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公开(公告)号:CN101685776A
公开(公告)日:2010-03-31
申请号:CN200810223613.6
申请日:2008-09-27
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/28 , H01L21/285 , H01L21/461 , H01L33/00 , H01S5/00
Abstract: 本发明公开了一种改善ZnO薄膜欧姆接触的方法,该方法是在沉积金属电极之前,利用氢等离子体处理ZnO薄膜的电极接触区域,然后在经氢等离子体处理的ZnO薄膜电极接触区域沉积双层金属电极,形成欧姆接触。由于氢等离子体处理导致氢扩散进入ZnO薄膜,提高了接触区域ZnO薄膜的载流子浓度,减小了接触区域ZnO薄膜的电阻率,从而可以显著降低ZnO薄膜和金属的接触电阻,改善其欧姆接触特性。此外,在MS技术中,由于溅射出的粒子具有较高能量,使得ZnO/Ti界面原子能充分混合,可以提高Ti/Au接触在ZnO薄膜上的粘附性。利用该发明最终可以得到粘附良好、接触电阻低的欧姆接触,为实现ZnO薄膜电子器件奠定了基础。
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公开(公告)号:CN101442089A
公开(公告)日:2009-05-27
申请号:CN200710177789.8
申请日:2007-11-21
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明一种增强氧化锌(ZnO)薄膜蓝光发射的方法,涉及半导体技术,该方法制备ZnO/Ag复合结构薄膜,利用Ag表面等离激元与ZnO带间发射间的共振耦合,使ZnO带间辐射复合速率加快;同时借助具有一定粗糙度的Ag薄膜表面将等离激元耦合成光,以达到增强ZnO薄膜蓝光发射的目的。通过ZnO/Ag复合结构薄膜和ZnO薄膜的光致发光性能对比,发现Ag表面等离激元的参与能将ZnO带间蓝光发射的强度提高约50倍,同时有效地抑制了ZnO薄膜中缺陷导致的绿光发射。该方法不仅实现了ZnO蓝光发射增强,而且也能广泛应用于其它半导体发光材料以及其它类型的发光体。
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公开(公告)号:CN1917152A
公开(公告)日:2007-02-21
申请号:CN200510090638.X
申请日:2005-08-18
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L21/3205 , H01L21/283 , C23C14/34
Abstract: 本发明涉及半导体技术领域,特别是一种在立方氮化硼薄膜上制备良好欧姆接触的方法。利用脉冲激光沉积(PLD)技术在c-BN薄膜上制备Ti/Au双层接触,在PLD技术中,由于激光溅射出的粒子具有较高能量(>100eV),使得c-BN/Ti界面原子能充分混合,从而大大提高了Ti/Au接触在c-BN薄膜上的粘附性。进一步的高温退火使Ti/c-BN薄膜界面合金化,最终得到粘附良好、接触电阻低的欧姆接触。该发明不仅为实现c-BN基电子器件奠定了基础,也能应用于其他半导体材料欧姆接触的制备。
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