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11.

发明公开
磁场施加装置审中-实审

公开(公告)号：CN117063027A

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202180096385.4

申请日：2021-04-01

Applicant: 三菱电机株式会社

Inventor： 小笠原敦 , 殿冈俊 , 筱崎健

IPC: F25B21/00

Abstract: 对磁热材料施加磁场的磁场施加装置(1)具备：磁场产生部件(10)；第1磁轭(11)，连接于磁场产生部件(10)的两极；以及第2磁轭(12)，以能够在第1位置与第2位置之间移动的方式配置。由磁场产生部件(10)和第1磁轭(11)形成的第1闭合磁路(41)穿过容纳有磁热材料的磁场施加区域(R)。由磁场产生部件(10)、第1磁轭(11)和第2磁轭(12)形成的第2闭合磁路(42)绕过磁场施加区域(R)。磁场产生部件(10)、第1磁轭(11)和磁场施加区域(R)的相对位置关系是不变的。第2磁轭(12)位于第2位置时的第2闭合磁路(42)的磁阻小于第2磁轭(12)位于第1位置时的第2闭合磁路(42)的磁阻。

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