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公开(公告)号：CN106556677B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201610959549.2
申请日：2016-10-27
Applicant: 苏州大学
IPC: G01N33/00 , C01B32/184
Abstract: 本发明公开了一种三维多孔石墨烯超薄膜气体传感器及其制备方法，经带负电多孔石墨烯分散液的制备、带正电多孔石墨烯分散液的制备、三维多孔石墨烯超薄膜的组装制备、三维多孔石墨烯超薄膜气体传感器的制备四个步骤实现传感器的制备。本发明所得到的多孔石墨烯超薄膜气敏传感器对DMMP气体分子具有极高的灵敏度。此制备方法工艺简单，适合于传感器的大量制备。
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公开(公告)号：CN107908086A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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公开(公告)号：CN105511074B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610004778.9
申请日：2016-01-06
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统，该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控，通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出，通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。
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公开(公告)号：CN105619819B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/268 , B29C64/245 , B33Y30/00
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN107481612A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710811318.1
申请日：2017-09-11
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G09F1/00
CPC classification number: G09F1/00
Abstract: 本发明公开一种防伪证卡及其制作方法，防伪证卡包括基层和表层，所述表层设有含防伪信息，所述基层与所述表层相结合的面为同一材料，两者通过加热层压方式熔融在一起形成整体结构，通过上述方式，本发明能够达到层间结合牢度好的效果。
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公开(公告)号：CN107436494A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201710851837.0
申请日：2017-09-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 一种3D显示装置，包括背光结构、二维图像显示器二维图像显示器和光场调制器，二维图像显示器设置于背光结构与光场调制器之间,光场调制器设置于二维图像显示器的显示面前方。本发明的3D显示装置能解决由于匹配间隙，导致光场调制器中的纳米像素与二维图像显示器上的像素对准误差问题。
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公开(公告)号：CN104185410B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201410464874.2
申请日：2014-09-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微金属网格的电磁屏蔽罩及其制备方法，该方法包括：通过微纳压印方法，在柔性衬底上形成微金属网格沟槽；将纳米导电浆料通过刮涂方式填充到微金属网格沟槽中，并烧结后形成微金属网格导电薄层；通过电铸沉积后在微金属网格沟槽中形成的微金属网格；将沉积后的微金属网格从柔性衬底的微金属网格沟槽中剥离出来，形成镂空的微金属网格；将镂空的微金属网格与相同尺寸的金属薄片复合，形成复合微金属网格；将复合微金属网格固定于凹形模具上，通过压延将复合微金属网格获得与凹形模具相同的形状；分离复合微金属网格，得到形状与凹形模具相同的电磁屏蔽罩。本发明电磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可实现大批量制备。
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公开(公告)号：CN106842606A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710222207.7
申请日：2017-04-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于随机激光散斑的纳米级结构光衍射器件。该结构光衍射器件的衍射结构单元只有几百纳米，甚至几十纳米，具有分辨率高，对比度高和视场角大等优势。在此基础上，本发明还提出了一种纳米级衍射器件的制作方法，即位相光场干涉光刻法。利用该方法可以制备出高品质的深度感知结构光衍射器件。相比于传统的光学元件加工技术，本发明提出的位相光场干涉光刻法具有分辨率高和位相匹配精度高等优势，与紫外投影曝光和电子束直写等光刻技术相比，本发明提出的光刻技术具有速度快、成本低等优势。
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公开(公告)号：CN106683795A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201710121197.8
申请日：2017-03-02
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: H01B13/00
CPC classification number: H01B13/00 , B05D2350/60 , H01B13/0026
Abstract: 本发明公开了一种透明导电膜的涂布方法及用于形成疏水疏油物质的装置，所述涂布方法包括以下步骤：步骤①：在基板的表面制作网格状凹槽；步骤②：在基板的凹槽面形成一层疏水疏油物质；步骤③：在凹槽内填充导电材料；步骤④：将多余的导电材料刮擦干净。本发明主要目的是解决刮涂之后的清洁问题。通过在凹槽及基板表面预留一定的防污染材料(疏水疏油的物质)，在刮涂过程中，导电材料就不会残留在基板的表面，从而不需要清洁，大大提高了效率，同时解决了由于清洁导致的划伤，异色，短路等问题。
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公开(公告)号：CN106547397A
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201610907841.X
申请日：2016-10-19
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041 , G06F2203/04103
Abstract: 一种透明导电膜的制作方法、透明导电膜和触控屏，制作方法包括：利用模具在透明绝缘衬底的一面上压印形成连续的凹槽；在透明绝缘衬底的一面上涂覆胶状物，利用模具对远离透明绝缘衬底的一面进行压印，使其固化后形成凹槽；向凹槽中填充导电材料，形成导电层，即内线路；在与导电层接触的一面形成外线路；按照预设图形对内线路和外线路去除不必要的导电材料，以形成绝缘通道和绝缘线路，完成透明导电膜的制作。本发明将丝网印刷与埋入式纳米压印相结合，统一的网格填充作为一个通用的模具，该模具可以适用于多个机种，只要根据不同的规格进行丝印和镭射即可，可以有效降低费用和开发周期。
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