公开(公告)号：CN103917575A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201280053898.8

申请日：2012-11-02

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 佐藤济 ,  藤田理惠子 ,  河井润也 ,  佐竹贤一 ,  古屋光教

IPC: C08G61/10 ,  C08G61/12 ,  H01L51/42

CPC classification number: H01L31/02167 ,  C08G61/123 ,  C08G61/124 ,  C08G61/126 ,  C08G2261/1412 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3243 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/411 ,  C08G2261/91 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0053 ,  H01L51/0094 ,  H01L51/42 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521

Abstract: 本发明以采用基于过渡金属催化剂进行的单体的偶联反应而得到分子量更大的共轭高分子为课题。本发明涉及一种共轭高分子的制造方法，包含通过偶联反应使1种以上的单体聚合的工序，并用1种以上的均相过渡金属配合物催化剂和1种以上的非均相过渡金属配合物催化剂来进行单体的偶联反应。

公开(公告)号：CN101135850A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710182370.1

申请日：2003-08-05

Applicant: 三菱化学株式会社 ,  日本合成化学工业株式会社

Inventor： 浦野年由 ,  龟山泰弘 ,  藤田理惠子 ,  宫泽隆司 ,  利光惠理子

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033

CPC classification number: G03F7/033 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/031

Abstract: 本发明提供一种成像材料及其抗蚀剂成像法，该成像材料具有对紫光区激光束高度敏感的紫激光感光性抗蚀剂材料层，同时，即使当抗蚀剂材料层的膜较厚时，其感光性也不会下降。本发明提供一种具有紫激光感光性抗蚀剂材料层的成像材料，该成像材料包括被加工基板和形成于所述基板上的紫激光感光性抗蚀剂材料层，其中所述感光性抗蚀剂材料层的膜厚至少为10μm，并且在405nm的波长处具有每1μm膜厚至多为0.3的吸光度，本发明还提供一种抗蚀剂成像法，其中用波长为320nm至450nm的激光束对所述成像材料的感光性抗蚀剂材料层进行扫描曝光，随后进行显影处理。