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公开(公告)号：CN106646691B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201611125124.8
申请日：2016-12-09
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供了一种菲涅尔器件的制作方法，其包括以下步骤：1)图像3D建模；2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；3)通过等高投影或等宽投影进行像素微结构模拟；4)像素化拼接；5)通过光刻工艺至整个图像光刻完成；6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。本发明还提供了一种菲涅尔器件的制作装置。本发明与现有技术相比，可以实现任意形状的菲涅尔器件；且尺寸不受限制，通过拼版等工艺，可以做大尺寸的菲涅尔器件；且该方法降低了成本。
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公开(公告)号：CN108931851A
公开(公告)日：2018-12-04
申请号：CN201710388885.0
申请日：2017-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B60K35/00 , G02B27/01 , G02B27/0101 , B60K2370/334
Abstract: 一种抬头显示系统，包括纳米成像膜、挡风玻璃和投影装置，纳米成像膜包括多个像素，每个像素内设有纳米衍射光栅，纳米成像膜设置在挡风玻璃上，投影装置设置在纳米成像膜的焦距内，投影装置可将图像光投影到纳米成像膜上，纳米成像膜的各像素通过纳米衍射光栅反射衍射光，并将衍射光在纳米成像膜的前端汇聚成视点。本发明的抬头显示系统能够承接虚像，具有成像功能，简化了投影系统，并且成本低。本发明还涉及一种汽车。
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公开(公告)号：CN108790150A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN108333655A
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201810385935.4
申请日：2018-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/00
CPC classification number: G02B5/003
Abstract: 本发明涉及一种偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法，该偏振不敏感电磁吸收结构包括：金属光栅层，具有光栅凹槽；非金属填充介质，设置于所述光栅凹槽内；该制备方法包括如下步骤：S1：提供在其上形成有金属平面层的基底；S2：在所述金属平面层上形成光栅凹槽；S3：在所述光栅凹槽内填充非金属填充介质。本发明的偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法通过在金属光栅层上形成光栅凹槽，并在光栅凹槽内设置非金属填充介质，从而使其结构更为简单，提高了吸收效率，且针对不同偏振光的入射情况，均有较好的吸收效果。
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公开(公告)号：CN106556677B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201610959549.2
申请日：2016-10-27
Applicant: 苏州大学
IPC: G01N33/00 , C01B32/184
Abstract: 本发明公开了一种三维多孔石墨烯超薄膜气体传感器及其制备方法，经带负电多孔石墨烯分散液的制备、带正电多孔石墨烯分散液的制备、三维多孔石墨烯超薄膜的组装制备、三维多孔石墨烯超薄膜气体传感器的制备四个步骤实现传感器的制备。本发明所得到的多孔石墨烯超薄膜气敏传感器对DMMP气体分子具有极高的灵敏度。此制备方法工艺简单，适合于传感器的大量制备。
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公开(公告)号：CN107908086A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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公开(公告)号：CN105511074B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610004778.9
申请日：2016-01-06
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统，该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组，4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件，光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间，该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制，在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控，通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出，通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。
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公开(公告)号：CN105619819B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/268 , B29C64/245 , B33Y30/00
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN107481612A
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201710811318.1
申请日：2017-09-11
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G09F1/00
CPC classification number: G09F1/00
Abstract: 本发明公开一种防伪证卡及其制作方法，防伪证卡包括基层和表层，所述表层设有含防伪信息，所述基层与所述表层相结合的面为同一材料，两者通过加热层压方式熔融在一起形成整体结构，通过上述方式，本发明能够达到层间结合牢度好的效果。
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公开(公告)号：CN107436494A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201710851837.0
申请日：2017-09-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 一种3D显示装置，包括背光结构、二维图像显示器二维图像显示器和光场调制器，二维图像显示器设置于背光结构与光场调制器之间,光场调制器设置于二维图像显示器的显示面前方。本发明的3D显示装置能解决由于匹配间隙，导致光场调制器中的纳米像素与二维图像显示器上的像素对准误差问题。
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