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公开(公告)号：CN114496870A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202111288079.9
申请日：2021-11-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供无需设置定位装置就能够对输送对象物进行定位的检测装置、处理系统和输送方法。本发明的一个方式的检测装置是检测输送对象物相对于输送机构的位置偏移的检测装置，其包括：图像传感器，其获取包含上述输送机构和由该输送机构保持的上述输送对象物的图像；和运算部，其基于由上述图像传感器获取的上述图像，计算上述输送对象物的包含水平方向和旋转方向上的位置偏移量在内的位置偏移量。
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公开(公告)号：CN114203581A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111043090.9
申请日：2021-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B08B5/02
Abstract: 本发明提供能够通过消除气体的滞留来抑制颗粒积存的基片处理装置等，基片处理装置包括：真空输送室，其具有顶面、与顶面相对的底面以及顶面与底面之间的侧面，侧面具有第一侧面和与第一侧面相对的第二侧面；配置在真空输送室内的用于输送基片的输送机械臂；与第一侧面连接的负载锁定模块；配管，其与吹扫气体供给源连接，向真空输送室内供给吹扫气体；至少1个进气口，其设置在第二侧面的附近的顶面，与配管连接；和至少1个排气口，其设置在真空输送室的第一侧面的附近的底面，与用于对供给到真空输送室的吹扫气体进行排气的排气泵连接。
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公开(公告)号：CN114078731A
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202110912886.7
申请日：2021-08-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/687 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供运送装置、运送系统和末端执行器，其目的在于能够削减含运送装置在内的系统全体的空间量，运送装置是用于同时或分别运送晶片和具有圆形的外形的消耗品的运送装置，其包括末端执行器、机械臂和控制装置，消耗品能够配置在晶片处理模块内，消耗品的外径比晶片的外径大，在末端执行器以同时或分别载置晶片和消耗品的方式构成，机械臂以使末端执行器移动的方式构成，控制装置在运送消耗品的情况下，控制机械臂，以使得消耗品以消耗品的重心与第一位置一致的方式载置在末端执行器上，此外，控制装置在运送晶片的情况下，控制机械臂，以使得晶片以晶片的重心与第一位置和末端执行器的前端之间的第二位置一致的方式载置在末端执行器上。
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公开(公告)号：CN118922927A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202380027520.9
申请日：2023-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/3065
Abstract: 本发明的一个方式的基片处理系统包括：多个处理部，其分别具有能够支承基片和配置在上述基片的周围的环的基片支承部；与上述多个处理部连接的真空输送部；收纳上述环的收纳部；和控制部，上述真空输送部具有输送基片或上述环的输送机械臂，上述控制部进行控制以执行下述步骤：从上述多个处理部和上述真空输送部移除所有基片的移除步骤；和在上述移除步骤之后，在上述多个处理部中的至少一个处理部与上述收纳部之间输送上述环的输送步骤。
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公开(公告)号：CN118136551A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202311578460.8
申请日：2023-11-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供运送模块和运送方法，能够减少基板处理系统的设置面积。运送模块包括第1运送室、第2运送室和开闭门。第1运送室具有能够收纳被运送物的收纳部。在收纳有多个被运送物的容器被送入第2运送室内、第2运送室内的压力从大气压切换成低压后，以第1运送室内的空间和第2运送室内的空间连通的方式控制开闭门。多个被运送物从容器向第1运送室内的收纳部运送，从收纳部向真空运送模块内运送。从真空运送模块送出的被运送物不经由收纳部地运送至容器内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116057676A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202280006376.6
申请日：2022-02-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 本发明的基片处理系统包括等离子体处理模块，上述等离子体处理模块包括：第一环，其配置在载置台的环支承面上；第二环，其配置在上述第一环上，具有比上述第一环的内径小的内径；多个第一支承销，其配置在上述环支承面的下方；和多个第二支承销，其配置在上述基片支承面的下方。在上述基片处理系统中，控制器构为，能够选择性地执行同时输送上述第一环和上述第二环的同时输送模式、以及单独输送上述第二环的单独输送模式。在上述同时输送模式中，利用上述多个第一支承销将上述第一环和上述第二环一起抬起并交接给输送机器人。在上述单独输送模式中，利用上述多个第一支承销将上述第一环和上述第二环一起抬起，接着，利用上述多个第二支承销将输送治具支承在比上述第二环的高度低的高度，之后，使上述多个第一支承销下降，利用上述多个第二支承销支承上述输送治具和上述第二环，将它们一起交接给输送机器人。
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公开(公告)号：CN115050674A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210163305.9
申请日：2022-02-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供能够使对输送机器人的示教自动化的输送系统、输送装置和输送方法。本发明的一方式的输送系统包括：基于动作指示利用末端执行器输送输送对象物的输送机器人；和将上述动作指示输出到上述输送机器人的控制部，上述末端执行器和上述输送对象物中的至少任一者具有传感器和摄像机中的至少任一者，上述控制部基于上述传感器的检测结果和上述摄像机的撮影结果中的至少任一者，计算上述末端执行器与上述输送对象物的相对位置，上述控制部基于上述相对位置决定上述末端执行器相对于上述输送对象物的教示位置，将上述动作指示输出到上述输送机器人以使得在该教示位置配置该末端执行器。
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公开(公告)号：CN114843168A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202210087175.5
申请日：2022-01-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够对消耗构件进行定位并收纳的收纳容器和处理系统。本公开的一方式的收纳容器是收纳在外周和内周的至少一者具有缺口的环状构件的容器，其中，该收纳容器具有：底板，其载置所述环状构件；以及多个导销，其自所述底板突出，对所述环状构件进行定位，所述多个导销包括与所述缺口卡合的销。
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公开(公告)号：CN114695183A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111561996.X
申请日：2021-12-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置，其无需改变真空输送模块的设计，就能够改变负载锁定模块中的基片输送室的数量。基片处理装置包括：一个或多个基片处理模块；与一个或多个基片处理模块连接的真空输送模块；负载锁定模块，其包括沿第一水平方向排列的至少3个负载锁定室；筒状适配模块，其配置在真空输送模块与负载锁定模块之间，与负载锁定模块连接，具有第一开口和第二开口，第一开口在第一水平方向上具有第一长度，第二开口与真空输送模块连接且在第一水平方向上具有第二长度，第一长度比第二长度大；以及输送机构，其配置在真空输送模块内，构成为能够经由筒状适配模块在基片处理模块与负载锁定模块之间输送基片。
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公开(公告)号：CN114496694A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202111201637.3
申请日：2021-10-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种处理系统和输送方法，涉及能够高效地更换处理室内的消耗部件的技术。处理系统包括：内部能够安装消耗部件的腔室；用于收纳消耗部件的收纳模块；检测消耗部件的位置的位置检测传感器；能够与腔室和收纳模块连接的真空输送模块，其具有在腔室与收纳模块之间输送消耗部件的输送机械手；和控制部，其构成为执行：步骤(a)，控制输送机械手，将安装于腔室的消耗部件输送到收纳模块；步骤(b)，利用位置检测传感器检测向收纳模块输送的消耗部件的位置；和步骤(c)，控制输送机械手，基于步骤(b)中检测出的消耗部件的位置，从收纳模块将与消耗部件不同的新的消耗部件在进行位置修正的基础上输送到腔室。
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