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公开(公告)号：CN1727416A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN200510088416.4
申请日：2005-07-28
Applicant: 东芝泰格有限公司
CPC classification number: B41J11/002 , B05D3/067 , B05D3/108 , B41M7/0081 , B41M7/009
Abstract: 本发明提出了固化电磁辐射固化型液体合成物的方法，该合成物包含在酸存在时可聚合的溶剂，以及可溶解在溶剂中并在用电磁辐射照射时能够产生酸的光致酸发生剂。该方法包含：在记录介质上形成一层电磁辐射固化型液体合成物；以及将包括能被光致酸发生剂吸收的波长的电磁辐射照射到合成物层上以从光致酸发生剂中产生酸，从而固化合成物层；特征在于在形成电磁辐射固化型液体合成物层时以如下方式加热记录介质：记录介质的温度被提高至高于要传送到记录介质上的电磁辐射固化型液体合成物的温度。
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公开(公告)号：CN1621949A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN200410096141.4
申请日：2004-11-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/1685 , G03G15/0233 , Y10T428/24802 , Y10T428/2913
Abstract: 本发明提供一种电摄影导电性部件，以及具有该电摄影导电性部件的电摄影装置。所述电摄影导电性部件至少由热塑性树脂组合物形成，所述热塑性树脂组合物中含有热塑性树脂、导电性填充剂及导电性填充剂用分散剂，且所述导电性填充剂用分散剂为多元醇型非离子表面活性剂。
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公开(公告)号：CN1577114A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410058624.5
申请日：2004-07-23
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/04 , G03G5/047 , G03G5/071 , G03G5/073 , G03G5/147 , G03G5/14717 , G03G5/14734
Abstract: 本发明提供一种电子照相感光体，其具有支持体以及在该支持体上设有的感光层，其特征为该电子照相感光体表面的通用硬度值(HU)为150－220N/mm2，并且弹性变形率为50－65％，本发明还提供具有该电子照相感光体的处理盒和电子照相装置。
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公开(公告)号：CN1570774A
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：CN200410064024.X
申请日：2004-03-31
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 维陶塔斯·格陶蒂斯 , 马特·达斯凯维奇恩 , 埃德蒙达兹·蒙特里马斯 , 乔纳斯·西达拉维西厄斯 , 塔达斯·马利诺斯卡斯 , 兹比格纽·托卡斯基 , 纽斯雷拉·朱布兰 , 卡姆·W·劳
CPC classification number: C07D405/14 , C07D303/36 , C07D407/12 , G03G5/06 , G03G5/0612 , G03G5/0618 , G03G5/0625 , G03G5/0696
Abstract: 本发明涉及一种新型有机感光体，其包含导电基底和在该导电基底上的光导元件，该光导元件具有：(a)具有下式的电荷转移化合物见右式R1是芳香基，烷基，烯基，或杂环基；R2包含(N，N－二取代)芳基胺基；R3包含环氧基；R4是H，芳香基，烷基，烯基，或杂环基；和X是第一连接基团；和(b)电荷生成化合物。该环氧基能够直接或通过交联剂与聚合物内的官能团反应形成聚合的电荷转移化合物。相应的电子照相装置和成像方法也进行了描述。
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公开(公告)号：CN1510526A
公开(公告)日：2004-07-07
申请号：CN200310124805.9
申请日：2003-11-27
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03G5/0668 , G03G5/06 , G03G5/0698
Abstract: 本申请涉及改进的有机受光体，它包括导电基底、含有电荷产生化合物和电子转移化合物盐的光导电层。在一些方案中，光电导层包括含有电荷产生化合物的光导电层、和含有电子转移化合物盐的外涂层，其中光导电层在导电基底上，外涂层在光导电层上面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1490676A
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN03158942.1
申请日：2003-09-12
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G03G5/10
Abstract: 本发明的目的在于通过限制导电衬底的表面粗糙度来防止出现图像的干涉条纹，并且可以通过光学干涉测量法精确地测量层的厚度。设置在电子照相用感光体(10)中的导电衬底(11)的表面粗糙度轮廓最大高度Ry＝0.8～1.4μm、轮廓算术平均偏差Ra＝0.10～0.15μm、微观不平度十点高度Rz＝0.7～1.3μm和轮廓微观不平度的平均距离Sm＝5～30μm，并且峰数Pc＝60～100。在此电子照相用感光体(10)中，用于曝光的光束散射到可以避免干涉条纹的程度，并且在通过光学干涉测量法测量光敏层的厚度期间形成一种干涉图案，使得可以高精度地测量层的厚度。
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公开(公告)号：CN1140004C
公开(公告)日：2004-02-25
申请号：CN95118708.2
申请日：1995-10-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/0216 , G03G2215/00987
Abstract: 本发明公开了一种用于再造在一导电支撑件上具有至少两层的充电部件的工艺过程。该工艺涉及进行机械研磨以除去充电部件的至少一表层，然后在其上形成一层。而且说明了由本工艺所再造的充电部件与具有这种充电部件的盒式处理器。
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公开(公告)号：CN1086399C
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN98103997.9
申请日：1998-01-19
Applicant: 希巴特殊化学控股公司
Abstract: 式I、II或III的化合物其中X为二价基团，Y为C1-C6烷撑，环己撑或直接键，Ar1为如权利要求1所定义的芳族基团，R1和R2各自独立地为式基团，其中p为0或1，或式的基团，R3为氢，C1-C12烷基，C5-C12环烷基或苯基-C1-C3烷基，R4为C1-C12烷基，C5-C12环烷基，苯基-C1-C3烷基或苯基，或式I、II或III化合物的酸加成盐可在碱交联组合物中用作光敏碱催化剂。
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公开(公告)号：CN1242569A
公开(公告)日：2000-01-26
申请号：CN99110608.3
申请日：1999-07-19
Applicant: 太阳诱电株式会社
CPC classification number: G11B7/2495 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/2534 , G11B7/2542 , G11B7/2595 , G11B2007/24612 , Y10S428/913 , Y10S430/146 , Y10T428/21
Abstract: 本发明系提供一种光信息记录介质,系在基板上具有含色素层之光干涉层的光信息记录介质,该色素层含有以一般式[化1]表示之三次甲基系花青色素,且该光干涉层可藉由选自波长620nm～690nm波长领域之激光进行记录及再生。
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