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公开(公告)号：CN110997319A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880048855.8
申请日：2018-07-10
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明的目的是提供在作为用于涂布功能性材料而获得功能性材料层的薄膜(功能性膜)的工序基材使用时，能够使涂布性、加工后的剥离性、功能性膜的特性、品质良好的膜。解决手段是一种膜，其特征在于，是在至少一面具有聚合物A层的膜，在将利用AFM求出的聚合物A层的最大高度设为Rm1(nm)，将180℃加热处理5分钟后的、利用AFM求出的聚合物A层的最大高度设为Rm2(nm)时，满足下述式(I)。Rm2-Rm1＞0nm···(I)。
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