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发明公开
用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使用该组合物的蚀刻方法、多层膜配线的制造方法、基板无效复审申请

公开(公告)号：CN104968838A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201480007128.9

申请日：2014-03-31

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 安谷屋智幸 , 夕部邦夫 , 玉井聪

IPC: C23F1/18 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/26 , C11D17/08 , C23F1/26 , H01L21/306

Abstract: 本发明提供用于蚀刻含有铜和钛的多层膜的液体组合物、和使用该液体组合物蚀刻含有铜和钛的多层膜的方法、使用该蚀刻方法的多层膜配线的制造方法、以及设置有利用该制造方法制造的多层膜配线的基板。本发明中使用的液体组合物包含(A)马来酸根离子供给源、(B)铜离子供给源、以及(C)氟化物离子供给源，且液体组合物的pH值为0～7。

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