公开(公告)号：CN101595406B

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN200880002129.9

申请日：2008-01-11

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 重森勋 ,  宫村护嗣 ,  和久寿男 ,  饭田裕介 ,  砂原建朗 ,  松井浩平 ,  池田武司 ,  田中英世 ,  青木英士 ,  原田元气

IPC: G02B5/20 ,  C09B67/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033

CPC classification number: C09B67/0065 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105 ,  Y10T428/24479

Abstract: 本发明提供一种滤色器的制造方法，其中将以下的工序重复多次，从而形成至少2色的滤波器节和/或黑色矩阵，所述工序为：在基板上涂布含有颜料、具有烯属不饱和双键的单体以及光聚合引发剂的着色组合物以形成着色涂膜的工序；对上述着色涂膜的成为滤波器节或黑色矩阵的部分以累积曝光量达到1～150mJ/cm2的方式照射波长为308nm(XeCL)的准分子激光以使其固化的工序；以及，除去上述着色涂膜的未固化部分而形成滤波器节或黑色矩阵的工序。本发明还提供一种在该滤色器的制造方法中使用的着色组合物，其含有颜料、具有烯属不饱和双键的单体以及光聚合引发剂。

公开(公告)号：CN101595406A

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200880002129.9

申请日：2008-01-11

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 重森勋 ,  宫村护嗣 ,  和久寿男 ,  饭田裕介 ,  砂原建朗 ,  松井浩平 ,  池田武司 ,  田中英世 ,  青木英士 ,  原田元气

IPC: G02B5/20 ,  C09B67/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033

CPC classification number: C09B67/0065 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105 ,  Y10T428/24479

Abstract: 本发明提供一种滤色器的制造方法，其中将以下的工序重复多次，从而形成至少2色的滤波器节和/或黑色矩阵，所述工序为：在基板上涂布含有颜料、具有烯属不饱和双键的单体以及光聚合引发剂的着色组合物以形成着色涂膜的工序；对上述着色涂膜的成为滤波器节或黑色矩阵的部分以累积曝光量达到1～150mJ/cm2的方式照射波长为308nm(XeCL)的准分子激光以使其固化的工序；以及，除去上述着色涂膜的未固化部分而形成滤波器节或黑色矩阵的工序。本发明还提供一种在该滤色器的制造方法中使用的着色组合物，其含有颜料、具有烯属不饱和双键的单体以及光聚合引发剂。

公开(公告)号：CN1420384A

公开(公告)日：2003-05-28

申请号：CN02152241.3

申请日：2002-11-21

Applicant: 东洋油墨制造株式会社

Inventor： 木村秀一 ,  齐藤健 ,  田中英世 ,  宫村护嗣 ,  山田和则

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明公开了一种黑底基板的制造方法，其特征在于，在具有第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面的透明基板的该第一主面上实质上全面地涂布黑色感光性抗蚀剂，对该涂布的黑色感光性抗蚀剂层，通过光掩模为媒介从前述第一主面侧照射第一活性能量线，将该第一活性能量线照射的黑色感光抗蚀剂层供作显影处理以形成黑底图案，其次，对该黑底图案，从前述第二主面侧照射第二活性能量线。另外，本发明还公开了通过该方法制得的黑底基板、和使用该黑底基板的滤色器。