公开(公告)号：CN1118915A

公开(公告)日：1996-03-20

申请号：CN95109191.3

申请日：1995-07-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴永洙 ,  金相准 ,  金圣薰 ,  李兆远

IPC: G11B5/127

CPC classification number: G11B5/255 ,  G11B5/1871 ,  G11B5/455 ,  G11B5/53 ,  G11B33/10 ,  Y10T29/49048 ,  Y10T29/49055 ,  Y10T29/49057

Abstract: 一种用于制造磁头的方法，该磁头用于在或从磁记录介质，例如录像带上记录或重放信息，该方法包括，制备具有同磁带相接触的一接触面的一片磁芯，该磁芯有一用于形成泄漏磁场的间隙，利用离子蚀刻方法对该片磁芯的接触面进行抛光，该离子蚀刻即是用离子碰撞该接触面。在接触面上形成保护层，该保护层是由具有高度表面润滑特性和良好的抗磨损特性的材料制成。用上述方法，磁头污染降低，磁头寿命延长和磁记录和重放特能得到改进。