傅秋卫 , 陈万新
CPC classification number: G01B11/12 , G01B5/0002
Abstract: 本发明涉及一种滑膛管内径测量系统,尤其是涉及一种可测量小孔径滑膛长身管内径的测头机构。本发明针对现有技术存在的问题,提供一种可测量小孔径滑膛长身管内径的测头机构。通过该测头的定心机构完成在待测管内部的定心操作,然后利用光学测量机构,将带有小孔径滑膛长身管内径的信号传递给后续装置进行处理得到小孔径滑膛长身管的内径。本发明包括用于使测头机构几何中心与待测管截面中心重合的定心机构和用于安装光纤探头、进行相关距离测量的光学测量机构,其中所述定心机构圆柱面与光学测量机构圆环面套接。
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公开(公告)号:CN103644859A
公开(公告)日:2014-03-19
申请号:CN201310689823.5
申请日:2013-12-16
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01B11/16
Abstract: 本发明涉及非接触式测量领域,尤其是涉及测量金刚石压砧在极端高温高压条件下形变的装置及方法。本发明针对现有技术存在的问题,提供一种可测量金刚石压砧在极端高温高压条件下形变的装置及方法。具体通过探测光发射光路、信号接收光路以及信号处理计算机获得金刚石压砧在极端高温高压条件下的形变;所述探测光发射光路提供宽谱带探测光,所述信号接收光路收集从金刚石压砧前台面返回的信号光和从其后台面返回的参考光,两束光在信号接收光路的光纤光谱仪中发生频谱干涉;通过计算机处理光纤光谱仪输出的频谱干涉信号,获得金刚石压砧在极端高温高压条件下的形变。
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公开(公告)号:CN118259043A
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN202410435375.4
申请日:2024-04-11
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01P3/36
Abstract: 本发明公开了一种基于光学级联降频的激光干涉测速系统和方法,本发明属于激光干涉测速技术领域,所述激光干涉测速系统包括:主激光器,所述主激光器发出探测光,所述探测光经光纤探头照射被测目标表面,所述光纤探头接收经所述被测目标表面反射回的多普勒频移信号光;以及,N个参考激光器,N个所述参考激光器发出N路不同频率的参考光;所述多普勒频移信号光通过分束器分为N路信号光,N路所述信号光分别与N路参考光一一对应进行外差混频;N路混频信号分别经一个光电探测器转换为电信号后由示波器采集记录。本发明采用光学级联降频技术,对原光学拍信号进行成倍降频和分段记录,实现在国产化设备上实现超高速测量。
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公开(公告)号:CN118191356A
公开(公告)日:2024-06-14
申请号:CN202410435382.4
申请日:2024-04-11
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01P3/36
Abstract: 本发明公开了一种双色超外差降频的激光干涉测速系统和方法,本发明属于激光干涉测速技术领域,本发明提出的激光干涉测速系统包括:两个激光器;两个所述激光器发射两路不同波长的激光,两路所述激光分别被分为探测光和本征光,两路所述探测光经光纤探头后照射至被测目标表面,所述光纤探头接收反射回的两路所述探测光对应的多普勒信号光;两路所述多普勒信号光分别与各自对应的本征光进行外差混频;外差混频后的两路信号进行超外差混频;超外差混频后的信号经过光电探测器转换为电信号后由示波器采集记录。本发明采用超外差激光干涉测速技术,能够大大降低速度信号对应的记录带宽需求,可以应用在小型化、远控遥测等测试领域。
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公开(公告)号:CN114088238B
公开(公告)日:2023-08-01
申请号:CN202111373659.8
申请日:2021-11-18
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01K11/32
Abstract: 本发明提供一种基于宽辐射谱的皮秒时间分辨冲击温度测量系统及方法,所述系统包括相互垂直的可见光探测通道和近红外探测通道,所述可见光探测通道、近红外探测通道均由多个分离的探测通道组成,其中,各可见光探测通道分别由依次排布的二向色镜、透镜和可见光探测器构成,透镜和可见光探测器之间设有多模光纤;各近红外探测通道分别由依次排布的反射镜、透镜和近红外探测器构成,透镜和可见光探测器之间设有多模光纤;各可见光探测通道、各近红外探测通道的辐射谱宽度均超过百纳米。所述测量方法包括步骤:(1)标定测量系统;(2)求解实际待测对象的真实冲击温度。本发明将探测系统的温度测量下限降低至3000K以下。
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公开(公告)号:CN108981584B
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN201811035196.2
申请日:2018-09-06
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种全光纤动态绝对距离测量装置及方法,包括光纤飞秒激光器、第一光纤滤波器、三端口光纤环形器、第一光纤、光纤探头、待测客体、第二光纤滤波器、第二光纤、光纤放大器、光电探测器、示波器和计算机。入射激光在光纤探头端面的菲涅尔反射光作为干涉的参考光,其余入射激光通过光纤探头照射到待测客体之上,光纤探头同时接收从待测客体反射回的光,作为干涉的信号光,这两束光干涉之后,由光电探测器转换为电信号并由示波器记录,通过计算机处理记录的信号得到待测客体与光纤探头端面之间的距离。本发明采用全光纤、共轴式光路结构设计,大大降低了装置的调试、操作难度,有利于装置及方法的推广使用,同时提高了装置的抗干扰能力。
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