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公开(公告)号：CN102738447B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201110458152.2
申请日：2011-12-23
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01M4/139
Abstract: 公开了一种在电极集电体上形成非涂覆部分的连续沉积装置。连续沉积装置包括：第一导向鼓状物，与从拆卷机供应的电极集电体的一个表面接触以对电极集电体进行导向；第一沉积源，与第一导向鼓状物相邻以将电极形成材料喷射到通过第一导向鼓状物的电极集电体上；第一固定遮蔽单元，包括与第一导向鼓状物相邻的第一暴露部，并局部敞开以将电极集电体暴露于电极形成材料；第一移动遮蔽单元，包括第一掩蔽部、设置在第一固定遮蔽单元的下部的另一侧的第二掩蔽部、使第一掩蔽部水平移动的第一驱动部和使第二掩蔽部水平移动的第二驱动部，第一掩蔽部水平移动以遮蔽第一暴露部，第二掩蔽部水平移动并能够与第一掩蔽部布置在同一竖直线上以遮蔽第一暴露部。
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公开(公告)号：CN102969528A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210312585.1
申请日：2012-08-29
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01M10/0525 , H01M4/13 , H01M10/42
CPC classification number: H01M4/625 , H01M4/483 , H01M10/0525 , H01M10/446 , Y02E60/122
Abstract: 锂二次电池包括正极、负极和电解质。负极包括集流体、在集流体上并且包含由SiOx(0.95
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公开(公告)号：CN106356493B
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN201610561723.8
申请日：2016-07-15
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01M50/566 , H01M10/04 , H01R43/02
Abstract: 提供一种制造二次电池的方法，所述方法包括：通过使用包括第一突出尖部的第一焊头将电极组件的第一电极板和第一电极接线片超声焊接到彼此；通过使用包括第二突出尖部的第二焊头将电极组件的第二电极板和第二电极接线片超声焊接到彼此，第二突出尖部的设置方向不同于第一突出尖部的设置方向；以及通过在第一电极板与第二电极板之间布置隔板来准备电极组件。
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公开(公告)号：CN107645010B
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201710593907.7
申请日：2017-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供了一种可充电电池。根据本发明的示例性实施例的可再充电电池包括：电极组件，包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极被卷绕并且使隔膜置于第一电极和第二电极之间；壳体，容纳电极组件，其中，第一电极包括：第一接线片部分，包括涂覆有第一活性材料的第一涂覆区域以及向第一涂覆区域的一侧突出且没有涂覆第一活性材料的多个第一未涂覆接线片；第一非接线片部分，连接到第一接线片部分且在第一接线片部分的最外部处包裹第一接线片部分至少一次。
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公开(公告)号：CN107645010A
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201710593907.7
申请日：2017-07-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供了一种可充电电池。根据本发明的示例性实施例的可再充电电池包括：电极组件，包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极被卷绕并且使隔膜置于第一电极和第二电极之间；壳体，容纳电极组件，其中，第一电极包括：第一接线片部分，包括涂覆有第一活性材料的第一涂覆区域以及向第一涂覆区域的一侧突出且没有涂覆第一活性材料的多个第一未涂覆接线片；第一非接线片部分，连接到第一接线片部分且在第一接线片部分的最外部处包裹第一接线片部分至少一次。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102969528B
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201210312585.1
申请日：2012-08-29
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01M10/0525 , H01M4/13 , H01M10/42
CPC classification number: H01M4/625 , H01M4/483 , H01M10/0525 , H01M10/446 , Y02E60/122
Abstract: 锂二次电池包括正极、负极和电解质。负极包括集流体、在集流体上并且包含由SiOx(0.95
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公开(公告)号：CN102683643A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210060217.2
申请日：2012-03-08
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01M4/139
Abstract: 本发明提供一种用于电极活性材料的气相沉积系统，其能够在通过沉积在电极板上涂覆电极活性材料的过程中防止气相沉积源被用于形成非涂覆部分的遮罩污染。该气相沉积系统包括：拆卷机，供应电极板；卷绕机，卷绕电极板；引导鼓，引导要被传送的电极板；遮罩，成形为具有一预定宽度的圆筒，具有以规则间隔形成的多个狭缝，并在引导鼓下方旋转；气相沉积源，位于遮罩中并喷射电极活性材料到电极板上；防粘附板，形成为板形，并位于遮罩中气相沉积源下方；以及加热器，位于防粘附板下方。
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公开(公告)号：CN102465252A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110115766.0
申请日：2011-04-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供了一种将沉积物质沉积到基片中除未涂覆部分之外的涂覆部分的真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法。所述真空沉积装置包括：辊筒，在真空腔内支撑具有涂覆部分和未涂覆部分的基片的连续移动；沉积源，安装在所述辊筒的对立侧以向所述涂覆部分提供沉积物质；掩模，在所述沉积源的开口与所述辊筒之间移动时阻断沉积物质从所述沉积源向所述涂覆部分移动；检测传感器，检测在移动的基片上设置的第一参考点和第二参考点；控制器，根据基于第一参考点和第二参考点计算得出的并且在所述掩模上设置的第三参考点和第四参考点是否分别对应于第一参考点和第二参考点来控制所述基片和所述掩模的移动，以便将沉积物质沉积到所述涂覆部分。
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公开(公告)号：CN102465252B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201110115766.0
申请日：2011-04-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 提供了一种将沉积物质沉积到基片中除未涂覆部分之外的涂覆部分的真空沉积装置和使用该真空沉积装置的真空沉积方法。所述真空沉积装置包括：辊筒，在真空腔内支撑具有涂覆部分和未涂覆部分的基片的连续移动；沉积源，安装在所述辊筒的对立侧以向所述涂覆部分提供沉积物质；掩模，在所述沉积源的开口与所述辊筒之间移动时阻断沉积物质从所述沉积源向所述涂覆部分移动；检测传感器，检测在移动的基片上设置的第一参考点和第二参考点；控制器，根据基于第一参考点和第二参考点计算得出的并且在所述掩模上设置的第三参考点和第四参考点是否分别对应于第一参考点和第二参考点来控制所述基片和所述掩模的移动，以便将沉积物质沉积到所述涂覆部分。
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